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发展中的集成光学
1
作者
许少龙
程泰平
《四川激光》
1981年第1期1-6,共6页
本文简要地介绍了集成光学的发展概况。着重叙述了薄膜光波导形式的部分元器件和集成光路的进展。
关键词
集成光学
发展概况
集成光路
元器件
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职称材料
激光退火产生磁泡
2
作者
许少龙
《四川激光》
1980年第2期38-38,共1页
美国IBM公司watson研究中心的Hodgson小组，利用激光退火工艺，在掺镓钇铁榴石薄膜中产生了磁泡。当其受到外加磁场作用时，在中央退火区的每条暗线便缩小形成直径约为3微米的磁畴。激光退火产生的磁泡，比起其他方法产生的磁泡要更小...
美国IBM公司watson研究中心的Hodgson小组，利用激光退火工艺，在掺镓钇铁榴石薄膜中产生了磁泡。当其受到外加磁场作用时，在中央退火区的每条暗线便缩小形成直径约为3微米的磁畴。激光退火产生的磁泡，比起其他方法产生的磁泡要更小、更稳定。
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关键词
激光退火
磁泡
美国IBM公司
研究中心
退火工艺
磁场作用
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职称材料
题名
发展中的集成光学
1
作者
许少龙
程泰平
机构
一四四四研究所
出处
《四川激光》
1981年第1期1-6,共6页
文摘
本文简要地介绍了集成光学的发展概况。着重叙述了薄膜光波导形式的部分元器件和集成光路的进展。
关键词
集成光学
发展概况
集成光路
元器件
分类号
TN25 [电子电信—物理电子学]
TN40 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
激光退火产生磁泡
2
作者
许少龙
出处
《四川激光》
1980年第2期38-38,共1页
文摘
美国IBM公司watson研究中心的Hodgson小组，利用激光退火工艺，在掺镓钇铁榴石薄膜中产生了磁泡。当其受到外加磁场作用时，在中央退火区的每条暗线便缩小形成直径约为3微米的磁畴。激光退火产生的磁泡，比起其他方法产生的磁泡要更小、更稳定。
关键词
激光退火
磁泡
美国IBM公司
研究中心
退火工艺
磁场作用
分类号
TN304.26 [电子电信—物理电子学]
O482.51 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
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1
发展中的集成光学
许少龙
程泰平
《四川激光》
1981
0
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职称材料
2
激光退火产生磁泡
许少龙
《四川激光》
1980
0
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职称材料
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