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一种新型Ce∶GAGG闪烁探测器性能研究
被引量:
5
1
作者
王璐
王强
+3 位作者
屈菁菁
董鸿林
方承丽
丁雨憧
《压电与声光》
CAS
北大核心
2020年第6期806-809,共4页
该文将新型掺铈钆稼铝石榴石(Ce∶GAGG)闪烁晶体与CR-173光电倍增管耦合,并将其和分压电路、高压模块、前放电路一起封装在铝合金外壳中,制成新型Ce∶GAGG闪烁探测器。研究了不同尺寸Ce∶GAGG闪烁晶体、不同耦合方式及反射层封装材料对...
该文将新型掺铈钆稼铝石榴石(Ce∶GAGG)闪烁晶体与CR-173光电倍增管耦合,并将其和分压电路、高压模块、前放电路一起封装在铝合金外壳中,制成新型Ce∶GAGG闪烁探测器。研究了不同尺寸Ce∶GAGG闪烁晶体、不同耦合方式及反射层封装材料对新型Ce∶GAGG闪烁探测器光产额和能量分辨率的影响,同时与封装好的1英寸(1英寸=2.54 cm)掺铊碘化钠(NaI(Tl))闪烁晶体进行对比实验,并对Ce∶GAGG和NaI(Tl)闪烁探测器的能量线性进行测量。实验结果表明,小体积的Ce∶GAGG闪烁探测器性能最好;光学硅脂耦合可提高闪烁探测器的性能;银反射膜(ESR膜)材料封装闪烁探测器性能最好;Ce∶GAGG闪烁探测器性能优于NaI(Tl)闪烁探测器。
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关键词
掺铈钆稼铝石榴石(Ce∶GAGG)闪烁晶体
探测器
光电倍增管
光产额
能量分辨率
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职称材料
LuYAP∶Ce闪烁晶体阵列研究
2
作者
徐扬
董鸿林
+3 位作者
石自彬
李德辉
吴玉池
付昌禄
《压电与声光》
CAS
北大核心
2019年第2期185-187,共3页
铝酸钇镥(LuYAP)∶Ce晶体具有衰减时间短,密度大,光产额高及不潮解等优点。采用该晶体制作的闪烁晶体阵列,能快速获得皮秒级正电子湮灭的精确信息。该文报道了一种LuYAP∶Ce闪烁晶体阵列的制作方法,将提拉法制备的LuYAP∶Ce晶体经切割...
铝酸钇镥(LuYAP)∶Ce晶体具有衰减时间短,密度大,光产额高及不潮解等优点。采用该晶体制作的闪烁晶体阵列,能快速获得皮秒级正电子湮灭的精确信息。该文报道了一种LuYAP∶Ce闪烁晶体阵列的制作方法,将提拉法制备的LuYAP∶Ce晶体经切割并运用化学机械抛光法处理后,最终利用填充材料制作了晶体阵列。在X线光机上开展了阵列的发光均匀性测试,测得发光不均匀性为14.8%。结果表明,LuYAP∶Ce晶体满足使用要求。
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关键词
LuYAP∶Ce闪烁晶体
化学机械抛光
晶体阵列
发光均匀性
硫酸钡
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职称材料
不同厚度Ce:GAGG闪烁晶体性能研究
被引量:
3
3
作者
王强
丁雨憧
+4 位作者
屈菁菁
王璐
董鸿林
方承丽
毛世平
《量子电子学报》
CAS
CSCD
北大核心
2021年第2期259-264,共6页
选择不同厚度的Ce:GAGG闪烁晶体(2,4,6,8,10 mm),通过透过率测试分析自吸收对Ce:GAGG闪烁晶体性能的影响,同时研究晶体表面不同粗糙度、不同封装、不同耦合方式对Ce:GAGG闪烁晶体光输出、能量分辨率的影响。实验结果表明通过优化Ce:GAG...
选择不同厚度的Ce:GAGG闪烁晶体(2,4,6,8,10 mm),通过透过率测试分析自吸收对Ce:GAGG闪烁晶体性能的影响,同时研究晶体表面不同粗糙度、不同封装、不同耦合方式对Ce:GAGG闪烁晶体光输出、能量分辨率的影响。实验结果表明通过优化Ce:GAGG闪烁晶体样品表面粗糙度、封装反射层和耦合方式,能大幅度提高Ce:GAGG闪烁晶体样品的光输出和能量分辨率。使用137Cs标准放射源,测试得到Ce:GAGG闪烁晶体样品的最佳能量分辨率为7.0%。
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关键词
材料
Ce:GAGG闪烁晶体
透过率
光输出
能量分辨率
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职称材料
锗单晶在酸性SiO_(2)抛光液条件下的抛光机理及加工工艺
被引量:
3
4
作者
杲星
顾跃
+4 位作者
夏卫东
董鸿林
甘禹
徐扬
丁雨憧
《压电与声光》
CAS
北大核心
2022年第3期467-470,473,共5页
该文研究了化学机械抛光(CMP)条件下,锗单晶在含HNO_(3)的SiO_(2)抛光液中的腐蚀过程。通过改变抛光时间,分析锗单晶表面状态的变化规律。结果表明,在SiO_(2)抛光液pH值为1~2时,SiO_(2)抛光液中存在Si—OH和Si—O-形式;锗单晶先与HNO_(3...
该文研究了化学机械抛光(CMP)条件下,锗单晶在含HNO_(3)的SiO_(2)抛光液中的腐蚀过程。通过改变抛光时间,分析锗单晶表面状态的变化规律。结果表明,在SiO_(2)抛光液pH值为1~2时,SiO_(2)抛光液中存在Si—OH和Si—O-形式;锗单晶先与HNO_(3)反应生成Ge(NO_(3))_(4),而后Ge^(4+)的含氧酸盐会剧烈水解生成Ge—OH,Ge—OH继续反应并以Ge—OH_(2)^(+)形式存在。由于表面电荷的吸引,Si—O-和Ge—OH_(2)^(+)在锗单晶表面生成Si—O—Ge软化层,从动力学角度加快了腐蚀速率,促进了表面抛光的程度。抛光时间为15~20 min时,机械抛光和侵蚀的法向速度处于平衡状态,CMP抛光后锗单晶表面粗糙度S_(a)≤0.8 nm,10倍显微镜下无划痕、麻点。
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关键词
锗单晶
化学机械抛光
抛光液
粗糙度
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职称材料
题名
一种新型Ce∶GAGG闪烁探测器性能研究
被引量:
5
1
作者
王璐
王强
屈菁菁
董鸿林
方承丽
丁雨憧
机构
中国电子科技集团公司第二十六研究所
出处
《压电与声光》
CAS
北大核心
2020年第6期806-809,共4页
基金
2016年工信部工业强基工程基金资助项目(TC160A310-17)。
文摘
该文将新型掺铈钆稼铝石榴石(Ce∶GAGG)闪烁晶体与CR-173光电倍增管耦合,并将其和分压电路、高压模块、前放电路一起封装在铝合金外壳中,制成新型Ce∶GAGG闪烁探测器。研究了不同尺寸Ce∶GAGG闪烁晶体、不同耦合方式及反射层封装材料对新型Ce∶GAGG闪烁探测器光产额和能量分辨率的影响,同时与封装好的1英寸(1英寸=2.54 cm)掺铊碘化钠(NaI(Tl))闪烁晶体进行对比实验,并对Ce∶GAGG和NaI(Tl)闪烁探测器的能量线性进行测量。实验结果表明,小体积的Ce∶GAGG闪烁探测器性能最好;光学硅脂耦合可提高闪烁探测器的性能;银反射膜(ESR膜)材料封装闪烁探测器性能最好;Ce∶GAGG闪烁探测器性能优于NaI(Tl)闪烁探测器。
关键词
掺铈钆稼铝石榴石(Ce∶GAGG)闪烁晶体
探测器
光电倍增管
光产额
能量分辨率
Keywords
Ce∶GAGG scintillator
detector
photomultiplier tube(PMT)
light yield
energy resolution
分类号
TN29 [电子电信—物理电子学]
TL812 [核科学技术—核技术及应用]
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职称材料
题名
LuYAP∶Ce闪烁晶体阵列研究
2
作者
徐扬
董鸿林
石自彬
李德辉
吴玉池
付昌禄
机构
中国电子科技集团公司第二十六研究所
激光聚变研究中心
出处
《压电与声光》
CAS
北大核心
2019年第2期185-187,共3页
基金
国防科工局配套基金资助项目(JPPT-125-5-169)
文摘
铝酸钇镥(LuYAP)∶Ce晶体具有衰减时间短,密度大,光产额高及不潮解等优点。采用该晶体制作的闪烁晶体阵列,能快速获得皮秒级正电子湮灭的精确信息。该文报道了一种LuYAP∶Ce闪烁晶体阵列的制作方法,将提拉法制备的LuYAP∶Ce晶体经切割并运用化学机械抛光法处理后,最终利用填充材料制作了晶体阵列。在X线光机上开展了阵列的发光均匀性测试,测得发光不均匀性为14.8%。结果表明,LuYAP∶Ce晶体满足使用要求。
关键词
LuYAP∶Ce闪烁晶体
化学机械抛光
晶体阵列
发光均匀性
硫酸钡
Keywords
LuYAP∶Ce scintillation crystal
chemical mechanical polishing
crystal array
luminance uniformity
BaSO4
分类号
TN804 [电子电信—信息与通信工程]
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职称材料
题名
不同厚度Ce:GAGG闪烁晶体性能研究
被引量:
3
3
作者
王强
丁雨憧
屈菁菁
王璐
董鸿林
方承丽
毛世平
机构
中国电子科技集团公司第二十六研究所
出处
《量子电子学报》
CAS
CSCD
北大核心
2021年第2期259-264,共6页
基金
(“十三五”装备预研项目,41424060303)。
文摘
选择不同厚度的Ce:GAGG闪烁晶体(2,4,6,8,10 mm),通过透过率测试分析自吸收对Ce:GAGG闪烁晶体性能的影响,同时研究晶体表面不同粗糙度、不同封装、不同耦合方式对Ce:GAGG闪烁晶体光输出、能量分辨率的影响。实验结果表明通过优化Ce:GAGG闪烁晶体样品表面粗糙度、封装反射层和耦合方式,能大幅度提高Ce:GAGG闪烁晶体样品的光输出和能量分辨率。使用137Cs标准放射源,测试得到Ce:GAGG闪烁晶体样品的最佳能量分辨率为7.0%。
关键词
材料
Ce:GAGG闪烁晶体
透过率
光输出
能量分辨率
Keywords
material
Ce:GAGG scintillator crystals
transmission
light yield
energy resolution
分类号
TN29 [电子电信—物理电子学]
TL812 [核科学技术—核技术及应用]
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职称材料
题名
锗单晶在酸性SiO_(2)抛光液条件下的抛光机理及加工工艺
被引量:
3
4
作者
杲星
顾跃
夏卫东
董鸿林
甘禹
徐扬
丁雨憧
机构
中国电子科技集团公司第二十六研究所
出处
《压电与声光》
CAS
北大核心
2022年第3期467-470,473,共5页
文摘
该文研究了化学机械抛光(CMP)条件下,锗单晶在含HNO_(3)的SiO_(2)抛光液中的腐蚀过程。通过改变抛光时间,分析锗单晶表面状态的变化规律。结果表明,在SiO_(2)抛光液pH值为1~2时,SiO_(2)抛光液中存在Si—OH和Si—O-形式;锗单晶先与HNO_(3)反应生成Ge(NO_(3))_(4),而后Ge^(4+)的含氧酸盐会剧烈水解生成Ge—OH,Ge—OH继续反应并以Ge—OH_(2)^(+)形式存在。由于表面电荷的吸引,Si—O-和Ge—OH_(2)^(+)在锗单晶表面生成Si—O—Ge软化层,从动力学角度加快了腐蚀速率,促进了表面抛光的程度。抛光时间为15~20 min时,机械抛光和侵蚀的法向速度处于平衡状态,CMP抛光后锗单晶表面粗糙度S_(a)≤0.8 nm,10倍显微镜下无划痕、麻点。
关键词
锗单晶
化学机械抛光
抛光液
粗糙度
Keywords
germanium single crystal
CMP
olishing solution
oughness
分类号
TN384 [电子电信—物理电子学]
TN305.2 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
一种新型Ce∶GAGG闪烁探测器性能研究
王璐
王强
屈菁菁
董鸿林
方承丽
丁雨憧
《压电与声光》
CAS
北大核心
2020
5
在线阅读
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职称材料
2
LuYAP∶Ce闪烁晶体阵列研究
徐扬
董鸿林
石自彬
李德辉
吴玉池
付昌禄
《压电与声光》
CAS
北大核心
2019
0
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下载PDF
职称材料
3
不同厚度Ce:GAGG闪烁晶体性能研究
王强
丁雨憧
屈菁菁
王璐
董鸿林
方承丽
毛世平
《量子电子学报》
CAS
CSCD
北大核心
2021
3
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职称材料
4
锗单晶在酸性SiO_(2)抛光液条件下的抛光机理及加工工艺
杲星
顾跃
夏卫东
董鸿林
甘禹
徐扬
丁雨憧
《压电与声光》
CAS
北大核心
2022
3
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职称材料
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