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不同间距比下串列平板绕流尾迹的LDA试验研究 被引量:5
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作者 高波 苟文波 +2 位作者 郭鹏明 闫龙龙 张宁 《哈尔滨工程大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第10期1709-1715,1734,共8页
本文以串列平板为研究对象,运用激光多普勒测速技术(LDA),研究了亚临界雷诺数Re D=3×104下,间距比T/D在1~6之间的上下游平板近尾迹区时均速度、脉动速度分布及其频谱特性,探讨了间距比变化对串列平板绕流尾迹的影响。试验结果表明... 本文以串列平板为研究对象,运用激光多普勒测速技术(LDA),研究了亚临界雷诺数Re D=3×104下,间距比T/D在1~6之间的上下游平板近尾迹区时均速度、脉动速度分布及其频谱特性,探讨了间距比变化对串列平板绕流尾迹的影响。试验结果表明:小间距比下(T/D<3),上游平板尾迹受下游平板抑制作用显著,无明显涡脱产生;随着间距比增大,这种抑制作用逐渐减弱,上游平板尾缘处出现明显涡脱。上游平板近尾缘区(x 1/D≤0.5),间距比对其尾迹影响较小;远离尾缘区(x 1/D>0.5、x 2/D>0.5),间距比对上游平板尾迹影响更为显著。间距比T/D≥3时,上下游平板均能形成稳定涡脱,且随着间距比增大两平板流动状态趋于一致,均趋向于单平板绕流。T/D=3可作为该雷诺数下,串列双平板绕流的临界间距比,此处St数有极小值。 展开更多
关键词 串列平板 激光多普勒测速 间距比 脉动速度 尾迹 速度频谱 涡脱频率 St数
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不同间距比下错列双平板绕流流场的PIV测量与POD分析 被引量:4
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作者 高波 陈来祚 +2 位作者 苟文波 倪丹 张雨琪 《流体机械》 CSCD 北大核心 2020年第9期18-22,共5页
运用粒子成像测速技术(PIV),在水洞中对亚临界雷诺数ReD=1×104时错列双平板绕流进行了测量,探索平板间距对绕流流场结构的影响。应用本征正交分解(POD)方法对绕流流场结构进行模态分解,提取流场相干结构。结果表明:前4阶模态形态... 运用粒子成像测速技术(PIV),在水洞中对亚临界雷诺数ReD=1×104时错列双平板绕流进行了测量,探索平板间距对绕流流场结构的影响。应用本征正交分解(POD)方法对绕流流场结构进行模态分解,提取流场相干结构。结果表明:前4阶模态形态是流场中最主要的相干结构;流向间距T与法向间距H对错列平板绕流流场结构影响显著,随着平板间间距变化,错列平板绕流可分为间隙射流干涉、剪切层和尾流共同干涉、剪切层干涉3种模式。流向间距T/D=0、法向间距H/D=1时,平板间出现很强间隙射流结构,受间隙射流影响,上游平板剪切层与下游平板下表面剪切层包络混合,形成类似“单钝体”流动结构。 展开更多
关键词 错列双平板 尾迹 干涉模式 POD分析
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