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单晶硅表面金字塔生长过程的实验研究
被引量:
8
1
作者
田嘉彤
冯仕猛
+5 位作者
王坤霞
徐华天
刘峰
黄建华
杨树泉
裴俊
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第10期1505-1508,共4页
在普通碱液中添加一种特殊的添加剂,在不同时间下对单晶硅表面进行刻蚀.用扫描电子显微镜观察样品表面形貌,结果显示:单晶硅片放入加入添加剂2mL的刻蚀液中,经过10min刻蚀后晶体表面零星出现大小不一的金字塔,并有大面积的平滑区;刻蚀15...
在普通碱液中添加一种特殊的添加剂,在不同时间下对单晶硅表面进行刻蚀.用扫描电子显微镜观察样品表面形貌,结果显示:单晶硅片放入加入添加剂2mL的刻蚀液中,经过10min刻蚀后晶体表面零星出现大小不一的金字塔,并有大面积的平滑区;刻蚀15min后金字塔大小趋向一致,平滑区面积缩小;刻蚀20min硅片表面形成平均尺寸为2~4μm金字塔绒面结构,并且均匀性好、覆盖率高;刻蚀25min后,进入过腐蚀阶段,金字塔出现变大的现象.研究表明:与传统碱腐蚀相比,添加剂可以缩短单晶硅刻蚀时间,并获得较为理想的绒面结构,在工业上应用可以降低生产成本和生产时间,提高生产率.
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关键词
单晶硅
微结构
绒面
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职称材料
表面钝化对多晶硅绒面形貌的影响
被引量:
6
2
作者
王坤霞
冯仕猛
+6 位作者
徐华天
单以洪
田嘉彤
黄建华
杨树泉
黄璐
周利荣
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第2期236-239,共4页
多晶硅表面制绒技术是太阳能光伏产业亟待突破的一个关键技术.本文根据多晶硅强酸制绒的基本原理,提出了表面活性剂钝化多晶硅表面以降低硅原子与酸反应速度从而改善多晶硅绒面形貌的方法.实验研究了不同含量的添加剂对酸液刻蚀多晶硅...
多晶硅表面制绒技术是太阳能光伏产业亟待突破的一个关键技术.本文根据多晶硅强酸制绒的基本原理,提出了表面活性剂钝化多晶硅表面以降低硅原子与酸反应速度从而改善多晶硅绒面形貌的方法.实验研究了不同含量的添加剂对酸液刻蚀多晶硅绒面形貌的影响,用扫描电镜观察对应的绒面结构,用积分反射仪测量其绒面的表面反射率.实验结果表明:加入活性剂后酸液能使多晶硅表面陷阱坑分布更加均匀,并且能有效消除产生漏电流的缺陷性深沟槽,样品表面反射率比较低,其表面反射率降低到21.5%.与传统酸液腐蚀的多晶硅绒面结构相比,陷阱坑密度明显增加,这种方法在多晶硅太阳电池的生产中是有价值的.
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关键词
多晶硅
绒面技术
陷光效应
反射率
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职称材料
题名
单晶硅表面金字塔生长过程的实验研究
被引量:
8
1
作者
田嘉彤
冯仕猛
王坤霞
徐华天
刘峰
黄建华
杨树泉
裴俊
机构
上海交通大学物理系
上海交通大学林洋太阳能光伏研发中心
上海航天技术研究院
上海神舟新能源发展有限公司
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第10期1505-1508,共4页
基金
上海航天基金(No.GC072003)资助
文摘
在普通碱液中添加一种特殊的添加剂,在不同时间下对单晶硅表面进行刻蚀.用扫描电子显微镜观察样品表面形貌,结果显示:单晶硅片放入加入添加剂2mL的刻蚀液中,经过10min刻蚀后晶体表面零星出现大小不一的金字塔,并有大面积的平滑区;刻蚀15min后金字塔大小趋向一致,平滑区面积缩小;刻蚀20min硅片表面形成平均尺寸为2~4μm金字塔绒面结构,并且均匀性好、覆盖率高;刻蚀25min后,进入过腐蚀阶段,金字塔出现变大的现象.研究表明:与传统碱腐蚀相比,添加剂可以缩短单晶硅刻蚀时间,并获得较为理想的绒面结构,在工业上应用可以降低生产成本和生产时间,提高生产率.
关键词
单晶硅
微结构
绒面
Keywords
Single crystal Si
Micro-structure
Textured structure
分类号
O472.1 [理学—半导体物理]
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职称材料
题名
表面钝化对多晶硅绒面形貌的影响
被引量:
6
2
作者
王坤霞
冯仕猛
徐华天
单以洪
田嘉彤
黄建华
杨树泉
黄璐
周利荣
机构
上海交通大学物理系
上海交通大学林洋太阳能光伏研发中心
上海航天技术研究院
上海神舟新能源发展有限公司
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第2期236-239,共4页
基金
上海航天基金(No.GC072003)资助
文摘
多晶硅表面制绒技术是太阳能光伏产业亟待突破的一个关键技术.本文根据多晶硅强酸制绒的基本原理,提出了表面活性剂钝化多晶硅表面以降低硅原子与酸反应速度从而改善多晶硅绒面形貌的方法.实验研究了不同含量的添加剂对酸液刻蚀多晶硅绒面形貌的影响,用扫描电镜观察对应的绒面结构,用积分反射仪测量其绒面的表面反射率.实验结果表明:加入活性剂后酸液能使多晶硅表面陷阱坑分布更加均匀,并且能有效消除产生漏电流的缺陷性深沟槽,样品表面反射率比较低,其表面反射率降低到21.5%.与传统酸液腐蚀的多晶硅绒面结构相比,陷阱坑密度明显增加,这种方法在多晶硅太阳电池的生产中是有价值的.
关键词
多晶硅
绒面技术
陷光效应
反射率
Keywords
Multi-crystalline silicon
Surface etching
Topography
Reflectance
分类号
TM914.4 [电气工程—电力电子与电力传动]
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职称材料
题名
作者
出处
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1
单晶硅表面金字塔生长过程的实验研究
田嘉彤
冯仕猛
王坤霞
徐华天
刘峰
黄建华
杨树泉
裴俊
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011
8
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
表面钝化对多晶硅绒面形貌的影响
王坤霞
冯仕猛
徐华天
单以洪
田嘉彤
黄建华
杨树泉
黄璐
周利荣
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
6
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职称材料
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