-
题名反演光刻技术的研究进展
- 1
-
-
作者
艾飞
苏晓菁
韦亚一
-
机构
中国科学院大学集成电路学院
中国科学院微电子研究所
-
出处
《电子与信息学报》
北大核心
2025年第1期22-34,共13页
-
基金
国家自然科学基金(62204257)
中央高校基本科研业务费专项资金(E3E43802)
中国科学院青促会项目(2021115)。
-
文摘
反演光刻技术(ILT)相比传统的光学临近效应修正(OPC),生成的掩模具有成像效果更好,工艺窗口更大等优点,在当前芯片制造的工艺尺寸不断减小的背景下,逐渐成为主流的光刻掩模修正技术。该文首先介绍了反演光刻算法的基本原理和几种主流实现方法;其次,调研了当前反演光刻技术应用在光刻掩模优化问题上的研究进展,分析了反演光刻技术的优势和存在的问题。以希望为计算光刻及相关研究领域的研究人员提供参考,为我国先进集成电路产业的发展提供技术支持。
-
关键词
先进集成电路技术
反演光刻技术
光学临近效应修正
掩模优化
研究进展
-
Keywords
Advanced integrated circuit technology
Reverse lithography technology
Optical proximity effect correction
Mask optimization
Research progress
-
分类号
TN405
[电子电信—微电子学与固体电子学]
TP301
[自动化与计算机技术—计算机系统结构]
-
-
题名一种离线光学邻近效应匹配方法的研究和仿真
被引量：1
- 2
-
-
作者
宋之洋
郭沫然
苏晓菁
刘艳松
粟雅娟
韦亚一
-
机构
中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室
-
出处
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2015年第3期197-203,共7页
-
基金
国家科技重大专项资助项目(2013ZX02303)
-
文摘
目前小技术节点的光学邻近效应校正(OPC)过分依赖光刻机与光刻工艺的属性,量产时难以在不同型号光刻机间转移,而国内芯片制造厂光刻机种类繁杂,不可避免地需要解决工艺转移的问题。针对上述问题,以不同光刻机间的光学邻近效应匹配为研究对象,阐述了匹配的原理及流程,提出了一种利用常用的OPC建模工具实现离线匹配的方法,模拟分析了该方法对成像误差的补偿效果,揭示了不同性质的误差对成像性能的影响规律,验证了该方法的正确性,为不同光刻机间的工艺转移提供了新的思路。
-
关键词
光刻
计算光刻
光学邻近效应校正(OPC)
光学邻近效应匹配
工艺窗口控制
-
Keywords
lithography
computational lithography
optical proximity correction （OPC）
opticalproximity matching
process window control
-
分类号
TN305.7
[电子电信—物理电子学]
-
-
题名VLSI详细布线算法研究进展
被引量：4
- 3
-
-
作者
屈通
盖天洋
王书涵
苏晓菁
粟雅娟
韦亚一
-
机构
中国科学院微电子研究所
中国科学院大学
广东省大湾区集成电路与系统应用研究院
-
出处
《微电子学与计算机》
2021年第11期1-6,共6页
-
基金
国家自然科学基金(61874002)
北京市自然科学基金(4182021)
国家重点研发计划(2019YFB2205005)。
-
文摘
超大规模集成电路(VLSI)中的详细布线是物理设计中一个重要且具有挑战性的环节.在这一阶段,所有导线的路径都会被确定下来,布线的优劣直接关系到芯片的面积和性能,路径搜索是布线中最为耗时的步骤之一.本文介绍了基于网格的布线模型,将布线问题抽象为一个图搜索问题或者多商品流问题;总结了迷宫搜索算法、A*算法、整数线性规划(ILP)算法和并行加速算法在路径搜索中的应用和针对设计约束作出的优化,结合在布线器中应用情况分析其优劣;总结回顾了基于机器学习求解算法的研究进展,分析了存在的问题,并对详细布线算法的发展趋势做了展望.分析表明,A*算法在布线质量、稳定性和速度等方面的综合性能较其他算法更为优异,其难点在于设计合理的布线排序策略和图模型.强化学习具有巨大的研究潜力,目前的研究仅在规模较小的设计中测试,仍需要进一步改进和探索.
-
关键词
详细布线
机器学习
强化学习
迷宫搜索
整数线性规划
-
Keywords
detailed routing
machine learning
reinforcement learning
maze search
integer linear programming
-
分类号
TN47
[电子电信—微电子学与固体电子学]
-
