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酸增殖剂研究进展 被引量：4
1
作者 王文君 张改莲 +1 位作者 王力元 余尚先 《感光科学与光化学》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2003年第4期296-302,共7页
本文综述了能有效提高化学增幅抗蚀剂体系感度的各种类型酸增殖剂及其酸增殖机理.对某些常用于光致抗蚀剂中的酸增殖剂的特性作了介绍.并对它们的应用前景、现存问题和改进方向进行了简单讨论和介绍.
关键词 化学增幅抗蚀剂 酸增殖剂 光致抗蚀剂 感度
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一种适用于193nm光刻胶的硫盐光产酸剂的制备与性质 被引量：10
2
作者 王文君 李华民 王力元 《感光科学与光化学》 EI CSCD 2005年第1期48-54,共7页
制备了一种阳离子含有萘基,阴离子分别为对 甲苯磺酸、甲磺酸及三氟甲磺酸的硫盐.它们有高的热解温度和在常用有机溶剂中较好的溶解性.测定了此类光产酸剂在水溶液及聚乙二醇固体膜层中的紫外吸收特性.结果表明,阴离子不含苯基时,在19... 制备了一种阳离子含有萘基,阴离子分别为对 甲苯磺酸、甲磺酸及三氟甲磺酸的硫盐.它们有高的热解温度和在常用有机溶剂中较好的溶解性.测定了此类光产酸剂在水溶液及聚乙二醇固体膜层中的紫外吸收特性.结果表明,阴离子不含苯基时,在193nm处有很好的透明性.考察了其在低压汞灯照射下的光解性质,在254nm附近的吸收峰随光解进行迅速减弱.此类光产酸剂适用于氟化氩激光(193nm)等的化学增幅型光致抗蚀剂. 展开更多
关键词 光产酸剂 光致抗蚀剂 化学增幅 硫鎓盐
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一种新型深紫外正型光致抗蚀剂材料的研究 被引量：2
3
作者 褚战星 程龙 +1 位作者 王文君 王力元 《感光科学与光化学》 EI CSCD 2006年第5期377-381,共5页
通过松香酸和丙烯酸的Diels-Alder反应得到了一种二酸———丙烯海松酸.丙烯海松酸有大的脂环结构和良好的成膜性,在固体膜层中,它可以和二乙烯基醚,如1,3-二乙烯氧基乙氧基苯,在加热条件下(80℃以上)发生反应,产物在稀碱水中难溶.这样... 通过松香酸和丙烯酸的Diels-Alder反应得到了一种二酸———丙烯海松酸.丙烯海松酸有大的脂环结构和良好的成膜性,在固体膜层中,它可以和二乙烯基醚,如1,3-二乙烯氧基乙氧基苯,在加热条件下(80℃以上)发生反应,产物在稀碱水中难溶.这样形成的产物在光产酸剂产生的强酸催化下,在温度高于100℃时,可以迅速分解,从而变成稀碱水易溶.因此,用此二酸、二乙烯基醚和产酸剂可组成一种正型的光致抗蚀剂,当用254 nm的低压汞灯曝光时,其感度在30 mJ/cm2以下. 展开更多
关键词 正型光致抗蚀剂 二乙烯基醚 丙烯海松酸 光产酸剂
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含碘鎓盐光产酸剂和增感染料的化学增幅型i-线正性光致抗蚀剂 被引量：1
4
作者 刘娟 孔繁荣 +1 位作者 余金星 王力元 《影像科学与光化学》 CAS CSCD 北大核心 2011年第6期430-437,共8页
4,4′-二甲苯基三氟甲磺酸碘鎓盐可以被染料增感,在365nm光照时分解产酸.尽管产生的酸与染料的胺基发生作用,依然能在后烘过程中催化缩醛聚合物酸敏基团的分解,但需要稍高的后烘温度和稍长的后烘时间.基于此,本文将酚醛树脂、缩醛聚合... 4,4′-二甲苯基三氟甲磺酸碘鎓盐可以被染料增感,在365nm光照时分解产酸.尽管产生的酸与染料的胺基发生作用,依然能在后烘过程中催化缩醛聚合物酸敏基团的分解,但需要稍高的后烘温度和稍长的后烘时间.基于此,本文将酚醛树脂、缩醛聚合物、碘鎓盐产酸剂和染料组成了一种新型的化学增幅型i-线正性光致抗蚀剂材料,在曝光量为100mJ/cm2时可得到分辨率为0.8μm的清晰图形.染料与鎓盐光产酸剂组成的感光体系具有很好的漂白性,改善了抗蚀剂材料的透明性. 展开更多
关键词 敏化剂 产酸剂 染料 正型 i-线抗蚀剂 酸解 缩醛聚合物
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纳米压印抗蚀剂研究进展 被引量：2
5
作者 霍永恩 贾越 王力元 《影像科学与光化学》 EI CAS CSCD 2008年第2期148-156,共9页
纳米压印是最有希望的下一代纳米成像技术之一.基于其机械压印原理,纳米压印技术可以实现的图形分辨率超越了在别的传统技术中由光衍射或粒子束散射造成的局限.本文介绍纳米压印技术的基本原理,回顾了近期纳米压印抗蚀剂的研究进展.对... 纳米压印是最有希望的下一代纳米成像技术之一.基于其机械压印原理,纳米压印技术可以实现的图形分辨率超越了在别的传统技术中由光衍射或粒子束散射造成的局限.本文介绍纳米压印技术的基本原理,回顾了近期纳米压印抗蚀剂的研究进展.对影响抗蚀剂性能的主要因素进行讨论,包括玻璃化转化温度/热稳定性、粘度/平均分子量、抗蚀性能等.分别介绍了热压印和紫外压印的常见抗蚀剂材料,这些抗蚀剂的主要部分包括聚甲基丙烯酸甲酯(PM-MA)、有机硅改性的聚(甲基)丙烯酸酯、聚酰胺酯、聚二甲基硅烷、聚乙烯基醚化合物、环氧树脂等,并给出这些抗蚀剂体系的优、缺点.本文还介绍了纳米压印抗蚀剂面临的主要问题,对纳米压印技术的优势和问题作了小结. 展开更多
关键词 纳米压印 抗蚀剂 成像
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水溶性光致抗蚀剂研究进展 被引量：2
6
作者 翟晓晓 褚战星 王力元 《感光科学与光化学》 EI CSCD 2007年第1期69-79,共11页
本文按传统光化学反应型和化学增幅型两种类型对近10年水溶性光致抗蚀剂的发展状况做了分类总结,并重点介绍了成像反应原理和各体系的优缺点.
关键词 水溶性光致抗蚀剂 化学增幅 正型 负型
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含POSS光刻胶材料研究进展 被引量：2
7
作者 尤凤娟 韩俊 +1 位作者 严臣凤 王力元 《影像科学与光化学》 CAS 2019年第5期465-472,共8页
光致抗蚀剂又称光刻胶,是微电子加工过程中的关键材料。多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)是一种具有规则的笼型结构的聚合物增强材料,由POSS改性的聚合物实现了有机-无机纳米杂化,POSS刚性结构的引入阻碍了聚合物分子的运动,可以显著提高聚... 光致抗蚀剂又称光刻胶,是微电子加工过程中的关键材料。多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)是一种具有规则的笼型结构的聚合物增强材料,由POSS改性的聚合物实现了有机-无机纳米杂化,POSS刚性结构的引入阻碍了聚合物分子的运动,可以显著提高聚合物的玻璃化转变温度(T g),降低聚合物的介电常数,提高聚合物的力学性能,也提高了含POSS光致抗蚀剂的耐蚀刻性。基于这些优点,含POSS的光刻胶材料得到广泛关注。本文对含POSS光刻胶的研究进展作了简要介绍。 展开更多
关键词 光致抗蚀剂 含POSS 光刻 耐蚀刻性
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染料增感过氧化酯体系引发的可见激光感光性高分子 被引量：1
8
作者 TSUGUO YAMAOKA YASUO NAKAMURA +3 位作者 KENICHI KOSEKI TSUTOMU SHIROSAKI 王力元 顾江楠 《感光科学与光化学》 CSCD 1991年第2期120-130,共11页
由过氧化物3,3′,4,4′-四叔丁基过氧碳酰二苯甲酮和香豆素酮染料所组成的光引发体系对可见光敏感,致使感光树脂可以用氩离子激光曝光。感光树脂的敏度有赖于基体树脂,当用聚N-乙烯基-2-吡咯烷酮为基体树脂时,对波长488nm的氩离子激光... 由过氧化物3,3′,4,4′-四叔丁基过氧碳酰二苯甲酮和香豆素酮染料所组成的光引发体系对可见光敏感,致使感光树脂可以用氩离子激光曝光。感光树脂的敏度有赖于基体树脂,当用聚N-乙烯基-2-吡咯烷酮为基体树脂时,对波长488nm的氩离子激光可获得0-01mJ/cm^2的高敏度。染料对过氧化物的敏化是由于电子从染料激发态转移到过氧化物而引起的。 展开更多
关键词 感光树脂 合成工艺 性能
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一种高感度深紫外正性化学增幅型抗蚀剂的制备
9
作者 吴立萍 胡凡华 +2 位作者 王倩倩 王菁 王力元 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第5期896-901,共6页
聚对羟基苯乙烯和环己基乙烯基醚反应得到缩醛保护的聚合物.该聚合物易溶于常见的有机溶剂,具有较好的热稳定性,在248 nm处透明性良好.该聚合物可与聚对羟基苯乙烯-甲基丙烯酸金刚烷基酯及二砜光产酸剂等组成一种三组分正性化学增幅型... 聚对羟基苯乙烯和环己基乙烯基醚反应得到缩醛保护的聚合物.该聚合物易溶于常见的有机溶剂,具有较好的热稳定性,在248 nm处透明性良好.该聚合物可与聚对羟基苯乙烯-甲基丙烯酸金刚烷基酯及二砜光产酸剂等组成一种三组分正性化学增幅型深紫外光致抗蚀剂,初步研究了该抗蚀剂的感光成像性能.采用Kr F激光(248 nm)曝光,在较低的后烘温度下,显影得到分辨率为180 nm的线条图形.显影后的留膜率在99%以上.在光致抗蚀剂体系中引入对羟基苯乙烯-金刚烷基甲基丙烯酸酯共聚物,可提高光刻胶材料的玻璃化转变温度,有利于其实际应用. 展开更多
关键词 光致抗蚀剂 深紫外 化学增幅 聚对羟基苯乙烯 缩醛
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1-取代-顺式-1,2-环己二醇单磺酸酯类酸增殖剂的合成和性质研究
10
作者 盛丽英 张颂培 王力元 《感光科学与光化学》 CSCD 2005年第5期389-393,共5页
用过氧化氢氧化烯烃得到顺式邻环己二醇,继而和对甲苯磺酰氯反应得到两种1-取代-顺式-1,2-环己二醇单磺酸酯.以溴酚兰作指示剂,用作者自己的方法定量测定了它们在聚乙二醇膜层中的酸解性能.结果表明,在光产酸剂所产酸作用下,在加热条件... 用过氧化氢氧化烯烃得到顺式邻环己二醇,继而和对甲苯磺酰氯反应得到两种1-取代-顺式-1,2-环己二醇单磺酸酯.以溴酚兰作指示剂,用作者自己的方法定量测定了它们在聚乙二醇膜层中的酸解性能.结果表明,在光产酸剂所产酸作用下,在加热条件下这些化合物发生分解并产酸.这两个磺酸酯的储存稳定性不是很好,在极性溶剂作用下易分解,限制了它们在化学增幅型成像材料中的应用. 展开更多
关键词 酸增殖剂 光产酸剂 光致抗蚀剂 磺酸酯
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