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用于高光谱-多光谱图像盲融合的自适应退化感知Transformer(封底文章·特邀)
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作者 曹栩珩 郝小鹏 +2 位作者 廉玉生 王绪泉 程鑫彬 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第5期8-19,共12页
针对高光谱与多光谱图像融合中预设退化信息依赖性强及空谱域交互信息挖掘不足的问题,提出了一种基于自适应退化信息感知的特征融合框架。首先,通过探索图像层次特征之间的空谱相关性,提出了一种空谱特征融合注意力机制,显著增强了融合... 针对高光谱与多光谱图像融合中预设退化信息依赖性强及空谱域交互信息挖掘不足的问题,提出了一种基于自适应退化信息感知的特征融合框架。首先,通过探索图像层次特征之间的空谱相关性,提出了一种空谱特征融合注意力机制,显著增强了融合图像中空间和光谱域信息之间的交互。其次,依据空间/光谱退化过程的直流增益和平滑物理特性,构建了空间/光谱退化感知网络模型,实现了无需预设退化信息的高光谱和多光谱图像高效融合。最后,设计了一种基于子空间的损失函数,通过解耦光谱退化信息感知过程中空间域的信息干扰,有效提升了网络对空间和光谱退化信息的感知精度。实验结果表明,与九种基线算法相比,文中方法重建结果的峰值信噪比在CAVE和Harvard数据集上分别提升了40.0%和32.7%。在混合分辨率系统上的实验结果中,文中方法重建的光谱波段图像展现出更准确的结构纹理和信号强度,进一步验证了所提方法的有效性。 展开更多
关键词 盲融合 退化表征 高光谱成像 超分辨率
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需求牵引计量助力高端产业破题
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作者 邓晓 程鑫彬 李同保 《质量与标准化》 2024年第11期10-12,共3页
测试是以集成电路为代表的高端纳米制造产业的“尺子”,计量则是测试的“准绳”。纳米计量体系贯穿先进纳米制造全过程,是纳米制造产业可持续发展的质量基础。美国国家标准与技术研究(NIST)曾指出,计量在高达50%以上的纳米制造领域通过... 测试是以集成电路为代表的高端纳米制造产业的“尺子”,计量则是测试的“准绳”。纳米计量体系贯穿先进纳米制造全过程,是纳米制造产业可持续发展的质量基础。美国国家标准与技术研究(NIST)曾指出,计量在高达50%以上的纳米制造领域通过微纳检测设备发挥关键作用,对先进纳米制造技术研发与确保微纳器件质量发挥着决定性作用。产业发展需要“测得出,测得准”“测得出,才能造得出;测得准,才能造得精。”20世纪末,美国半导体行业协会发布的“国际半导体技术路线图”(ITRS)就将计量列为以集成电路为代表的纳米制造产业六大关键技术支撑之一。 展开更多
关键词 技术路线图 纳米制造 美国国家标准 检测设备 高端产业 集成电路 微纳器件 纳米计量
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SiO2/HfO2高反射膜的研制 被引量:4
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作者 程鑫彬 沈正祥 +4 位作者 焦宏飞 马彬 张锦龙 丁涛 王占山 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第6期1276-1280,共5页
主要讨论了电子束蒸发SiO2/HfO2薄膜的面形控制和损伤性能。研究了电子束蒸发工艺参数对薄膜应力以及面形的影响;分析了制备工艺对薄膜吸收、节瘤缺陷密度的影响,测量了制备薄膜的损伤阈值。研究结果表明:调整SiO2蒸发时的氧分压可以有... 主要讨论了电子束蒸发SiO2/HfO2薄膜的面形控制和损伤性能。研究了电子束蒸发工艺参数对薄膜应力以及面形的影响;分析了制备工艺对薄膜吸收、节瘤缺陷密度的影响,测量了制备薄膜的损伤阈值。研究结果表明:调整SiO2蒸发时的氧分压可以有效地将薄膜的应力控制在-250~-50 MPa。同时采用金属Hf蒸发可以显著地将节瘤缺陷密度从12.6mm-2降低至2.7mm-2,同时将损伤阈值从30J/cm2提高至55J/cm2。 展开更多
关键词 应力 面形 吸收 节瘤缺陷 预处理 激光损伤
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Grating pitch comparison measurement based on Cr atomic transition frequency and Si lattice constant
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作者 Jingtong Feng Rao Xu +9 位作者 Ziruo Wu Lihua Lei Yingfan Xiong Zhaohui Tang Guangxu Xiao Yuying Xie Dongbai Xue Xiao Deng Xinbin Cheng Tongbao Li 《Chinese Physics B》 2025年第2期82-88,共7页
Traceability is the fundamental premise of all metrological activities. The establishment of a traceability chain characterized by a shortened structure, while simultaneously enabling on-site traceability, represents ... Traceability is the fundamental premise of all metrological activities. The establishment of a traceability chain characterized by a shortened structure, while simultaneously enabling on-site traceability, represents a key trend in the advancement of metrology. This study explores the periodic accuracy and overall uniformity of self-traceable gratings, employing multilayer film gratings with a nominal period of 25.00 nm as the medium. We present a comparative analysis of measurement capabilities in a self-traceable grating calibration system characterized by a ‘top-down’ calibration approach and a Si lattice constant calibration system characterized by a ‘bottom-up’ calibration approach. The results indicate that the values obtained for the multilayer film grating periods, calibrated using the self-traceable grating system, are 24.40 nm with a standard deviation of 0.11 nm. By comparing with the values derived from the Si lattice constant, which yield 24.34 nm with a standard deviation of 0.14 nm, the validity and feasibility of the self-traceable calibration system are confirmed. This system extends and complements existing metrological frameworks, offering a precise pathway for traceability in precision engineering and nanotechnology research. 展开更多
关键词 NANOMETROLOGY self-traceable standard material Si lattice constant
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1064nm高反射薄膜激光损伤阈值测量方法 被引量:11
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作者 周刚 马彬 +5 位作者 焦宏飞 丁涛 张锦龙 沈正祥 程鑫彬 王占山 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第4期963-968,共6页
参照国际上对激光损伤阈值不同测量技术建立起来的相应检测规范和标准,分别采用1-on-1,S-on-1,R-on-1和光栅扫描共4种测量方式,在1 064 nm波长下对HfO2/SiO2周期性高反射薄膜进行了激光损伤阈值的测量研究。根据测量结果,比较并分析了这... 参照国际上对激光损伤阈值不同测量技术建立起来的相应检测规范和标准,分别采用1-on-1,S-on-1,R-on-1和光栅扫描共4种测量方式,在1 064 nm波长下对HfO2/SiO2周期性高反射薄膜进行了激光损伤阈值的测量研究。根据测量结果,比较并分析了这4种测量方式之间的差异,重点研究了R-on-1和光栅扫描测量方式中存在的激光预处理效应对薄膜损伤阈值的影响,以及辐照激光光斑尺寸与损伤阈值之间的联系,并讨论了光栅扫描方式中预处理效应与扫描间距和扫描能量密度梯度的关系。研究表明:R-on-1方式下测得的损伤阈值最高,光栅扫描和1-on-1次之,S-on-1最小;1 000个脉冲激光辐照下的累积效应不显著,并且在激光光斑尺寸的差异较小时,阈值与光斑尺寸的对应关系并不明显;光斑尺寸相同时,扫描光斑的间距越小,激光预处理效果越好。 展开更多
关键词 高反射薄膜 激光损伤阈值 激光预处理 光斑尺寸 光栅扫描
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离子束辅助沉积薄膜工艺 被引量:22
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作者 王利 程鑫彬 +2 位作者 王占山 唐骐 范滨 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2007年第6期896-898,共3页
阐述了离子源在离子束清洗和离子束辅助薄膜沉积(IAD)中的应用;根据热力学原理及离子碰撞过程分析,研究了离子束辅助沉积过程中的能量传递过程,建立了薄膜折射率与离子辅助沉积过程中各物理量之间的关系模型;探讨了各种工艺条件对离子... 阐述了离子源在离子束清洗和离子束辅助薄膜沉积(IAD)中的应用;根据热力学原理及离子碰撞过程分析,研究了离子束辅助沉积过程中的能量传递过程,建立了薄膜折射率与离子辅助沉积过程中各物理量之间的关系模型;探讨了各种工艺条件对离子束辅助沉积薄膜特性的影响,给出了薄膜材料无结晶条件下离子束辅助沉积薄膜工艺选择的相应准则。 展开更多
关键词 离子束清洗 离子束辅助沉积 离子能量传递
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基于多层膜光栅的AFM探针结构表征研究 被引量:6
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作者 吴子若 蔡燕妮 +4 位作者 王星睿 张龙飞 邓晓 程鑫彬 李同保 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2020年第2期217-222,共6页
原子力显微镜是微纳米测量领域主要测量工具之一。由于原子力显微镜探针不可能无限尖锐,使得测量图像包含了一部分探针信息,这是其图像失真的一大影响因素。通过获取探针形状和尺寸,可以有效去除测量图像的"探针效应"从而提... 原子力显微镜是微纳米测量领域主要测量工具之一。由于原子力显微镜探针不可能无限尖锐,使得测量图像包含了一部分探针信息,这是其图像失真的一大影响因素。通过获取探针形状和尺寸,可以有效去除测量图像的"探针效应"从而提升准确度。文中以研制良好样品内一致性的探针校准器为目标,应用Si/SiO2多层膜光栅技术,初步研制了20 nm标称值的线宽结构用于原子力显微镜探针校准。表征结果显示,RFESP型(Rectangular Front Etched Silicon Probe)探针稳定扫描时探针前角由15°增加至36°左右,探针后角由25°增加至45°左右,呈现钝化趋势。由此表明,基于Si/SiO2多层膜光栅技术研制的线宽型探针表征器可以快速表征出探针侧壁角度信息,是原子力显微镜探针扫描过程中探针形貌快速监测和估计的有效手段,对于促进探针表征与图像准确度提升均具有重要意义。 展开更多
关键词 原子力显微镜 探针效应 探针校准器 多层膜光栅
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电子束蒸发SiO_2薄膜残余应力在不同湿度环境下的对比 被引量:4
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作者 叶晓雯 丁涛 +5 位作者 程鑫彬 沈正祥 王孝东 刘永利 鲍刚华 何文彦 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2012年第3期713-717,共5页
采用电子束蒸发方法在BK7基底上制备SiO2单层膜,通过台式探针轮廓仪分别测量了大气(45%RH)和干燥环境(5%RH)中不同沉积温度下制备的SiO2单层膜残余应力,同时使用分光光度计和原子力显微镜对样品的折射率和表面形貌进行研究。测试结果表... 采用电子束蒸发方法在BK7基底上制备SiO2单层膜,通过台式探针轮廓仪分别测量了大气(45%RH)和干燥环境(5%RH)中不同沉积温度下制备的SiO2单层膜残余应力,同时使用分光光度计和原子力显微镜对样品的折射率和表面形貌进行研究。测试结果表明:SiO2薄膜的残余应力在两个环境中均表现为压应力,且随沉积温度的升高均逐渐增大。干燥环境下与大气环境相比,应力值减小了约100MPa。此外,随沉积温度的升高,薄膜折射率不断增大,表面粗糙度逐渐减小。说明:随着沉积温度的变化,SiO2薄膜的微结构发生了改变。相应地,由水诱发的应力随薄膜致密度的增加而逐渐减小。 展开更多
关键词 SiO2单层膜 沉积温度 残余应力 由水诱发的应力 折射率 表面形貌
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清洗对偏振分光膜损伤阈值的影响 被引量:4
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作者 叶晓雯 王孝东 +4 位作者 程鑫彬 马彬 丁涛 沈正祥 王占山 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第10期2338-2342,共5页
采用微分干涉显微镜、扫描电镜和聚焦离子束观察了偏振分光膜损伤的形貌,从损伤机理出发,研究了清洗对偏振分光膜损伤阈值的影响。结果表明:清洗能有效去除表面杂质,清洗质量越好,基板上的杂质尺寸越小,杂质密度也越小,相应的偏振分光膜... 采用微分干涉显微镜、扫描电镜和聚焦离子束观察了偏振分光膜损伤的形貌,从损伤机理出发,研究了清洗对偏振分光膜损伤阈值的影响。结果表明:清洗能有效去除表面杂质,清洗质量越好,基板上的杂质尺寸越小,杂质密度也越小,相应的偏振分光膜S光的损伤阈值越高;清洗能有效去除基板表面的纳米吸收中心,吸收性杂质分布密度越小,吸收峰越低,P光的损伤阈值越高。 展开更多
关键词 偏振分光膜 清洗 弱吸收 损伤阈值 电子束蒸发
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光学表面功率谱密度的表征 被引量:5
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作者 张磊 程鑫彬 +1 位作者 张锦龙 王占山 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2015年第12期3707-3712,共6页
以硅基板镀制单层Hf O_2薄膜前后的表面微观形貌的变化为例,开展了光学表面功率谱密度的计算及表征研究。首先给出了一维功率谱密度(PSD_(1D))、二维功率谱密度(PSD_(2D))以及各向同性功率谱密度(PSD_(ISO))的计算方法和具体步骤。然后... 以硅基板镀制单层Hf O_2薄膜前后的表面微观形貌的变化为例,开展了光学表面功率谱密度的计算及表征研究。首先给出了一维功率谱密度(PSD_(1D))、二维功率谱密度(PSD_(2D))以及各向同性功率谱密度(PSD_(ISO))的计算方法和具体步骤。然后使用原子力显微镜测量了硅基板镀膜前后在1μm×1μm、5μm×5μm、10μm×10μm、20μm×20μm四种扫描尺寸下的表面轮廓。在此基础上使用MATLAB编程计算得到这四种扫描尺寸下的PSD_(ISO),对这些PSD_(ISO)使用几何平均算法拼接得到具有足够大频率范围的PSD_(ISO-Combined)。结果显示,硅基板镀膜前后的PSD_(ISO-Combined)在低频段基本相同,中高频段出现了明显差异。分析指出这是由镀膜后表面柱状晶体结构引起的。提出了对PSDISO在频域上积分得到表面均方根粗糙度σ_(ISO),再同由定义式计算得到的σ_(STD)作对比的方法。计算得到的σ_(ISO)与σ_(STD)基本相同,验证了PSD_(ISO)计算方法的准确性。 展开更多
关键词 表面微观形貌 功率谱密度 原子力显微镜
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不同工艺制备的人工节瘤的损伤生长特性 被引量:3
11
作者 马宏平 程鑫彬 +2 位作者 张锦龙 王占山 唐永建 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2017年第5期182-187,共6页
在高能激光系统中,反射膜的损伤生长特性和初始损伤一样重要。对薄膜损伤生长特性的研究将有助于探究反射膜损伤机制,从而进一步有效地提高其抗激光损伤能力。使用电子束蒸发(EB)和离子束辅助(IAD)两种工艺制备了1064nm波长下的Hf O2/Si... 在高能激光系统中,反射膜的损伤生长特性和初始损伤一样重要。对薄膜损伤生长特性的研究将有助于探究反射膜损伤机制,从而进一步有效地提高其抗激光损伤能力。使用电子束蒸发(EB)和离子束辅助(IAD)两种工艺制备了1064nm波长下的Hf O2/Si O2反射膜,利用四种尺寸的单分散的Si O2小球形成人工节瘤,来研究薄膜镀制工艺和节瘤尺寸对节瘤损伤生长特性的影响。激光损伤测试结果表明:节瘤损伤生长阈值基本随节瘤尺寸的增加而减小。EB工艺制备的反射膜中,四种尺寸节瘤的损伤生长阈值都高于其初始损伤阈值,而IAD工艺制备的反射膜中结果则相反。另外,IAD工艺要比EB工艺制备的反射膜中的节瘤在发生初始损伤后更易于损伤生长,说明薄膜镀制工艺对节瘤的损伤生长速度有一定的影响。 展开更多
关键词 人工节瘤 激光损伤 损伤生长 镀制工艺
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数据拟合点的截取对光腔衰荡法测量反射率的影响 被引量:5
12
作者 王利 程鑫彬 +2 位作者 王占山(指导) 唐骐 范滨 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2008年第5期871-873,共3页
利用光腔衰荡法测量反射率,探测器性能对衰荡信号的测量有很大影响,具有不同时间响应和灵敏度特性的探测器会得到不同的信号衰荡曲线起始点和信号淹没点。对于性能相同的探测器,在测量反射率不同的反射镜时,也会得到不同的信号淹没点。... 利用光腔衰荡法测量反射率,探测器性能对衰荡信号的测量有很大影响,具有不同时间响应和灵敏度特性的探测器会得到不同的信号衰荡曲线起始点和信号淹没点。对于性能相同的探测器,在测量反射率不同的反射镜时,也会得到不同的信号淹没点。在数据拟合过程中,截取不同的数据起始点和信号淹没点,会得到不同的衰荡时间,从而影响反射率的测量精度。对衰荡信号进行对数变换,首次利用χ2拟合对数据进行处理,通过对有效拟合数据与斜率误差关系的分析,得到了最佳拟合数据点截取的方法。实验证明:此方法可有效处理无效光信号和噪声信号的分界点,给出了衰减时间的数据截取依据,有助于改善时间衰荡法测试的精度和重复性。 展开更多
关键词 反射率 光腔衰荡 X^2拟合
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HfO_2薄膜折射率非均质性生长特性研究 被引量:1
13
作者 鲍刚华 程鑫彬 +2 位作者 焦宏飞 刘华松 王占山 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2015年第9期2761-2766,共6页
在加热的BK7基板上,采用电子束蒸发(EB)工艺制备了一系列不同厚度的Hf O2单层膜,对Hf O2薄膜生长过程中的折射率非均质性进行了研究。光谱分析表明薄膜非均质性与其厚度息息相关。X射线衍射(XRD)测试表明不同非均质性薄膜对应不同的微... 在加热的BK7基板上,采用电子束蒸发(EB)工艺制备了一系列不同厚度的Hf O2单层膜,对Hf O2薄膜生长过程中的折射率非均质性进行了研究。光谱分析表明薄膜非均质性与其厚度息息相关。X射线衍射(XRD)测试表明不同非均质性薄膜对应不同的微观结构;薄膜的微观结构主要由薄膜的生长机制决定。当膜厚较薄时,薄膜不易结晶,呈无定形态,此时薄膜呈正非均质性。如果沉积温度足够高,则薄膜达到一定厚度后开始结晶,此后薄膜折射率就会逐渐下降。随着薄膜继续生长,薄膜晶态结构保持恒定不再变化,非均质性也会因此保持不变达到极值。 展开更多
关键词 光学薄膜 电子束蒸发 HFO2薄膜 折射率非均质性
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基于时间控厚离子束溅射技术的宽带减反膜制备 被引量:1
14
作者 刘华松 王占山 +7 位作者 季一勤 沈正祥 马彬 程鑫彬 焦宏飞 陈德应 刘丹丹 宋洪君 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第2期407-411,共5页
为了制备满足设计要求的宽角度、宽波段减反膜,利用离子束溅射沉积技术,在时间-功率控厚的模式下,对膜层沉积速率进行了精确修正。在实验中,利用时间-功率控厚的离子束溅射沉积技术,选择HfO2和SiO2作为高低折射率组合,在超抛ZF6玻璃基... 为了制备满足设计要求的宽角度、宽波段减反膜,利用离子束溅射沉积技术,在时间-功率控厚的模式下,对膜层沉积速率进行了精确修正。在实验中,利用时间-功率控厚的离子束溅射沉积技术,选择HfO2和SiO2作为高低折射率组合,在超抛ZF6玻璃基底上制备了宽角度、宽带减反膜,通过对实验后的透过率光谱曲线的数值反演计算,获得膜层厚度修正系数,初步得到了沉积速率随沉积时间变化的规律。利用修正后的沉积参数制备设计的膜系,在0°-30°入射角度下,600-1 200 nm波段的平均透过率达到99%以上。 展开更多
关键词 宽带减反膜 离子束溅射 时间-功率控厚 膜层厚度修正
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高损伤阈值三倍频分离膜 被引量:1
15
作者 王孝东 张锦龙 +3 位作者 马彬 焦宏飞 丁涛 程鑫彬 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第7期1882-1884,共3页
设计了Nd:YAG激光用三倍频分离膜,膜层材料为SiO2和HfO2。经过优化,膜系在355 nm处的反射率在99%以上,在532 nm和1 064 nm处透射率也在99%以上。采用电子束蒸发技术,在熔融石英基底上制备了样品,经测量,制备的分离膜光学性能与设计值接... 设计了Nd:YAG激光用三倍频分离膜,膜层材料为SiO2和HfO2。经过优化,膜系在355 nm处的反射率在99%以上,在532 nm和1 064 nm处透射率也在99%以上。采用电子束蒸发技术,在熔融石英基底上制备了样品,经测量,制备的分离膜光学性能与设计值接近。分离膜在355 nm激光辐照下的损伤阈值为5.1 J/cm2,并用微分干涉显微镜表征了薄膜损伤形貌。 展开更多
关键词 三倍频分离膜 电子束蒸发 激光损伤阈值 光学薄膜
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近红外激光薄膜的损伤特性与抗损伤性能提升研究
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作者 焦宏飞 张学敏 +3 位作者 程鑫彬 张锦龙 马彬 王占山 《上海航天》 CSCD 2018年第1期1-8,共8页
在充分理解纳秒脉冲激光作用下近红外激光薄膜的损伤机制的基础上,分别针对反射元件和透射元件的损伤特点,探讨了两种元件的激光损伤规律,提出了有效提升近红外激光薄膜抗激光损伤性能的方法。结果表明:对于反射元件,采用优化后的膜系... 在充分理解纳秒脉冲激光作用下近红外激光薄膜的损伤机制的基础上,分别针对反射元件和透射元件的损伤特点,探讨了两种元件的激光损伤规律,提出了有效提升近红外激光薄膜抗激光损伤性能的方法。结果表明:对于反射元件,采用优化后的膜系结构可以大大降低薄膜中由节瘤缺陷引起的电场增强效应,大幅提升损伤阈值2~3倍;对于透射元件,采用合理的刻蚀工艺可有效降低薄膜中的吸收缺陷,有效提升其损伤阈值约1.5倍。 展开更多
关键词 激光薄膜 激光损伤 损伤阈值 近红外 节瘤缺陷 吸收缺陷 反射元件 透射元件
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偏振分光膜中节瘤的激光损伤特性 被引量:4
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作者 阿卜杜萨拉木.图尼亚孜 程鑫彬 +2 位作者 鲍刚华 焦宏飞 王占山 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2015年第8期2461-2466,共6页
研究了1 064 nm Hf O2/Si O2偏振分光膜中节瘤的损伤特性。为了研究偏振分光膜中节瘤缺陷种子源粒径大小与损伤阈值之间的关系,在熔石英基板上植入了尺寸和密度可控的单分散性的Si O2小球,并采用电子束蒸发技术在熔石英基板上制备了1 06... 研究了1 064 nm Hf O2/Si O2偏振分光膜中节瘤的损伤特性。为了研究偏振分光膜中节瘤缺陷种子源粒径大小与损伤阈值之间的关系,在熔石英基板上植入了尺寸和密度可控的单分散性的Si O2小球,并采用电子束蒸发技术在熔石英基板上制备了1 064 nm Hf O2/Si O2偏振分光膜。为了便于损伤测试,节瘤缺陷密度控制在20~40 mm2左右,并采取旋涂的措施防止了Si O2小球团聚的现象。为了获得人工节瘤损伤能量的统计值,用脉宽为10 ns的1 064 nm脉冲激光进行了光栅扫描式损伤测试。实验结果表明在偏振分光膜中节瘤缺陷的损伤阈值随着种子源粒径的增大而单调下降。 展开更多
关键词 激光损伤 偏振分光膜 节瘤缺陷 人工节瘤
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几种紫外薄膜材料的光学及损伤特性分析 被引量:5
18
作者 张乾 焦宏飞 +2 位作者 程鑫彬 马彬 季一勤 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2014年第4期1230-1234,共5页
为进一步改善大型固体激光器3倍频用薄膜的光学及损伤特性,利用不同的测试方法系统对比研究了电子束蒸发方式制备的几种紫外薄膜的光学常数、晶体结构、表面粗糙度以及弱吸收和其激光损伤特性间的相互关系。研究表明:薄膜的弱吸收和其... 为进一步改善大型固体激光器3倍频用薄膜的光学及损伤特性,利用不同的测试方法系统对比研究了电子束蒸发方式制备的几种紫外薄膜的光学常数、晶体结构、表面粗糙度以及弱吸收和其激光损伤特性间的相互关系。研究表明:薄膜的弱吸收和其禁带宽度共同制约了其激光损伤阈值,而薄膜因晶相结构的产生而增大的表面粗糙度对其激光损伤阈值无影响。大弱吸收的薄膜其损伤表现为非常微小的吸收点向外扩张构成的较大的破坏点,而低弱吸收的薄膜其损伤则表现为瞬间吸收引起大的损伤。 展开更多
关键词 薄膜 光学性能 激光损伤
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基频HfO_2/SiO_2高反射薄膜激光损伤生长特性 被引量:2
19
作者 张艳云 马彬 +2 位作者 马宏平 焦宏飞 程鑫彬 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第9期2275-2280,共6页
以1064nm波长作用下的HfO2/SiO2高反射薄膜为研究对象,研究了高反射薄膜在损伤生长过程中分层剥落初始损伤结构的变化规律、损伤形貌特征和损伤生长阈值等特性。实验结果表明:分层剥落初始损伤结构的横向尺寸随激光能量密度的增加呈分... 以1064nm波长作用下的HfO2/SiO2高反射薄膜为研究对象,研究了高反射薄膜在损伤生长过程中分层剥落初始损伤结构的变化规律、损伤形貌特征和损伤生长阈值等特性。实验结果表明:分层剥落初始损伤结构的横向尺寸随激光能量密度的增加呈分段线性增长,破斑沿纵向拓展的损伤生长阈值是沿横向拓展的损伤生长阈值的2倍以上,初始损伤结构横向尺寸的生长率与能量密度呈指数关系,且生长阈值随着辐照次数的增加显著降低。 展开更多
关键词 HFO2 SiO2高反射薄膜 分层剥落 损伤生长 激光损伤阈值 横向尺寸
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节瘤缺陷激光损伤的研究进展 被引量:2
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作者 谢凌云 程鑫彬 +5 位作者 张锦龙 焦宏飞 马彬 丁涛 沈正祥 王占山 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第9期1-18,共18页
在近红外反射类激光薄膜中,节瘤缺陷是引起薄膜激光损伤的主要因素。为了提高激光薄膜的损伤阈值,对节瘤缺陷及其损伤特性进行研究具有重要意义。从"真实"节瘤缺陷和"人工"节瘤缺陷两个方面介绍节瘤缺陷的研究进展... 在近红外反射类激光薄膜中,节瘤缺陷是引起薄膜激光损伤的主要因素。为了提高激光薄膜的损伤阈值,对节瘤缺陷及其损伤特性进行研究具有重要意义。从"真实"节瘤缺陷和"人工"节瘤缺陷两个方面介绍节瘤缺陷的研究进展。基于"真实"节瘤缺陷的研究,建立了节瘤缺陷的结构特征,形成了节瘤缺陷损伤特性和损伤机制的初步认识,利用时域有限差分法(FDTD)模拟了电场增强,初步解释了节瘤缺陷的损伤机制,发明了抑制节瘤缺陷种子源的方法和激光预处理技术,减少了节瘤缺陷,提高了薄膜损伤阈值。但是"真实"节瘤缺陷的性质,如种子源尺寸、吸收性以及位置深度等,都难以控制和预测,难以开展节瘤缺陷损伤特性的系统和量化研究,致使关于节瘤缺陷损伤的科学认识尚有不足。基于"人工"节瘤缺陷的研究,可以实现节瘤缺陷损伤特性的系统、量化甚至单一因素研究,极大地提高了实验研究的效率和可靠性,获得了一系列定量损伤规律。"人工"节瘤缺陷的高度受控性使实验研究与理论模拟的可靠对比成为可能,"人工"节瘤缺陷的损伤形貌和FDTD电场模拟的直接比较实验不仅验证了时域有限差分法(FDTD)模拟电场的正确性,也进一步明确了电场增强是诱导节瘤缺陷损伤的主要机制。对节瘤缺陷的损伤机制有了更为深刻的认识后,人们开始调控节瘤缺陷的电场增强效应提高节瘤缺陷的损伤阈值,发展了宽角度反射薄膜技术和节瘤缺陷平坦化技术,抑制电场增强,提高损伤阈值。这扩展了控制节瘤缺陷的思路和方法,从原来单一的去除节瘤缺陷到调控节瘤缺陷,为进一步提高薄膜的损伤阈值开辟了新的方向和途径。 展开更多
关键词 真实节瘤 人工节瘤 激光损伤 损伤机制 调控方法
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