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Ni掺杂WO_x薄膜的电致变色性能
被引量：
9
1
作者
黄佳木
徐爱娇
穆尉鹏
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第2期177-180,共4页
采用磁控溅射工艺,以纯钨和纯镍为靶材在ITO玻璃上制备Ni掺杂WOx电致变色薄膜,研究了Ni掺杂对WOx薄膜电致变色性能和微观结构的影响机理。实验结果表明:均匀掺杂少量的Ni可改变WOx薄膜内部的缺陷分布及结构,提高薄膜的电致变色性能。XR...
采用磁控溅射工艺,以纯钨和纯镍为靶材在ITO玻璃上制备Ni掺杂WOx电致变色薄膜,研究了Ni掺杂对WOx薄膜电致变色性能和微观结构的影响机理。实验结果表明:均匀掺杂少量的Ni可改变WOx薄膜内部的缺陷分布及结构,提高薄膜的电致变色性能。XRD分析表明,掺杂后的WOx:Ni薄膜为非晶态;XPS分析表明:WOx:Ni薄膜中的Ni为Ni2+。
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关键词
WOx:Ni薄膜
电致变色
掺杂
磁控溅射
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职称材料
题名
Ni掺杂WO_x薄膜的电致变色性能
被引量：
9
1
作者
黄佳木
徐爱娇
穆尉鹏
机构
重庆大学材料科学与工程学院
出处
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2008年第2期177-180,共4页
基金
重庆市科委攻关基金资助项目(2000-6114)
文摘
采用磁控溅射工艺,以纯钨和纯镍为靶材在ITO玻璃上制备Ni掺杂WOx电致变色薄膜,研究了Ni掺杂对WOx薄膜电致变色性能和微观结构的影响机理。实验结果表明:均匀掺杂少量的Ni可改变WOx薄膜内部的缺陷分布及结构,提高薄膜的电致变色性能。XRD分析表明,掺杂后的WOx:Ni薄膜为非晶态;XPS分析表明:WOx:Ni薄膜中的Ni为Ni2+。
关键词
WOx:Ni薄膜
电致变色
掺杂
磁控溅射
Keywords
WOx ..Ni thin film
electrochromic
doping
magnetron sputtering
分类号
O484.41 [理学—固体物理]
TN304.8 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
Ni掺杂WO_x薄膜的电致变色性能
黄佳木
徐爱娇
穆尉鹏
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2008
9
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