期刊文献+
共找到13篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
离子注入过程中银纳晶的原位透射电镜研究 被引量:1
1
作者 蒋昌忠 范湘军 《电子显微学报》 CAS CSCD 2000年第4期439-440,共2页
关键词 离子注入 银纳晶 原位透射电镜 玻璃
在线阅读 下载PDF
透射电镜原位研究Ni纳米晶粒成核生长
2
作者 蒋昌忠 陈海波 +1 位作者 石英 付强 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2002年第5期623-624,共2页
关键词 NI 纳米晶粒 成核生长 镍离子注入 衬底材料 原位透射电镜
在线阅读 下载PDF
利用低失能近轴背散射电子的扫描电镜
3
作者 蒋昌忠 李承斌 +2 位作者 曹旸 付强 范湘军 《电子显微学报》 CAS CSCD 2000年第4期625-626,共2页
关键词 低失能 近轴 背散射电子 扫描电镜
在线阅读 下载PDF
新型扫描电镜最佳工作参数的模拟
4
作者 蒋昌忠 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2001年第4期394-395,共2页
关键词 扫描电镜 最佳工作参数 背散射电子信号 原子序数 背散射率 分辨率 衬度
在线阅读 下载PDF
用扫描电镜研究CN_x/TiN涂层的摩擦磨损 被引量:6
5
作者 刘传胜 付强 +2 位作者 叶明生 蒋昌忠 范湘军 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2003年第4期323-326,共4页
利用一台直流磁控溅射和多弧沉积设备在高速钢 (HSS)衬底上沉积CNx TiN多层复合膜 ,涂层的硬度超过5 0GPa。销 -盘式摩擦试验研究了涂层的滑动摩擦性能 ,利用扫描电镜观察并分析了薄膜的磨损模式。结果显示涂层结构致密 ,附着牢固。涂... 利用一台直流磁控溅射和多弧沉积设备在高速钢 (HSS)衬底上沉积CNx TiN多层复合膜 ,涂层的硬度超过5 0GPa。销 -盘式摩擦试验研究了涂层的滑动摩擦性能 ,利用扫描电镜观察并分析了薄膜的磨损模式。结果显示涂层结构致密 ,附着牢固。涂层的主要磨损形式为粘着磨损、疲劳磨损和磨粒磨损。 展开更多
关键词 扫描电镜 直流磁控溅射 多弧沉积设备 多层复合膜 涂层硬度 磨损模式 疲劳磨损 磨粒磨损
在线阅读 下载PDF
GaN基稀磁半导体的离子注入研究动态 被引量:4
6
作者 林玲 石瑛 蒋昌忠 《材料导报》 EI CAS CSCD 2004年第9期67-71,共5页
离子注入掺Mn的GaN基稀磁半导体,由于具有高于室温的居里温度及一系列独特性质而受到广泛重视。综述了GaN基稀磁半导体离子注入的近期研究成果,讨论了能量、剂量、温度、束流、退火条件等因素对GaMnN结构和性能的影响,并对GaMnN中铁磁... 离子注入掺Mn的GaN基稀磁半导体,由于具有高于室温的居里温度及一系列独特性质而受到广泛重视。综述了GaN基稀磁半导体离子注入的近期研究成果,讨论了能量、剂量、温度、束流、退火条件等因素对GaMnN结构和性能的影响,并对GaMnN中铁磁性的起源,就理论和实验两方面的结果作了讨论。 展开更多
关键词 稀磁半导体 铁磁性 结构和性能 离子注入 束流 居里温度 能量 退火 室温
在线阅读 下载PDF
加速器-电镜联机的离子光路及其调整方案 被引量:1
7
作者 叶小舟 杨铮 +7 位作者 周霖 欧阳中亮 黎明 刘传胜 郭立平 任峰 蒋昌忠 付德君 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第B09期276-280,共5页
离子辐照引起的材料微结构变化是一个复杂的过程,用加速器-电镜联机装置可原位观察载能离子束辐照引起的材料微结构演变。武汉大学加速器-电镜联机装置由1台2×1.7 MV串列加速器、1台200 kV离子注入机和1台200 kV透射电镜组成,通过... 离子辐照引起的材料微结构变化是一个复杂的过程,用加速器-电镜联机装置可原位观察载能离子束辐照引起的材料微结构演变。武汉大学加速器-电镜联机装置由1台2×1.7 MV串列加速器、1台200 kV离子注入机和1台200 kV透射电镜组成,通过自行设计的传输系统实现联机。本文介绍联机装置的光路布局,给出了静电加速器离子动力学计算程序LEADS(linear and electrostatic accelerator dynamics simulation)优化计算的结果,提出了两种改进方案,并用LEADS对改造后的加速器-电镜联机中离子运动进行了计算。结果显示,调整现光路二单元四极透镜的同时,在200 kV注入机90°偏转磁铁至电镜之间增加1个二单元静电四极透镜,将提高该系统中离子束传输效率。 展开更多
关键词 加速器 离子注入机 透射电镜 联机 离子光路
在线阅读 下载PDF
Lewis acid-doped transition metal dichalcogenides for ultraviolet–visible photodetectors
8
作者 Heng Yang Mingjun Ma +6 位作者 Yongfeng Pei Yufan Kang Jialu Yan Dong He Changzhong Jiang Wenqing Li Xiangheng Xiao 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第9期628-635,共8页
Ultraviolet photodetectors(UV PDs)are widely used in civilian,scientific,and military fields due to their high sensitivity and low false alarm rates.We present a temperature-dependent Lewis acid p-type doping method f... Ultraviolet photodetectors(UV PDs)are widely used in civilian,scientific,and military fields due to their high sensitivity and low false alarm rates.We present a temperature-dependent Lewis acid p-type doping method for transition metal dichalcogenides(TMDs),which can effectively be used to extend the optical response range.The p-type doping based on surface charge transfer involves the chemical adsorption of the Lewis acid SnCl_(4)as a light absorption layer on the surface of WS_(2),significantly enhancing its UV photodetection performance.Under 365 nm laser irradiation,WS_(2)PDs exhibit response speed of 24 ms/20 ms,responsivity of 660 mA/W,detectivity of 3.3×10^(11)Jones,and external quantum efficiency of 226%.Moreover,we successfully apply this doping method to other TMDs materials(such as MoS_(2),MoSe_(2),and WSe_(2))and fabricate WS_(2) lateral p–n heterojunction PDs. 展开更多
关键词 two-dimensional(2D)materials p-type doping transition metal dichalcogenides PHOTODETECTORS
在线阅读 下载PDF
Pt/Si外延膜界面处Si基体中应力场的LACBED研究
9
作者 鄢炎发 蒋昌忠 +2 位作者 王青林 范湘军 王仁卉 《电子显微学报》 CAS CSCD 1993年第2期150-150,共1页
我们利用大角度会聚束电子衍射(简称LACBED)的方法对Pt/Si外延膜界面处Si基体中的应力场进行了研究。Pt/Si外延膜试样是用蒸镀的方法在基体Si片上沿(111)面外延生成金属Pt而成。X-射线分析结果表明Pt沿Si(111)面外延生长很好。图1是Pt/S... 我们利用大角度会聚束电子衍射(简称LACBED)的方法对Pt/Si外延膜界面处Si基体中的应力场进行了研究。Pt/Si外延膜试样是用蒸镀的方法在基体Si片上沿(111)面外延生成金属Pt而成。X-射线分析结果表明Pt沿Si(111)面外延生长很好。图1是Pt/Si界面的明场象。左面为衬底Si,右边为外延生长Pt层。图2是电子束照射在界面附近不同地方的LACBED花样。图中界面在LACBED花样中所处的位置可以清晰地看出。图2(a)可以看出。 展开更多
关键词 外延 界面 应力场 大角度 会聚束电子衍射
在线阅读 下载PDF
基于二维半导体材料浮栅存储器的研究进展:从材料到结构
10
作者 李浩宇 李文庆 +1 位作者 蒋昌忠 肖湘衡 《物理实验》 2023年第5期1-14,共14页
半导体浮栅存储器在半导体存储器乃至整个数据存储行业都占据着较大的市场份额,目前在计算机、便携式设备存储器等领域都有广泛应用.随着存储器件进一步小型化和集成化,在未来需要新材料和新结构对浮栅存储器进行革新以延续摩尔定律的发... 半导体浮栅存储器在半导体存储器乃至整个数据存储行业都占据着较大的市场份额,目前在计算机、便携式设备存储器等领域都有广泛应用.随着存储器件进一步小型化和集成化,在未来需要新材料和新结构对浮栅存储器进行革新以延续摩尔定律的发展.具有原子级厚度的二维层状半导体材料具有优异的电学性能和稳定性,被广泛认为是极具潜力的新型半导体材料之一,可用于下一代半导体浮栅存储器.本文主要介绍近年来二维半导体材料在浮栅存储器领域的应用,并对其未来的发展趋势进行了思考和展望. 展开更多
关键词 浮栅存储器 二维材料 异质结构 闪存
在线阅读 下载PDF
深入推进语言文字工作法治建设 被引量:3
11
作者 蒋昌忠 《语言战略研究》 2019年第2期7-8,共2页
中国是一个多民族、多语言、多文种的国家,用法律的形式确定普通话和规范汉字作为国家通用语言文字的地位,有利于维护国家主权和民族尊严,有利于国家统一和民族团结,有利于社会主义物质文明建设和精神文明建设。《中华人民共和国国家通... 中国是一个多民族、多语言、多文种的国家,用法律的形式确定普通话和规范汉字作为国家通用语言文字的地位,有利于维护国家主权和民族尊严,有利于国家统一和民族团结,有利于社会主义物质文明建设和精神文明建设。《中华人民共和国国家通用语言文字法》(简称《国家通用语言文字法》)已经实施18年,面对社会语言文字应用领域出现的新情况、新问题、新需求等,建议及时进行修订。 展开更多
关键词 语言文字工作 《中华人民共和国国家通用语言文字法》 《国家通用语言文字法》 社会主义物质文明建设 法治建设 国家主权 精神文明建设 规范汉字
在线阅读 下载PDF
播期对安宁河流域冬闲田燕麦生产性能的影响 被引量:2
12
作者 柳茜 卢寰宗 +4 位作者 马英 李峰 蒋昌忠 徐丽君 陶雅 《四川农业科技》 2022年第8期28-31,38,共5页
为探讨安宁河流域冬闲田燕麦饲草品种最佳播期,以“OT834”“林纳”“OT1352”3个不同类型的燕麦品种为研究对象,开展不同播期试验,对3个燕麦品种生育期、株高和饲草产量进行分析。结果表明:随着播期的推迟,10月15日播种生育天数最长,10... 为探讨安宁河流域冬闲田燕麦饲草品种最佳播期,以“OT834”“林纳”“OT1352”3个不同类型的燕麦品种为研究对象,开展不同播期试验,对3个燕麦品种生育期、株高和饲草产量进行分析。结果表明:随着播期的推迟,10月15日播种生育天数最长,10月30日次之,11月15日最短。随着播期的推迟,燕麦株高下降,10月15日播种的株高最高,10月15日播种的株高比10月30日高5.50%~9.71%,比11月15日高11.39%~15.38%,10月30日株高比11月15日高0.89%~8.44%。随着播期的推迟,干草产量随之下降,10月15日播种干草产量比10月30日高20.27%~55.32%,比11月15日高42.43%~131.10%,10月30日播种干草产量比11月15日高1.86%~48.78%。3个品种中10月15日播种的“OT834”的干物质积累快,干草产量为25247.55kg/hm 2,比林纳高31.91%,比“OT1352”高13.21%。综合评价表明,在安宁河流域冬闲田燕麦种植以10月15日前播种最佳,品种以“OT834”为最适宜。 展开更多
关键词 燕麦 冬闲田 播期 产量
在线阅读 下载PDF
Energy Filtering and Coaxial Detection of the Backscattered Electrons in Scanning Electron Microscope 被引量:5
13
作者 JIANG Chang-Zhong P.Morin N.Rosenberg 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2000年第9期637-639,共3页
A new detection system in scanning electron microscope,which filters in energy and detects the backscattered electrons close to the microscope axis,is described.This technique ameliorates the dependence of the back.sc... A new detection system in scanning electron microscope,which filters in energy and detects the backscattered electrons close to the microscope axis,is described.This technique ameliorates the dependence of the back.scat tering coefficient on atomic number,and suppresses effectively the relief contrast at the same time.Therefore this new method is very suitable to the composition analysis. 展开更多
关键词 ELECTRON SCATTERED SYSTEM
在线阅读 下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部