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一种光存储用短波长偶氮染料金属螯合物的光谱学与热学特性研究 被引量:5
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作者 王双青 沈淑引 许慧君 《感光科学与光化学》 CSCD 2000年第2期184-187,共4页
设计合成一类与短波长 ( 635~ 650nm)半导体激光器相匹配用于有机光盘的光存储介质的偶氮染料金属螯合物 .测定了偶氮染料及其金属螯合物的紫外 可见光吸收光谱 ,采用分光光度法确定该金属螯合物的结构与组成 ,计算了它的稳定常数 .差... 设计合成一类与短波长 ( 635~ 650nm)半导体激光器相匹配用于有机光盘的光存储介质的偶氮染料金属螯合物 .测定了偶氮染料及其金属螯合物的紫外 可见光吸收光谱 ,采用分光光度法确定该金属螯合物的结构与组成 ,计算了它的稳定常数 .差热热重分析显示该金属螯合物具有较好的热学性能 ,有望可作为光记录介质 . 展开更多
关键词 偶氮金属螯合染料 光存储介质 络合物 热学性质
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一种偶氮染料金属螯合物薄膜的光学特性研究 被引量:2
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作者 王双青 沈淑引 +3 位作者 许慧君 顾冬红 尹津龙 唐晓东 《感光科学与光化学》 CSCD 1999年第4期338-342,共5页
An azo metal chelate compound with push pull electronic system was synthesized. Smooth thin films were prepared by spin coating. The absorption, transmission and reflection spectra of the films were measured. The opti... An azo metal chelate compound with push pull electronic system was synthesized. Smooth thin films were prepared by spin coating. The absorption, transmission and reflection spectra of the films were measured. The optical constant (complex refractive index N=n +i k ) of the film was determined using scanning ellipsometer, and the complex dielectric function ε as well as absorption coefficient α were then calculated. Dynamic optical recording test indicated that the azo metal chelate dye was a promising candidate as optical recording medium. 展开更多
关键词 偶氮染料 金属螯合物 光学特性 光记录介质
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先进光刻胶材料的研究进展 被引量:25
3
作者 许箭 陈力 +4 位作者 田凯军 胡睿 李沙瑜 王双青 杨国强 《影像科学与光化学》 CAS CSCD 北大核心 2011年第6期417-429,共13页
本文简述了光刻技术及光刻胶的发展过程,并对应用于193纳米光刻和下一代EUV光刻的光刻胶材料的研究进展进行了综述,特别对文献中EUV光刻胶材料的研发进行了较为详细的介绍,以期对我国先进光刻胶的研发工作有所帮助.
关键词 光刻胶 193nm光刻 EUV光刻 化学放大光刻胶 分子玻璃
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有机金属酞菁类化合物及其非线性光限幅特性 被引量:13
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作者 陈军 王双青 杨国强 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2015年第4期595-611,共17页
随着激光技术的快速发展,激光武器的性能也越来越优越,所造成的危害也越来越大,各国开始加大力度对激光防护材料进行研究.酞菁化合物具有限幅窗口宽、限幅效果明显、响应迅速等特点,是一类非常具有应用前景的光限幅材料.当前,制备出限... 随着激光技术的快速发展,激光武器的性能也越来越优越,所造成的危害也越来越大,各国开始加大力度对激光防护材料进行研究.酞菁化合物具有限幅窗口宽、限幅效果明显、响应迅速等特点,是一类非常具有应用前景的光限幅材料.当前,制备出限幅性能好、稳定性强的酞菁光限幅材料成为激光防护材料领域中的研究热点.本文评述和总结了近几年在酞菁光限幅材料方面开展的系统研究工作,首先介绍了酞菁化合物实现光限幅效应的机制,并在此基础上详细分析了影响光限幅效应的因素以及光限幅器件化过程对酞菁光物理和光限幅性能的影响机理.根据分析结果提出了在基础和应用研究方面存在的科学问题,指出了该类型光限幅材料面临的挑战和今后的重要发展方向. 展开更多
关键词 酞菁 非线性效应 光限幅机制 光限幅器件
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偶氮染料及其金属络合物的三阶非线性光学性质研究 被引量:8
5
作者 吴赛骏 钱卫 +4 位作者 夏宗炬 邹英华 王双青 沈淑引 许慧君 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第5期343-347,共5页
利用飞秒超外差光克尔方法测量了一种偶氮染料 (噻唑 -偶氮 -间二乙氨苯酚 )及其 Cu和 Co络合物的647mm波长三阶非线性光学系数的实部 ,所得的结果全是负值 .发现金属络合物中非线性光学特性巨大的增强 .利用一个二能级模型 ,将增强的... 利用飞秒超外差光克尔方法测量了一种偶氮染料 (噻唑 -偶氮 -间二乙氨苯酚 )及其 Cu和 Co络合物的647mm波长三阶非线性光学系数的实部 ,所得的结果全是负值 .发现金属络合物中非线性光学特性巨大的增强 .利用一个二能级模型 ,将增强的机制归结为由于金属络合物中电子的离域化导致的两个效应 ,即单光子共振的增强以及跃迁态之间偶极差的消弱 ,在 Co络合物中得到了分子有效二阶超极化率γeff为 10 - 2 9esu. 展开更多
关键词 偶氮染料 三阶非线性光学 金属络合物 飞秒超外差光克尔法
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高分辨率极紫外光刻胶的研究进展 被引量:5
6
作者 高佳兴 陈龙 +6 位作者 玉佳婷 郭旭东 胡睿 王双青 陈金平 李嫕 杨国强 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2021年第9期1138-1153,共16页
自集成电路芯片诞生半个多世纪以来,芯片尺寸在不断减少,以极紫外光刻为代表的光刻技术也有了显著的发展。同时,实现更高精度的光刻图案需要更加先进的光刻胶材料。传统的聚合物光刻胶材料因其相对分子质量大、高精度条纹易坍塌等缺陷... 自集成电路芯片诞生半个多世纪以来,芯片尺寸在不断减少,以极紫外光刻为代表的光刻技术也有了显著的发展。同时,实现更高精度的光刻图案需要更加先进的光刻胶材料。传统的聚合物光刻胶材料因其相对分子质量大、高精度条纹易坍塌等缺陷使其使用受到限制。以分子玻璃和无机金属配合物光刻胶为代表的相对分子质量小、结构均一的新型光刻胶材料在国内外得到了广泛发展。本文对现阶段新型极紫外光刻胶材料的发展现状和趋势做了评述。 展开更多
关键词 极紫外光刻 极紫外光刻胶 分子玻璃光刻胶 无机金属配合物光刻胶 光刻
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多线梯形内螺纹拉刀主要参数选择及其强度计算
7
作者 刘继安 王双青 《西安工业大学学报》 CAS 1989年第3期43-52,共10页
本文通过对六线梯形内螺纹拉刀的试制实践,提出设计拉刀切削部分主要参数的选择方法及拉刀强度的计算方法,可供多线内螺纹拉刀设计参考。
关键词 六线梯形内螺纹拉刀
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