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汽车装配线MES实时数采和控制系统的实现及优化 被引量:5
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作者 蔡潇雨 陈雷 《汽车工艺与材料》 2012年第7期17-21,共5页
以某汽车部件装配线为对象设计制造执行系统(MES)的实时数采和控制系统。数据采集方案是通过工业以太网接口读取设备数据,实现实时数采控制与高度集成化。针对西门子不同型号的PLC的不同网络通讯软硬件设计和组态,成功建立生产线服务器(... 以某汽车部件装配线为对象设计制造执行系统(MES)的实时数采和控制系统。数据采集方案是通过工业以太网接口读取设备数据,实现实时数采控制与高度集成化。针对西门子不同型号的PLC的不同网络通讯软硬件设计和组态,成功建立生产线服务器(Line Server)与每一工位的网络通讯。在实现主动控制时,在可编程逻辑控制器(PLC)中设置通用控制位用于状态读写、标记控制位用于信号确认及各种验证信息的标记位和数据位,将所有控制囊括在PLC的程序中,协同Line Server的数据库查询功能。本地网络可以完全自主地完成流程控制,达到了主动控制的目的,简化了生产监管的流程,同时避免了质量不合格、物料损失、产品数据混乱等问题。 展开更多
关键词 汽车 装配线 MES 数据采集 控制系统
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白光干涉测量系统的测量不确定度评定 被引量:9
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作者 蔡潇雨 魏佳斯 +3 位作者 孙恺欣 刘娜 张学典 庄松林 《计量学报》 CSCD 北大核心 2021年第6期731-737,共7页
白光干涉测量系统(white-light interference system,WLIS)广泛用于微纳米表面形貌的精密测量,其测量不确定度评定是研究白光干涉测量系统计量特性的一项重要工作。基于微纳米线间隔和台阶,建立了WLIS测量表面形貌时的测量模型,明确了... 白光干涉测量系统(white-light interference system,WLIS)广泛用于微纳米表面形貌的精密测量,其测量不确定度评定是研究白光干涉测量系统计量特性的一项重要工作。基于微纳米线间隔和台阶,建立了WLIS测量表面形貌时的测量模型,明确了测量不确定度来源;以5000 nm的线间隔和180 nm的台阶高度为例,利用WLIS进行了测量,并分析WLIS的测量重复性、光学组件特性、传感器特性、运动模块性能、测试方法及环境等因素产生的不确定度分量,最终评定该WLIS测量线间隔和台阶高度的合成测量不确定度分别为21 nm和0.4 nm。对WLIS的不确定度评定确保了其测量结果的准确性、溯源性,并提出了提高系统整体计量特性的途径。 展开更多
关键词 计量学 表面形貌测量 微纳米测量 白光干涉 线间隔 台阶高度 不确定度
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纳米尺度标准样片光学表征方法的研究 被引量:8
3
作者 李源 雷李华 +3 位作者 高婧 傅云霞 蔡潇雨 吴俊杰 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2012年第6期406-412,共7页
重点研究了纳米尺度标准样片的光学表征方法。采用基于纳米测量机(NMM)的激光聚焦传感器(LFS)和扫描白光干涉传感器(SWLIS)分别对平面尺度的标准样片和台阶标准样片进行了测量、分析与比较。实验结果表明,利用该纳米测量机LFS对标定值为... 重点研究了纳米尺度标准样片的光学表征方法。采用基于纳米测量机(NMM)的激光聚焦传感器(LFS)和扫描白光干涉传感器(SWLIS)分别对平面尺度的标准样片和台阶标准样片进行了测量、分析与比较。实验结果表明,利用该纳米测量机LFS对标定值为3μm的TGZ1一维栅格样片进行测量,其扩展不确定度为4.2 nm,实现了精确表征。利用SWLIS测量方法对标定值为49.217μm的SHS8-50.0高台阶标准样板进行测量,测量不确定度分析结果为0.065 7μm,实现了采用光学检测技术跨尺度对纳米尺度精密器件和结构进行表征。扩大了基于纳米测量机光学表征方法的应用范围,有利于纳米几何量量值溯源体系的建立。 展开更多
关键词 纳米尺度标准样片 光学表征方法 跨尺度 镀膜技术 表面粗糙度
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多维栅格标准样板的制备与表征(英文) 被引量:6
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作者 雷李华 蔡潇雨 +4 位作者 魏佳斯 孟凡娇 傅云霞 张馨尹 李源 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2019年第5期42-48,共7页
栅格标准样板作为微纳米几何量量值溯源体系中的重要组成部分,是纳米科技发展的基础保障。为了实现微纳米尺寸栅格结构有效区域的快速循迹与校准,文中设计了一种便于快速定位有效区域并栅格结构正交扫描方向的循迹结构。为了实现不同精... 栅格标准样板作为微纳米几何量量值溯源体系中的重要组成部分,是纳米科技发展的基础保障。为了实现微纳米尺寸栅格结构有效区域的快速循迹与校准,文中设计了一种便于快速定位有效区域并栅格结构正交扫描方向的循迹结构。为了实现不同精度、尺寸范围的校准需求,在同一基板上实现了多维、多参数的横向栅格标准样板的结构设计与集成。使用计量型纳米测量机(NMM)对微纳米栅格标准样板测量误差进行了分析与评价,以实现标准样板的溯源性表征。实验结果表明,栅格标准样板具有良好的均匀性、准确性以及稳定性,验证了研制的栅格标准样板能作为一种理想的实物标准运用于纳米几何量量值溯源体系。 展开更多
关键词 栅格标准样板 微纳米 快速循迹 量值溯源
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基于变速扫描技术的大尺寸台阶测量(英文) 被引量:3
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作者 雷李华 李源 +3 位作者 蔡潇雨 魏佳斯 傅云霞 邵力 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2017年第7期200-207,共8页
为了提高大尺寸台阶结构的单边测量精度、缩短测量时间,基于变速扫描技术,并利用傅里叶变换提取法及单边台阶评价算法进行扫描干涉信号的处理,提出并搭建了具有变速扫描功能的白光干涉测量系统。并且利用该系统对标称值为9.976±0.... 为了提高大尺寸台阶结构的单边测量精度、缩短测量时间,基于变速扫描技术,并利用傅里叶变换提取法及单边台阶评价算法进行扫描干涉信号的处理,提出并搭建了具有变速扫描功能的白光干涉测量系统。并且利用该系统对标称值为9.976±0.028μm的台阶标准样板进行了测量,10次重复性测量结果为9.971μm,标准偏差量为0.007μm,测量时间仅为35 s,远小于常规扫描方法的222 s,大大缩短了测量时间,因此说明了该系统在大尺寸台阶结构测量中,具有较高的精确性与高效性。 展开更多
关键词 白光干涉 变速扫描 台阶标准样板
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基于显微视觉的微球圆度测量方法研究 被引量:7
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作者 陈厚瑞 蔡潇雨 +2 位作者 魏佳斯 李源 于志豪 《计量学报》 CSCD 北大核心 2019年第5期770-775,共6页
利用显微视觉技术结合优化算法对微球的圆度进行自动测量。利用测量显微镜CCD相机采集微球图像,基于最大信息熵原理对图像增强,通过梯度非极大值抑制迭代算法分割图像,提取微球轮廓后进行最小二乘圆拟合,获得微球的圆度参数。该方法避... 利用显微视觉技术结合优化算法对微球的圆度进行自动测量。利用测量显微镜CCD相机采集微球图像,基于最大信息熵原理对图像增强,通过梯度非极大值抑制迭代算法分割图像,提取微球轮廓后进行最小二乘圆拟合,获得微球的圆度参数。该方法避免因滤波后微球目标边缘信息的丢失造成的检测精度降低。通过对0.5mm微球圆度测量实验证明:微球目标轮廓检测与提取的方法可以有效地抑制噪声干扰的影响,高效率实现目标边缘的准确定位;采用该方法获得的微球圆度值与标定微球圆度值之间的相对误差在0.17%之内,能够达到对微球圆度有效检测的目的。 展开更多
关键词 计量学 微球 显微视觉 圆度 边缘检测
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可循迹纳米台阶标准样版的制备与表征 被引量:6
7
作者 曲金成 雷李华 +5 位作者 李锁印 蔡潇雨 魏佳斯 赵军 韩志国 李源 《微纳电子技术》 北大核心 2017年第12期840-846,共7页
介绍了纳米几何量量值传递中纳米标准样版的计量与溯源特性。分析了微纳米测量仪器在纳米标准样版几何参量校准中对标准样版循迹结构的具体需求。设计了标准值为60 nm,具有可循迹结构的纳米台阶标准样版。为了实现高精度、溯源性表征,... 介绍了纳米几何量量值传递中纳米标准样版的计量与溯源特性。分析了微纳米测量仪器在纳米标准样版几何参量校准中对标准样版循迹结构的具体需求。设计了标准值为60 nm,具有可循迹结构的纳米台阶标准样版。为了实现高精度、溯源性表征,基于计量型纳米测量仪(NMM),结合多种定位测量方法,对加工的纳米台阶标准样版进行测量与评价,并对其开展区域均匀性和长时间稳定性实验。实验结果表明,制备的台阶标准样版高度值与设计值基本一致,设计的循迹结构能有效地协助电荷耦合器件(CCD)实现快速循迹与定位,且采用溅射镀膜工艺优化了标准样版表面结构的特性,使多种定位测量方法的测量重复性标准偏差均小于1 nm。 展开更多
关键词 量值传递 刻蚀工艺 标准样版 纳米测量仪(NMM) 溅射镀膜工艺
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基于改进三点测量法的圆径测量研究 被引量:5
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作者 钟亦林 吴恩启 +2 位作者 蔡潇雨 魏佳斯 雷李华 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2019年第5期199-204,共6页
三点测量圆度误差分离技术被广泛应用于工件形状的圆度误差和电机旋转的回转误差的分离算法中。而圆度误差能得以准确分离的关键在于合理配置三个位移传感器测头的安装角度,从而避免传递函数的分母为零的情况出现。然而,在具体实施过程... 三点测量圆度误差分离技术被广泛应用于工件形状的圆度误差和电机旋转的回转误差的分离算法中。而圆度误差能得以准确分离的关键在于合理配置三个位移传感器测头的安装角度,从而避免传递函数的分母为零的情况出现。然而,在具体实施过程中,位移传感器测头的角度安装误差是必然存在的,这就使得分析这一角度安装误差带来的影响变得尤为重要。基于经典的三点测量法模型,提出一种新的分析位移传感器测头的角度安装误差的模型。以三点测量法圆度测量中的圆径结果为目标,根据实际工况下的各种参数设置,定量分析了位移传感器测头的角度安装误差对最终结果的影响程度。最后,使用电容位移传感器开展工件外圆的圆径测量实验研究,确认了文中误差分析的有效性,圆径测量的重复性精度可以达到2μm以下。 展开更多
关键词 三点测量法 圆径 角度安装误差 位移传感器
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基于小波包络提取法的白光干涉测量系统 被引量:4
9
作者 简黎 雷李华 +3 位作者 李东升 孙晓光 蔡潇雨 李源 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2015年第9期586-591,610,共7页
为实现对微纳尺寸器件的非接触、无损伤的场式测量,基于纳米测量机(NMM)搭建了白光干涉测头。对测量系统的横向、纵向测量范围及分辨率进行了研究。测量系统集成了Michelson显微干涉物镜,并通过NMM的高精度定位平台带动被测样品进行垂... 为实现对微纳尺寸器件的非接触、无损伤的场式测量,基于纳米测量机(NMM)搭建了白光干涉测头。对测量系统的横向、纵向测量范围及分辨率进行了研究。测量系统集成了Michelson显微干涉物镜,并通过NMM的高精度定位平台带动被测样品进行垂直扫描,使用CCD相机采集干涉图像,小波包络提取法提取干涉信号包络,定位相干峰位置以获取被测样品表面形貌。实验分别测试了44 nm的纳米级台阶及10μm的微米级台阶,同时测试墨盒薄膜上数字‘232’以验证系统测量微纳器件的能力。结果表明搭建的白光干涉系统结合小波包络提取法能够用于微纳尺寸器件高精度、快速的测量。 展开更多
关键词 白光干涉法 纳米测量机 小波包络提取法 台阶高度评价 微纳米计量
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超精密表面形貌光学测量系统 被引量:4
10
作者 邵杨锋 傅云霞 +3 位作者 雷李华 李源 蔡潇雨 李东升 《微纳电子技术》 北大核心 2016年第10期679-684,690,共7页
为了解决实际测量中单一测量方法存在的局限性,结合白光干涉测量技术与共聚焦测量技术,通过紧凑型部分共光路结构原则,设计并搭建了一套超精密表面形貌光学测量系统,实现微纳米几何形貌的三维重构与测量。基于C#语言与DirectX11开发组件... 为了解决实际测量中单一测量方法存在的局限性,结合白光干涉测量技术与共聚焦测量技术,通过紧凑型部分共光路结构原则,设计并搭建了一套超精密表面形貌光学测量系统,实现微纳米几何形貌的三维重构与测量。基于C#语言与DirectX11开发组件,开发了上位机执行软件,实现了两种光学测量模式下硬件的协调控制及纳米标准样板表面形貌的三维重构。对台阶高度标定值为(98.8±0.6)nm的台阶标准样板进行测量,实验表明:用白光干涉测量模式和共聚焦测量模式分别实现了对台阶样板的大范围快速测量和小范围精密测量,10次测量的平均值分别为100.5和99.8 nm,标准差均小于2 nm,说明该系统能较好地满足微纳器件超精密表面形貌测量的要求。 展开更多
关键词 白光干涉测量 共聚焦测量 协调控制 三维重构 表面形貌测量
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基于SIFT图像拼接算法的标准样板测量技术 被引量:2
11
作者 程纪榕 赵军 +1 位作者 蔡潇雨 邵力 《微纳电子技术》 北大核心 2019年第1期71-77,共7页
为了在使用高倍物镜测量标准样板时获得高分辨率的样本整体区域信息,提出了一种基于尺度不变特征变换(SIFT)图像拼接算法的标准样板测量技术。首先通过高倍物镜获取局部三维结构,将其转化为二维灰度图像;然后采用SIFT和RANSAC算法得到... 为了在使用高倍物镜测量标准样板时获得高分辨率的样本整体区域信息,提出了一种基于尺度不变特征变换(SIFT)图像拼接算法的标准样板测量技术。首先通过高倍物镜获取局部三维结构,将其转化为二维灰度图像;然后采用SIFT和RANSAC算法得到准确的特征点;最后采用加权平均融合算法得到完整图像,重构整体样板三维结构,并利用ISO5436-1∶2000对标准样板台阶高度进行评价。实验对100和400 nm两种高度的标准样板进行了测量和拼接,并对拼接后的台阶高度进行评价,测量均值分别为100.3和398.9 nm,实验表明该技术能准确还原标准样板中台阶的高度,有效扩大了标准样板形貌重构的范围。 展开更多
关键词 微纳米测量 图像拼接 标准样板 台阶高度标准 形貌重构
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白光干涉测量控制系统的集成化设计 被引量:1
12
作者 周勇 蔡潇雨 魏佳斯 《半导体技术》 CAS 北大核心 2021年第9期739-743,共5页
微纳技术的发展带动了微纳米检测计量仪器的发展,微纳米测量仪器的智能化、集成化和小型化是仪器研发中的共性问题。在白光干涉测量系统中,设计了基于STM32处理器的控制系统,该系统将原本分立的光源控制、相机控制和样品台控制等控制模... 微纳技术的发展带动了微纳米检测计量仪器的发展,微纳米测量仪器的智能化、集成化和小型化是仪器研发中的共性问题。在白光干涉测量系统中,设计了基于STM32处理器的控制系统,该系统将原本分立的光源控制、相机控制和样品台控制等控制模块集成构建于一台控制器。针对白光干涉测量系统的控制需求设计开发了驱动电路、通信电路、光源控制电路和相机触发电路等。设计优化了信号同步、光源控制策略,从而提高了扫描同步性和测量稳定性。控制系统的集成化设计有效提高了光学三维轮廓仪的小型化和集成性,降低了仪器的制造和维护成本。 展开更多
关键词 白光干涉法 控制系统 集成化设计 STM32处理器 微纳测量
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Development of MEMS-based micro capacitive tactile probe
13
作者 雷李华 李源 +4 位作者 范国芳 吴俊杰 简黎 蔡潇雨 李同保 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第11期646-650,共5页
In this paper, a micro capacitive sensor with nanometer resolution is presented for ultra-precision measurement of micro components, which is fabricated by the MEMS (micro electromechanical systems) non-silicon tech... In this paper, a micro capacitive sensor with nanometer resolution is presented for ultra-precision measurement of micro components, which is fabricated by the MEMS (micro electromechanical systems) non-silicon technique. Based on the sensor, a micro capacitive tactile probe is constructed by stylus assembly and packaging design for dimension metrology on micro/nano scale, in which a data acquiring system is developed with AD7747. Some measurements of the micro capacitive tactile probe are performed on a nano positioning and measuring machine (NMM). The measurement results show good linearity and hysteresis with a range of 11.6 μm and resolution of better than 5 nm. Hence, the micro capacitive tactile probe can be integrated on NMM to realize measurement of micro structures with nanometer accuracy. 展开更多
关键词 micro tactile probe micro capacitive sensor MEMS nano measuring machine
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Nano-Traceability Study of a Cr Standard Grating Fabricated by Laser-Focused Atomic Deposition
14
作者 雷李华 李源 +4 位作者 范国芳 翁浚婧 邓晓 蔡潇雨 李同保 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2014年第7期46-49,共4页
A dimensional artifact is developed, which is a chromium (Cr) deposition grating fabricated by a laser-focused atomic deposition technique. The mean pitch of the grating is measured by using a metrological atomic fo... A dimensional artifact is developed, which is a chromium (Cr) deposition grating fabricated by a laser-focused atomic deposition technique. The mean pitch of the grating is measured by using a metrological atomic force microscope with a large range, where a series of reference signs have been performed to locate the deposition area. Cosine error of the measurement result is analyzed and eliminated by the iterative angle calibration. The measurement result shows that the mean pitch of the grating is 212.66 ±0.02nm, which is very close to half of the standing laser wavelength (λ = 425.55 nm). This means that the grating has traceability with high accuracy and can substitute the laser interference technology for instrument calibration. Moreover, using the Cr deposition grating as a nano standard can shorten the traceability chain and improve the practical application. 展开更多
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