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英寸级(C_(24)H_(20)P)_(2)MnBr_(4)单晶薄膜生长及高分辨率X射线成像
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作者 杨帆 张思媛 +3 位作者 董武佩 王希正 周铭 居佃兴 《人工晶体学报》 北大核心 2025年第7期1289-1296,共8页
有机金属卤化物在X射线成像领域展现出巨大的应用潜力。然而,多晶薄膜闪烁体屏幕的均匀性差、透射率低和光散射等问题严重降低了X射线成像分辨率。本文使用空间限域法生长制备了英寸级(C_(24)H_(20)P)_(2)MnBr_(4)单晶薄膜,并对其进行... 有机金属卤化物在X射线成像领域展现出巨大的应用潜力。然而,多晶薄膜闪烁体屏幕的均匀性差、透射率低和光散射等问题严重降低了X射线成像分辨率。本文使用空间限域法生长制备了英寸级(C_(24)H_(20)P)_(2)MnBr_(4)单晶薄膜,并对其进行了物相、光学和闪烁性能的研究。该晶体表现出90%的光致发光量子产率(PLQY)及优异的光稳定性,在365 nm紫外光下连续照射24 h,其光谱仍保持稳定。基于该晶体优异的光学性质,在X射线下产生83 000 photons/MeV(估算值)的高光产额,是商用LYSO闪烁体的2.5倍。此外,该晶体展现出优异的耐辐射稳定性,即使在504 mGy·s^(-1)的高剂量率下暴露60 min后仍保持其性能的稳定性。基于上述优势,将(C_(24)H_(20)P)_(2)MnBr_(4)单晶薄膜应用于X射线成像,实现了约23 lp/mm的空间分辨率,在该领域展现出巨大的应用潜力。 展开更多
关键词 (C_(24)H_(20)P)_(2)MnBr_(4) 有机金属卤化物 空间限域 单晶薄膜 闪烁性能 X射线成像
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