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射频等离子体增强磁控溅射沉积Al_2O_3膜: 1; 作者郭宝海王德真 +1 位作者章玉萱马腾才《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1993年第6期644-646,650,共4页; 采用射频等离子体增强磁控溅射同步沉积，在金属表面制备了Ａｌ２Ｏ３膜．实验表明，采用本方法在工艺上是可行的，膜与基材结合性能好。; 关键词氧化铝薄膜磁控溅射沉积; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	射频等离子体增强磁控溅射沉积Al_2O_3膜	郭宝海王德真章玉萱马腾才	《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心	1993	0	在线阅读下载PDF 职称材料

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