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在多层介质中电子深度剂量分布的计算 被引量:1
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作者 王传珊 许梦杰 +2 位作者 李志良 冯永祥 李盘林 《辐射研究与辐射工艺学报》 CAS CSCD 北大核心 1989年第4期50-52,41,共4页
本文研究了多层介质中电子束的能量沉积及深度剂量分布。将T.Tabata和R.Ito的EDMULT半经验算法程序在IBM-PC微机上对多层复合介质进行了扩展,提出了新的电子剂量分布的计算机程序——EDSC。
关键词 电子束 多层介质 深度剂量分布
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电子束吸收剂量的计算机模拟与测量值的比较 被引量:1
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作者 王传珊 罗文芸 +4 位作者 许梦杰 周树鑫 冯永祥 张利民 顾继青 《辐射研究与辐射工艺学报》 CAS CSCD 北大核心 1994年第4期209-213,共5页
介绍了电子束在多层吸收体中能量沉积半经验算法的计算机程序ED51D,一将热介石墨量热计对电子束深度剂量分布的实验测量值和ED510程序的计算值比较。在3%以内相符合,程序可以计算一到五层。
关键词 计算机模拟 热介石墨量热计 电子束吸收剂量
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快中子活化分析检测爆炸物方法研究 被引量:7
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作者 李欣年 郭俊鹏 +3 位作者 罗文芸 王传珊 方晓明 虞太六 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期343-347,共5页
叙述了快中子活化法检测隐蔽爆炸物的原理、方法及其优点。采用K-400高压倍加器产生的14 MeV快中子对TNT、黑索金、硝胺及土制炸药等4种炸药、10余种常见物品和用土壤层覆盖的TNT样品进行快中子活化分析,测定各种样品的氮氧含量,建立被... 叙述了快中子活化法检测隐蔽爆炸物的原理、方法及其优点。采用K-400高压倍加器产生的14 MeV快中子对TNT、黑索金、硝胺及土制炸药等4种炸药、10余种常见物品和用土壤层覆盖的TNT样品进行快中子活化分析,测定各种样品的氮氧含量,建立被测物单位质量氮和氧计数率的二维分布,取得了爆炸物识别特征区,并用计算机模式识别方法进行判别。结果表明,此方法误判率和漏判率较低。Monte-Carlo模拟结果显示,在距中子源15 m以外,基本无辐射剂量,被测物经检测1 h后,总剂量小于环境本底剂量。本方法可用于远程控制快中子活化多探测器阵列检测爆炸物。 展开更多
关键词 快中子活化分析 检测爆炸物 计算机辅助模式识别
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飞行器的抗辐射屏蔽方法研究 被引量:2
4
作者 查元梓 罗文芸 +2 位作者 王朝壮 徐加强 王传珊 《辐射研究与辐射工艺学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期205-208,共4页
空间辐射环境是飞行器失效的主要原因之一,由于空间辐射环境的复杂性,以及飞行器在空间活动的轨道和设计的寿命不同,飞行器需要的抗辐射屏蔽也不同。我们以卫星的地球同步轨道上的电子能谱,对卫星简化模型进行了抗辐射屏蔽的Monte-Carl... 空间辐射环境是飞行器失效的主要原因之一,由于空间辐射环境的复杂性,以及飞行器在空间活动的轨道和设计的寿命不同,飞行器需要的抗辐射屏蔽也不同。我们以卫星的地球同步轨道上的电子能谱,对卫星简化模型进行了抗辐射屏蔽的Monte-Carlo计算,并对计算结果进行了实验验证,在此基础上提出一种新的抗辐射屏蔽方法。 展开更多
关键词 电子束 飞行器 抗辐射屏蔽 蒙特卡罗模拟
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电子束注入PMMA空间电荷分布的Monte-Carlo模拟与实验验证 被引量:1
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作者 宫斌 张冶文 +3 位作者 郑飞虎 陈玲燕 徐加强 王传珊 《辐射研究与辐射工艺学报》 CAS CSCD 北大核心 2004年第5期289-292,共4页
精确控制和测量电子束注入样品后电荷量以及电荷的沉积分布,对于进行高压电力电缆材料的击穿以及航空器受到高能宇宙射线破坏的研究有着非常重要的意义。本工作结合空间电荷对固体电介质材料击穿影响的研究课题,利用Monte?Carlo方法模... 精确控制和测量电子束注入样品后电荷量以及电荷的沉积分布,对于进行高压电力电缆材料的击穿以及航空器受到高能宇宙射线破坏的研究有着非常重要的意义。本工作结合空间电荷对固体电介质材料击穿影响的研究课题,利用Monte?Carlo方法模拟计算了电子束注入聚甲基丙烯酸甲脂(PMMA)样品中电荷的沉积分布,并通过激光感应压力波法(LIPP)对电子束注入后的PMMA进行测量;实验验证计算结果,吻合较好,为以后实验参数的设计提供了重要依据。 展开更多
关键词 电子束注入 空间电荷分布 MONTE-CARLO方法
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MV级EPID成像中靶材料与厚度的优化选择 被引量:2
6
作者 周诗情 罗文芸 +5 位作者 董晓庆 潘夫兴 王传珊 吴国华 查元梓 蒋马伟 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第10期1276-1280,共5页
MV级电子射野成像系统(EPID)产生的图像相对于kV级对比度差,其中靶的材料和尺寸是一重要因素。采用Monte-Carlo软件包Geant4程序对6MV医用直线加速器进行模拟,对MV级EPID成像中靶材料与厚度进行优化选择。计算结果表明,低原子序数的薄... MV级电子射野成像系统(EPID)产生的图像相对于kV级对比度差,其中靶的材料和尺寸是一重要因素。采用Monte-Carlo软件包Geant4程序对6MV医用直线加速器进行模拟,对MV级EPID成像中靶材料与厚度进行优化选择。计算结果表明,低原子序数的薄靶有利于改善成像质量,在无均整器的情况下,3mm厚的Cu靶或10mm厚的Al靶更适用于6MV的电子射野成像系统。 展开更多
关键词 MONTE-CARLO方法 MV级 GEANT4 EPID
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MV级EPID成像系统中滤过板的应用
7
作者 石强 罗文芸 +5 位作者 周诗情 张靖 王传珊 吴国华 查元梓 蒋马伟 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第7期885-889,共5页
与kV级X射线成像相比,MV级电子射野影像系统(EPID)成像质量较差,图像模糊,影响患者图像定位和摆位验证的精确性。本文结合Monte Carlo模拟计算的方法,在不改变治疗靶的现有MV级EPID系统中,提出增加滤过板进行康普顿散射线的滤过,通过Mon... 与kV级X射线成像相比,MV级电子射野影像系统(EPID)成像质量较差,图像模糊,影响患者图像定位和摆位验证的精确性。本文结合Monte Carlo模拟计算的方法,在不改变治疗靶的现有MV级EPID系统中,提出增加滤过板进行康普顿散射线的滤过,通过Monte Carlo模拟、Matlab作图、临床实验,得出在6MV级EPID系统中,增加1层2mm厚铜材料的滤过板,有助于成像质量的改善。 展开更多
关键词 EPID 滤过板 MONTE CARLO模拟
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PREFERENTIAL SPUTTERING OF Cu_(76)Ni_(15)Sn_9
8
作者 王震遐 潘冀生 +5 位作者 章骥平 王传珊 罗文芸 周树鑫 张慧明 曾跃武 《Nuclear Science and Techniques》 SCIE CAS CSCD 1995年第1期22-27,共6页
Using collection film technique combined with Auger electron spectroscopy is analysis, the preferential sputtering of the ternary alloy Cu76Ni15Sn9 bombarded with 27 keV Ar+ at normal incidence is studied. After bomba... Using collection film technique combined with Auger electron spectroscopy is analysis, the preferential sputtering of the ternary alloy Cu76Ni15Sn9 bombarded with 27 keV Ar+ at normal incidence is studied. After bombardment, the target surfaCe is examined with SEM, and the surface composition of different topographical feature areas is measured with electron probe micrthanalyser (EPMA). The experiment results show that Cu atoms are preferentially ejected compared with Ni atoms, and Sn atoms come third within the ejection angle range from 0° to 60°. The results are discussed from the viewpoint of sputtering from a very rough surface. 展开更多
关键词 Auger electron spectroscopy TOPOGRAPHY Preferential sputtering Cu76 Ni15Sn9
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PREFERENTIAL SPUTTERING OF Cu76Ni15Sn9
9
作者 王震遐 潘冀生 +5 位作者 章骥平 王传珊 罗文芸 周树鑫 张慧明 曾跃武 《Nuclear Science and Techniques》 SCIE CAS CSCD 1995年第1期22-27,共页
Using collection film technique combined with Auger electron spectroscopy is analysis, the preferential sputtering of the ternary alloy Cu76Ni15Sn9 bombarded with 27 keV Ar+ at normal incidence is studied. After bomba... Using collection film technique combined with Auger electron spectroscopy is analysis, the preferential sputtering of the ternary alloy Cu76Ni15Sn9 bombarded with 27 keV Ar+ at normal incidence is studied. After bombardment, the target surfaCe is examined with SEM, and the surface composition of different topographical feature areas is measured with electron probe micrthanalyser (EPMA). The experiment results show that Cu atoms are preferentially ejected compared with Ni atoms, and Sn atoms come third within the ejection angle range from 0° to 60°. The results are discussed from the viewpoint of sputtering from a very rough surface. 展开更多
关键词 AUGER ELECTRON spectroscopy TOPOGRAPHY Preferential SPUTTERING Cu76 Ni15Sn9
全文增补中
MOS结构的质子辐照效应
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作者 顾美渔 邢强华 +1 位作者 王传珊 周树鑫 《辐射研究与辐射工艺学报》 CAS CSCD 北大核心 1992年第4期207-210,共4页
利用微分电容法和禁带中央电压漂移技术,研究了铝栅MOS结构质子辐照诱发的新生界面陷阱和氧化层陷阱结构。结果表明,质子辐照所诱发的新生界面陷阱和氧化层陷阱随质子能量和剂量的增加而增加。用H^+二级过程模型和计算机模拟定性解释了... 利用微分电容法和禁带中央电压漂移技术,研究了铝栅MOS结构质子辐照诱发的新生界面陷阱和氧化层陷阱结构。结果表明,质子辐照所诱发的新生界面陷阱和氧化层陷阱随质子能量和剂量的增加而增加。用H^+二级过程模型和计算机模拟定性解释了实验结果。 展开更多
关键词 质子 辐射效应 MOS集成电路
全文增补中
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