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Si原子在CeO_2(111)表面吸附与迁移的第一性原理研究 被引量:1
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作者 贾慧灵 任保根 +3 位作者 刘学杰 贾延琨 李梅 吴锦绣 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第7期1214-1221,共8页
为探究Si原子在CeO_2(111)表面吸附的微观行为,采用第一性原理的方法研究了Si原子在CeO_2(111)表面的吸附作用、电子结构和迁移过程,计算了Si原子在CeO2(111)表面的吸附能,最稳定及次稳定吸附位置的电子态密度与电荷密度分布、迁移激活... 为探究Si原子在CeO_2(111)表面吸附的微观行为,采用第一性原理的方法研究了Si原子在CeO_2(111)表面的吸附作用、电子结构和迁移过程,计算了Si原子在CeO2(111)表面的吸附能,最稳定及次稳定吸附位置的电子态密度与电荷密度分布、迁移激活能。计算结果表明:Si原子最易吸附于基底表层的O原子上,其中O桥位(Obri)吸附作用最强,O顶位(Ot)和O三度位(Oh)吸附强度次之。Si原子仅对其最邻近的表层O原子结构影响较大,这与Si原子及其最邻近的O原子间电荷密度重叠程度增强的结果一致。Si原子最易围绕着Ot位从Obri位向Oh位迁移,迁移所需激活能为0.849eV。 展开更多
关键词 SI CEO2 吸附 电子结构 迁移
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