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耐反应离子刻蚀的紫外激光光致抗蚀剂的研究
被引量：
1
1
作者
金桂林
金晓英
+2 位作者
施善定
蔡根寿
黄均文
《激光杂志》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1994年第2期65-69,共5页
以芳香族双迭氮基化合物为交联剂，苯氧基二苯甲酮为光敏剂，聚甲基丙烯酸甲酯（ＰＭＭＡ）为基质树脂，合成了负型激光光致抗蚀剂。该体系能够在氮分子激光辐照下发生灵敏的光致交联反应，所生成的致密薄膜可以耐四氟化碳等离子体的反...
以芳香族双迭氮基化合物为交联剂，苯氧基二苯甲酮为光敏剂，聚甲基丙烯酸甲酯（ＰＭＭＡ）为基质树脂，合成了负型激光光致抗蚀剂。该体系能够在氮分子激光辐照下发生灵敏的光致交联反应，所生成的致密薄膜可以耐四氟化碳等离子体的反应离子刻蚀（ＲＩＥ）。用付里叶变换红外光谱法与紫外光谱法研究了激光光致交联反应以及反应离子刻蚀的动力学过程。讨论了影响反应速率以及刻蚀选择比的诸因素。
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关键词
反应离子刻蚀
光致抗蚀剂
微电子学
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职称材料
题名
耐反应离子刻蚀的紫外激光光致抗蚀剂的研究
被引量：
1
1
作者
金桂林
金晓英
施善定
蔡根寿
黄均文
机构
华东理工大学物理系
出处
《激光杂志》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1994年第2期65-69,共5页
文摘
以芳香族双迭氮基化合物为交联剂，苯氧基二苯甲酮为光敏剂，聚甲基丙烯酸甲酯（ＰＭＭＡ）为基质树脂，合成了负型激光光致抗蚀剂。该体系能够在氮分子激光辐照下发生灵敏的光致交联反应，所生成的致密薄膜可以耐四氟化碳等离子体的反应离子刻蚀（ＲＩＥ）。用付里叶变换红外光谱法与紫外光谱法研究了激光光致交联反应以及反应离子刻蚀的动力学过程。讨论了影响反应速率以及刻蚀选择比的诸因素。
关键词
反应离子刻蚀
光致抗蚀剂
微电子学
Keywords
RIE,laser,photoresist
分类号
TN405.983 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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作者
出处
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被引量
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1
耐反应离子刻蚀的紫外激光光致抗蚀剂的研究
金桂林
金晓英
施善定
蔡根寿
黄均文
《激光杂志》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1994
1
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