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电流密度影响下镍钨合金电沉积层的组成、结构和形貌
被引量：
10
1
作者
杨防祖
曹刚敏
+3 位作者
解建云
郑雪清
许书楷
周绍民
《厦门大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
1999年第1期56-60,共5页
采用分光光度法、Ｘ射线衍射和金相显微镜等方法研究在焦磷酸盐体系中，电流密度影响下所获得的Ｎｉ－Ｗ合金电沉积层的组成、结构和表面形态．结果表明，随着电流密度的提高，合金沉积层中的Ｗ含量增大；形成置换固溶体的合金沉积层晶...
采用分光光度法、Ｘ射线衍射和金相显微镜等方法研究在焦磷酸盐体系中，电流密度影响下所获得的Ｎｉ－Ｗ合金电沉积层的组成、结构和表面形态．结果表明，随着电流密度的提高，合金沉积层中的Ｗ含量增大；形成置换固溶体的合金沉积层晶格参数涨大、晶格畸变度增大、而显微晶粒尺寸减小；合金沉积层的电结晶生长形态均呈现整齐的团粒状生长特征．讨论了上述实验结果．
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关键词
电沉积层
形态
镍钨合金
形貌
电流密度
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职称材料
题名
电流密度影响下镍钨合金电沉积层的组成、结构和形貌
被引量：
10
1
作者
杨防祖
曹刚敏
解建云
郑雪清
许书楷
周绍民
机构
厦门大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室物理化学研究所
出处
《厦门大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
1999年第1期56-60,共5页
基金
国家自然科学基金
文摘
采用分光光度法、Ｘ射线衍射和金相显微镜等方法研究在焦磷酸盐体系中，电流密度影响下所获得的Ｎｉ－Ｗ合金电沉积层的组成、结构和表面形态．结果表明，随着电流密度的提高，合金沉积层中的Ｗ含量增大；形成置换固溶体的合金沉积层晶格参数涨大、晶格畸变度增大、而显微晶粒尺寸减小；合金沉积层的电结晶生长形态均呈现整齐的团粒状生长特征．讨论了上述实验结果．
关键词
电沉积层
形态
镍钨合金
形貌
电流密度
Keywords
Ni W alloy, Electrodeposit, Structure, Morphology
分类号
TQ153.2 [化学工程—电化学工业]
TG174.44 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
电流密度影响下镍钨合金电沉积层的组成、结构和形貌
杨防祖
曹刚敏
解建云
郑雪清
许书楷
周绍民
《厦门大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
1999
10
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参考文献
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