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非真空坩埚下降法生长CsI(Tl)晶体的闪烁性能 被引量:1
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作者 任国浩 陈晓峰 +3 位作者 薛炫萍 李中波 沈勇 陆晟 《核电子学与探测技术》 CAS CSCD 北大核心 2006年第4期385-389,共5页
研究了用非真空铂坩埚下降法生长的CsI(Tl)晶体的在紫外和γ射线激发下的光致发光和光衰减特征,探索了CsI(Tl)晶体的发光强度和发光不均匀性与Tl离子含量和分布之间的关系以及改善晶体发光均匀性的措施。并对CsI(Tl)晶体在γ射线辐照下... 研究了用非真空铂坩埚下降法生长的CsI(Tl)晶体的在紫外和γ射线激发下的光致发光和光衰减特征,探索了CsI(Tl)晶体的发光强度和发光不均匀性与Tl离子含量和分布之间的关系以及改善晶体发光均匀性的措施。并对CsI(Tl)晶体在γ射线辐照下光输出随积分时间和辐照剂量的变化做了分析和讨论。实验表明,用这种方法所生长的CsI(Tl)晶体的发射波长、衰减时间和辐照硬度与其他方法生长的同类晶体相同。 展开更多
关键词 CSI(TL)晶体 光输出 Tl离子 非均匀性 辐照硬度
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