期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
气相辅助电沉积法低温制备CH_3NH_3PbI_3钙钛矿薄膜的研究 被引量:1
1
作者 涂丽敏 郭巧能 +6 位作者 江亚晓 李海涛 李少华 李文标 潘玲 陈永生 杨仕娥 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第2期302-307,320,共7页
采用低成本的气相辅助电沉积方法(vapor-assisted electro-deposition,VAED)成功制备了面积为15 cm^2均匀致密的钙钛矿薄膜。首先通过电化学沉积制备PbO_2薄膜,然后与HI气体反应得到PbI_2薄膜,接下来再与HI和CH3NH2混合气体反应,得到CH_... 采用低成本的气相辅助电沉积方法(vapor-assisted electro-deposition,VAED)成功制备了面积为15 cm^2均匀致密的钙钛矿薄膜。首先通过电化学沉积制备PbO_2薄膜,然后与HI气体反应得到PbI_2薄膜,接下来再与HI和CH3NH2混合气体反应,得到CH_3NH_3PbI_3薄膜。实验发现:电化学沉积电压对PbO_2薄膜的表面形貌和微结构有重要影响;在PbO_2向PbI_2的转化过程中,随着反应时间的减小,PbI_2的结晶性逐渐增强,最佳反应时间为10 min;在钙钛矿的转化过程中,当HI/CH_3NH_2体积比为1∶2时可获得均匀致密、四方相的钙钛矿薄膜。本研究提供了一种低温制备大面积均匀CH_3NH_3PbI_3薄膜的方法,得到的CH_3NH_3PbI_3薄膜可望在光电器件中得到应用。 展开更多
关键词 CH3NH3PbI3薄膜 气相辅助电沉积法 低温 大面积
在线阅读 下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部