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拓展苏州水上旅游空间的构想 被引量:8
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作者 宋言奇 王赵云 《规划师》 2005年第6期35-38,共4页
苏州拥有得天独厚的水资源优势,但水上旅游相对滞后。苏州水上旅游空间需要拓展,这种拓展可以通过整合“五区鼎立”的旅游区、形成“双环同心”的水陆交通联动体系及形成“内辐六廊”的水廊等几个层面体现出来。
关键词 苏州水上旅游 旅游空间 水陆交通联动 水廊
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协同添加剂对电子电镀铜成核及镀层形貌与结构的影响机制
2
作者 金磊 王赵云 +1 位作者 杨防祖 詹东平 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2024年第8期119-128,共10页
基于以1-(2-吡啶偶氮)-2-萘酚(PAN)为协同添加剂、用于印制电路板(PCB)通孔均匀增厚的酸性硫酸铜电子电镀配方及工艺,通过电化学计时电流法阐明了单一添加剂及各添加剂间协同作用对铜电结晶过程的影响机制.聚乙二醇(PEG)破坏铜成核过程... 基于以1-(2-吡啶偶氮)-2-萘酚(PAN)为协同添加剂、用于印制电路板(PCB)通孔均匀增厚的酸性硫酸铜电子电镀配方及工艺,通过电化学计时电流法阐明了单一添加剂及各添加剂间协同作用对铜电结晶过程的影响机制.聚乙二醇(PEG)破坏铜成核过程,聚二硫丙烷磺酸钠(SPS)与PAN不影响铜成核行为的发生,PEG,SPS和PAN共同作用可进一步促进铜晶核的形成.通过电化学原位拉曼光谱从分子层面证实了添加剂PEG和SPS均可促进PAN在铜电极表面吸附.通过扫描电子显微镜分析了添加剂对铜镀层形貌的影响,只有SPS可细化铜镀层颗粒,PEG,SPS和PAN协同作用有利于获得颗粒更加细小且均匀的铜镀层.通过X射线衍射分析揭示了铜镀层晶面取向及添加剂吸附的晶面位点,PEG和PAN均易吸附于(111)晶面,抑制(220)晶面择优;而SPS易吸附于(220)晶面,促进(220)晶面择优.PEG和SPS共同作用可使铜沿着(111),(200)和(220)晶面生长,(200)为相对的择优晶面.3种添加剂间复杂的协同作用促使铜进一步沿(111)和(200)晶面择优生长. 展开更多
关键词 电子电镀铜 添加剂 成核 形貌 择优取向 协同作用
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探索汽车性能检测与汽车检测技术的发展
3
作者 施畅 宁建鑫 王赵云 《黑龙江科技信息》 2015年第32期103-,共1页
本文以汽车检测为切入点,分析探讨汽车性能检测重要性,对比我国与其它西方发达国家在汽车检测技术方面的差距,切实探讨如何推动汽车检测技术的发展,提高汽车检测技术水平。
关键词 汽车检测 重要性 发展 自动化 制度化 网络化
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高密度互连印制电路板孔金属化研究和进展 被引量:9
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作者 王赵云 金磊 +4 位作者 杨家强 李威青 詹东平 杨防祖 孙世刚 《电化学》 CAS CSCD 北大核心 2021年第3期316-331,共16页
孔金属化互连是印制电路板(PCB)高密度集成的核心制程之一,化学镀铜和电子电镀铜是实现孔金属化的关键技术。本文介绍HDI-PCB的概念和制作流程;综述化学镀铜和电子电镀铜孔金属化互连的研究和进展,包括溶液组成和操作条件的影响,添加剂... 孔金属化互连是印制电路板(PCB)高密度集成的核心制程之一,化学镀铜和电子电镀铜是实现孔金属化的关键技术。本文介绍HDI-PCB的概念和制作流程;综述化学镀铜和电子电镀铜孔金属化互连的研究和进展,包括溶液组成和操作条件的影响,添加剂及其相互作用机理,以及盲孔填充和通孔孔壁加厚机制;展望高密度互连印制电路板电子电镀基础研究及新技术发展方向。 展开更多
关键词 印制电路板 孔金属化 化学镀 电子电镀 添加剂
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电子电镀铜新体系中添加剂对铜电沉积及镀层结构的影响机制 被引量:1
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作者 李威青 金磊 +4 位作者 杨家强 王赵云 杨防祖 詹东平 田中群 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2021年第9期2919-2925,共7页
以低主盐浓度、弱碱性、复合配位的柠檬酸盐电子电镀铜新体系为研究对象,阐明了新型添加剂XNS(聚胺类化合物和含氮化合物的混合物)在新电沉积铜体系中的作用.恒电流沉积实验结果表明,添加剂XNS能够提高铜沉积的电流效率,特别是在2.0 A/d... 以低主盐浓度、弱碱性、复合配位的柠檬酸盐电子电镀铜新体系为研究对象,阐明了新型添加剂XNS(聚胺类化合物和含氮化合物的混合物)在新电沉积铜体系中的作用.恒电流沉积实验结果表明,添加剂XNS能够提高铜沉积的电流效率,特别是在2.0 A/dm^(2)电流密度下,添加剂XNS使铜沉积电流效率达到95.4%,提高了17.5%.电化学实验的结果表明,添加剂XNS改变了铜沉积的电极过程,由原来的两步单电子还原过程[Cu(Ⅱ)+e→Cu(Ⅰ)+e→Cu]转变为一步两电子还原过程[Cu(Ⅱ)+2e→Cu].虽然添加剂XNS呈现促进铜电沉积的特征,即还原电流增大,但铜镀层颗粒却更细小、更致密均匀.在2.0 A/dm2电流密度下,铜镀层晶体结构由无添加剂时的(111)晶面重构为高择优取向的(200)晶面. 展开更多
关键词 电子电镀铜 添加剂 复合配位体系 弱碱性低浓度工艺 晶面高择优取向
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5,5-二甲基乙内酰脲在化学镀铜中的作用 被引量:1
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作者 郑安妮 金磊 +5 位作者 杨家强 王赵云 李威青 杨防祖 詹东平 田中群 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2022年第8期232-236,共5页
在以酒石酸钾钠和乙二胺四乙酸二钠为双配位剂、甲醛为还原剂的化学镀铜液中,研究了5,5-二甲基乙内酰脲(DMH)在化学镀铜中的作用.化学镀铜实验结果表明,DMH提高了镀液的稳定性;扫描电子显微镜(SEM)结果表明,DMH使镀层颗粒尺寸减小,镀层... 在以酒石酸钾钠和乙二胺四乙酸二钠为双配位剂、甲醛为还原剂的化学镀铜液中,研究了5,5-二甲基乙内酰脲(DMH)在化学镀铜中的作用.化学镀铜实验结果表明,DMH提高了镀液的稳定性;扫描电子显微镜(SEM)结果表明,DMH使镀层颗粒尺寸减小,镀层光亮致密;紫外-可见光谱结果表明,DMH在镀液中与Cu(II)不发生强配位作用;线性伏安扫描结果表明,DMH在化学镀铜过程中能抑制Cu~+的产生或促进Cu~+快速还原,降低甲醛的氧化速率;X射线衍射(XRD)结果表明,在含和不含DMH化学镀铜液中,得到的铜镀层均呈现面心立方混晶结构的特征,且未出现Cu_(2)O夹杂衍射峰. 展开更多
关键词 化学镀铜 双配位剂体系 5 5-二甲基乙内酰脲 镀液稳定性
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半导体包封同步氧化还原技术 被引量:1
7
作者 刘红军 徐赛 +1 位作者 王赵云 任尚 《电子质量》 2022年第9期55-58,共4页
在半导体封装制程中,封装材料的防氧化一直是一大难题。尽管我们半导体组装环境使用高净化厂房,同时控制封装环境的氧含量,但半导体产品因氧化导致的可靠性问题依然很严峻,特别包封工序是以芯片为中心的核心结构由"裸身"到&qu... 在半导体封装制程中,封装材料的防氧化一直是一大难题。尽管我们半导体组装环境使用高净化厂房,同时控制封装环境的氧含量,但半导体产品因氧化导致的可靠性问题依然很严峻,特别包封工序是以芯片为中心的核心结构由"裸身"到"隐身"的最后一道重要关口,技术矛盾交汇点尤其突出。探索如何从半导体封装工艺制程预防氧化对提高半导体制造技术水平有积极意义,该文通过对现有工艺缺陷进行剖析,提出在产品包封工步中实施半导体包封同步氧化还原技术,对该领域问题提供具体的创新性的解决方案。 展开更多
关键词 氧化 可靠性 防氧化 分层 氧化还原
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高导热烧结银胶的可靠性研究 被引量:1
8
作者 刘红军 任尚 +1 位作者 王赵云 徐赛 《电子质量》 2022年第12期35-39,共5页
市场对功率半导体器件的导热和导电性能要求越来越高,经过调查评估找到了一款纳米级烧结银胶。对该纳米级烧结银胶的粘结强度、导电性、调入性和可靠性进行了研究,并与普通铅锡焊料及普通导电胶进行了对比分析,发现纳米级烧结银胶具备... 市场对功率半导体器件的导热和导电性能要求越来越高,经过调查评估找到了一款纳米级烧结银胶。对该纳米级烧结银胶的粘结强度、导电性、调入性和可靠性进行了研究,并与普通铅锡焊料及普通导电胶进行了对比分析,发现纳米级烧结银胶具备粘结强度超强、平均剪切强度稳定、导热导电性能高等特点,并且在经历严格的热应力和机械应力试验后,其粘结强度、导电导热性能保持稳定,没有下降的现象。因此,高导热纳米烧结银胶可作为导热性要求极高的高可靠性应用领域的一种理想材料。 展开更多
关键词 烧结银胶 剪切强度 导热率 可靠性 大功率
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亚硫酸盐无氰电沉积金新工艺及机制(英文)
9
作者 杨家强 金磊 +4 位作者 李威青 王赵云 杨防祖 詹东平 田中群 《电化学》 CAS CSCD 北大核心 2022年第7期86-93,共8页
直接以氯金酸作为主盐、羟基乙叉二膦酸(HEDP)作为镀液稳定剂和镀层细化剂、结合添加剂,组成亚硫酸盐无氰镀金新工艺;研究镀液稳定性、镀层形态及金电沉积机制。结果表明,HEDP可明显提升镀液稳定性;不含HEDP的亚硫酸盐镀金液中,镀层呈... 直接以氯金酸作为主盐、羟基乙叉二膦酸(HEDP)作为镀液稳定剂和镀层细化剂、结合添加剂,组成亚硫酸盐无氰镀金新工艺;研究镀液稳定性、镀层形态及金电沉积机制。结果表明,HEDP可明显提升镀液稳定性;不含HEDP的亚硫酸盐镀金液中,镀层呈棒状晶粒并随沉积时间延长而逐渐生长,导致镀层外观随镀层厚度增加由金黄色转变为红棕色。镀液含有HEDP时,金晶粒形态由棒状转变为棱锥状,且棱锥状晶粒随沉积时间延长生长速率较小,镀层厚度为1μm时仍呈现金外观。电化学实验表明金电沉积不经历成核过程。 展开更多
关键词 无氰镀金 亚硫酸金 羟基乙叉二膦酸 电沉积 金镀层
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