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磁控溅射法制备V掺杂Cu_3N薄膜研究 被引量:1
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作者 黄赛佳 侯雨轩 +4 位作者 侍宇雨 王志姣 杨柳青 杨建波 李兴鳌 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第4期4057-4060,4065,共5页
利用磁控溅射法成功制备了V掺杂Cu3N薄膜。XRD显示随着V掺入浓度的升高,薄膜的择优生长取向由(111)面向(100)面转变。SEM结果表明向Cu3N薄膜中掺入V,薄膜的晶体颗粒形态发生了变化。从对薄膜样品进行的光反射率、电阻率和显微硬度测试... 利用磁控溅射法成功制备了V掺杂Cu3N薄膜。XRD显示随着V掺入浓度的升高,薄膜的择优生长取向由(111)面向(100)面转变。SEM结果表明向Cu3N薄膜中掺入V,薄膜的晶体颗粒形态发生了变化。从对薄膜样品进行的光反射率、电阻率和显微硬度测试结果可以看出,薄膜中掺入适当浓度V对其光吸收、导电性和力学性能有一定程度的改善。 展开更多
关键词 V 掺杂 磁控溅射 反射率 电阻率
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山东省赤松林碳储量动态研究 被引量:6
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作者 矫兴杰 杜楠楠 +3 位作者 王志姣 陈君 常宗涛 姚明志 《山东林业科技》 2016年第3期63-68,共6页
通过对一类林业调查样地材料碳储量及碳密度的研究表明,天然林碳密度动态增长容许的材积空间为每公顷生长量区间(40.91dm3,427.59m3),时间动态区间为(8.35a,25.33a),30.87a平均年碳密度增长最快,15.43a当年碳密度增长最快。年降水量容... 通过对一类林业调查样地材料碳储量及碳密度的研究表明,天然林碳密度动态增长容许的材积空间为每公顷生长量区间(40.91dm3,427.59m3),时间动态区间为(8.35a,25.33a),30.87a平均年碳密度增长最快,15.43a当年碳密度增长最快。年降水量容许区间动态为(298.32mm,1115.13mm)。当赤松生长降雨量累积达2860.12mm时碳密度平均增长率最高,降雨量累积达1430.06mm时,碳密度当年增长速度最大。近自然林碳密度发生变化的材积每公顷每年容许区间动态为(82.69dm3,783.75m3),时间容许区间动态为(9.79a,32.43a),30.67a时年平均碳密度增长速度最快,15.33a时,当年碳密度增最快。年降雨量容许区间动态为(298.32mm,1115.13mm),累计降雨量达到2860.12mm时,年平均碳密度增长速度最快,累计达到1430.06mm时,当年碳密度增长最快,即水资源利用效率最高。 展开更多
关键词 阀值 限值 经验方程 解析木 年降雨量
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