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高玻璃化温度化学增幅光致抗蚀剂的制备
被引量：
5
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作者
王慧
游凤祥
+5 位作者
陈明
李元昌
卢建平
洪啸吟
黄志齐
胡德甫
《感光科学与光化学》
EI
CSCD
1998年第3期245-249,共5页
本文合成了一种具有高玻璃化温度的苯乙烯和Ｎ－（４－羟基苯基）马来酰亚胺的共聚体，并将其应用于紫外负性水型化学增幅抗蚀剂中，并初步确定了该光致抗蚀剂的光刻工艺操作条件，得到了分辨率为１．３９μｍ的光刻图形．
关键词
光致抗蚀剂
光刻
化学增幅
抗蚀剂
合成
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职称材料
一种自交联聚合物的合成及其在水显影化学增幅型负性抗蚀剂中的应用
2
作者
陈其道
陈明
+3 位作者
林天舒
洪啸吟
黄志齐
胡德甫
《感光科学与光化学》
CSCD
2000年第2期155-159,共5页
本文引入单体MAGME合成了具有自交联作用的MAGME、苯乙烯和N ( 4 羟基苯基 )马来酰亚胺的共聚物 ,并以该聚合物为基体树脂 ,研制了一种新型的水显影化学增幅型负性抗蚀剂 ,并初步研究了其光刻工艺条件 .
关键词
自交联
水显影
化学增幅
负性抗蚀剂
显影材料
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职称材料
题名
高玻璃化温度化学增幅光致抗蚀剂的制备
被引量：
5
1
作者
王慧
游凤祥
陈明
李元昌
卢建平
洪啸吟
黄志齐
胡德甫
机构
清华大学化学系
北京化学试剂所
出处
《感光科学与光化学》
EI
CSCD
1998年第3期245-249,共5页
基金
国家自然科学基金
文摘
本文合成了一种具有高玻璃化温度的苯乙烯和Ｎ－（４－羟基苯基）马来酰亚胺的共聚体，并将其应用于紫外负性水型化学增幅抗蚀剂中，并初步确定了该光致抗蚀剂的光刻工艺操作条件，得到了分辨率为１．３９μｍ的光刻图形．
关键词
光致抗蚀剂
光刻
化学增幅
抗蚀剂
合成
Keywords
photoresist,photolithography,polystyrene co N (4 hydroxypheny1)maleimide
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
一种自交联聚合物的合成及其在水显影化学增幅型负性抗蚀剂中的应用
2
作者
陈其道
陈明
林天舒
洪啸吟
黄志齐
胡德甫
机构
清华大学化学系
北京化学试剂所
出处
《感光科学与光化学》
CSCD
2000年第2期155-159,共5页
基金
国家自然科学基金!资助项目 ( 5 9773 0 0 7)
文摘
本文引入单体MAGME合成了具有自交联作用的MAGME、苯乙烯和N ( 4 羟基苯基 )马来酰亚胺的共聚物 ,并以该聚合物为基体树脂 ,研制了一种新型的水显影化学增幅型负性抗蚀剂 ,并初步研究了其光刻工艺条件 .
关键词
自交联
水显影
化学增幅
负性抗蚀剂
显影材料
Keywords
self-crosslinking
water-developable
chemically amplified
negative photoresist
分类号
TQ572 [化学工程—精细化工]
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职称材料
题名
作者
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1
高玻璃化温度化学增幅光致抗蚀剂的制备
王慧
游凤祥
陈明
李元昌
卢建平
洪啸吟
黄志齐
胡德甫
《感光科学与光化学》
EI
CSCD
1998
5
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职称材料
2
一种自交联聚合物的合成及其在水显影化学增幅型负性抗蚀剂中的应用
陈其道
陈明
林天舒
洪啸吟
黄志齐
胡德甫
《感光科学与光化学》
CSCD
2000
0
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职称材料
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