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离心法曲面涂胶的胶层厚度研究
被引量：
3
1
作者
解孟涛
刘俊标
+2 位作者
王鹏飞
张利新
韩立
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第1期71-77,共7页
曝光工艺中经离心涂敷后抗蚀剂胶层的均匀性对曝光线宽有很大的影响。为了得到高速旋转下抗蚀剂胶体在凹面衬底上所形成膜层厚度的均匀性,在凹面衬底上建立了非牛顿流体微元经离心旋转的流体动力学模型。根据对应的边界条件、非牛顿流...
曝光工艺中经离心涂敷后抗蚀剂胶层的均匀性对曝光线宽有很大的影响。为了得到高速旋转下抗蚀剂胶体在凹面衬底上所形成膜层厚度的均匀性,在凹面衬底上建立了非牛顿流体微元经离心旋转的流体动力学模型。根据对应的边界条件、非牛顿流体的本构方程和连续性方程,推导并得到了流体性质、曲面面形、旋转速度和时间等因素与最终厚度的关系式。使用流变仪对950 K PMMA C 2%抗蚀剂的流体性质进行标定,在凹面衬底上以旋转速度为单一变量进行离心涂胶实验,使用光谱椭圆偏振仪测量离心后随矢量半径变化的胶体厚度,并与理论推导进行对比。实验结果表明:旋转速度在2000 r/min时,理论厚度为267 nm,实验所测厚度为230 nm,偏差比率为13.86%;旋转速度在3000 r/min时,理论厚度为178 nm,实验所测厚度为172 nm,偏差比率为3.37%。考虑到涂胶后,前烘工艺会进一步减小胶层厚度,偏差在正常范围内。本文建立的数学模型具有较好的预见性,可以对胶体经旋转离心后的均匀性提供理论指导。
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关键词
电子束曝光
离心涂胶
非牛顿流体
胶层厚度
曲面
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职称材料
电子束曲面直写的Monte Carlo仿真与实验
被引量：
1
2
作者
解孟涛
刘俊标
+2 位作者
王鹏飞
张雨露
韩立
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第18期2232-2240,共9页
电子束直写技术具有分辨率高、操作简单等优势,是制备微纳米曲面器件的一种理想工具。光刻胶的吸收能量沉积密度分布直接决定了直写后图形的精度和分辨率,由于曲面直写时吸收能量沉积密度分布非对称,因而现有的平面直写工艺不再适用于...
电子束直写技术具有分辨率高、操作简单等优势,是制备微纳米曲面器件的一种理想工具。光刻胶的吸收能量沉积密度分布直接决定了直写后图形的精度和分辨率,由于曲面直写时吸收能量沉积密度分布非对称,因而现有的平面直写工艺不再适用于曲面直写。本文采用基于立方体计算微元的Monte Carlo方法计算不同直写参数变化下的吸收能量沉积密度分布。仿真结果表明:随着入射能量或入射角度的增加,直写点的椭圆度也在增加;而减小束斑和薄胶层可以提升曲面直写的分辨率。实验结果表明:在其他参数不变下,以入射能量(5、10、15 keV)和入射角度(5°、10°、15°)进行单一变量实验,直写点的长宽比分别为1.458、2.323、2.924和1.014、1.113、1.173。可以看出,入射能量对椭圆度地增加更为明显。实验与仿真有了较好地验证,本文结果为曲面直写工艺参数选择提供理论依据。
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关键词
电子束直写
Monte
Carlo模拟
吸收能量沉积密度
散射截面
曲面器件
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职称材料
题名
离心法曲面涂胶的胶层厚度研究
被引量：
3
1
作者
解孟涛
刘俊标
王鹏飞
张利新
韩立
机构
中国科学院电工研究所
中国科学院大学
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第1期71-77,共7页
基金
中国科学院科研仪器设备研制项目(No.GJJSTD20200003)
广东省重点领域研发计划资助项目(No.2020B0101320002)。
文摘
曝光工艺中经离心涂敷后抗蚀剂胶层的均匀性对曝光线宽有很大的影响。为了得到高速旋转下抗蚀剂胶体在凹面衬底上所形成膜层厚度的均匀性,在凹面衬底上建立了非牛顿流体微元经离心旋转的流体动力学模型。根据对应的边界条件、非牛顿流体的本构方程和连续性方程,推导并得到了流体性质、曲面面形、旋转速度和时间等因素与最终厚度的关系式。使用流变仪对950 K PMMA C 2%抗蚀剂的流体性质进行标定,在凹面衬底上以旋转速度为单一变量进行离心涂胶实验,使用光谱椭圆偏振仪测量离心后随矢量半径变化的胶体厚度,并与理论推导进行对比。实验结果表明:旋转速度在2000 r/min时,理论厚度为267 nm,实验所测厚度为230 nm,偏差比率为13.86%;旋转速度在3000 r/min时,理论厚度为178 nm,实验所测厚度为172 nm,偏差比率为3.37%。考虑到涂胶后,前烘工艺会进一步减小胶层厚度,偏差在正常范围内。本文建立的数学模型具有较好的预见性,可以对胶体经旋转离心后的均匀性提供理论指导。
关键词
电子束曝光
离心涂胶
非牛顿流体
胶层厚度
曲面
Keywords
electron beam lithography
spin-coating
non-Newtonian fluid
layer thickness
curved surfaces
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
电子束曲面直写的Monte Carlo仿真与实验
被引量：
1
2
作者
解孟涛
刘俊标
王鹏飞
张雨露
韩立
机构
中国科学院电工研究所
中国科学院大学
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第18期2232-2240,共9页
基金
中国科学院科研仪器设备研制项目(No.GJJSTD20200003)
广东省重点领域研发计划项目(No.2020B0101320002)。
文摘
电子束直写技术具有分辨率高、操作简单等优势,是制备微纳米曲面器件的一种理想工具。光刻胶的吸收能量沉积密度分布直接决定了直写后图形的精度和分辨率,由于曲面直写时吸收能量沉积密度分布非对称,因而现有的平面直写工艺不再适用于曲面直写。本文采用基于立方体计算微元的Monte Carlo方法计算不同直写参数变化下的吸收能量沉积密度分布。仿真结果表明:随着入射能量或入射角度的增加,直写点的椭圆度也在增加;而减小束斑和薄胶层可以提升曲面直写的分辨率。实验结果表明:在其他参数不变下,以入射能量(5、10、15 keV)和入射角度(5°、10°、15°)进行单一变量实验,直写点的长宽比分别为1.458、2.323、2.924和1.014、1.113、1.173。可以看出,入射能量对椭圆度地增加更为明显。实验与仿真有了较好地验证,本文结果为曲面直写工艺参数选择提供理论依据。
关键词
电子束直写
Monte
Carlo模拟
吸收能量沉积密度
散射截面
曲面器件
Keywords
electron beam direct writing
Monte Carlo simulation
absorption energy deposition density
scattering cross section
curved-surface electronics
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
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1
离心法曲面涂胶的胶层厚度研究
解孟涛
刘俊标
王鹏飞
张利新
韩立
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022
3
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职称材料
2
电子束曲面直写的Monte Carlo仿真与实验
解孟涛
刘俊标
王鹏飞
张雨露
韩立
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022
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