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改进型抗单粒子效应D触发器 被引量:4
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作者 赵金薇 沈鸣杰 程君侠 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2007年第1期26-28,32,共4页
在对抗单粒子效应技术研究的基础上,构造了一种改进型的抗单粒子翻转和单粒子瞬变的主从型边沿D触发器。该D触发器在不影响设计流程的情况下能使得整个芯片都具有抗单粒子效应,并有效改善了以往由于引入抗辐射设计而导致芯片面积大幅度... 在对抗单粒子效应技术研究的基础上,构造了一种改进型的抗单粒子翻转和单粒子瞬变的主从型边沿D触发器。该D触发器在不影响设计流程的情况下能使得整个芯片都具有抗单粒子效应,并有效改善了以往由于引入抗辐射设计而导致芯片面积大幅度提高的问题。 展开更多
关键词 抗辐射加固 单粒子效应 单粒子翻转 单粒子瞬变 D触发器
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22nm FDSOI工艺SRAM单粒子效应的重离子实验研究 被引量:2
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作者 赵雯 赵凯 +4 位作者 陈伟 沈鸣杰 王坦 郭晓强 贺朝会 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第3期537-545,共9页
针对22 nm全耗尽绝缘体上硅(FDSOI)工艺静态随机存储器(SRAM)开展了重离子实验,对比了不同加固设计的FDSOI SRAM的抗单粒子翻转(SEU)和多单元翻转(MCU)能力,分析了读写错误致存储阵列MCU的效应表征和作用机制,揭示了衬底偏置对FDSOI SRA... 针对22 nm全耗尽绝缘体上硅(FDSOI)工艺静态随机存储器(SRAM)开展了重离子实验,对比了不同加固设计的FDSOI SRAM的抗单粒子翻转(SEU)和多单元翻转(MCU)能力,分析了读写错误致存储阵列MCU的效应表征和作用机制,揭示了衬底偏置对FDSOI SRAM SEU敏感性的影响机理。研究结果表明:对5款被测FDSOI SRAM而言,抗SEU能力由弱到强依次为八管加固型SRAM2、冗余加固型SRAM1、双互锁结构(DICE)型SRAM3或SRAM4、双DICE型SRAM5;3款DICE型FDSOI SRAM的存储阵列自身抗MCU性能优于其他两款SRAM;虽然DICE型FDSOI SRAM的存储阵列自身抗MCU能力强,但读写错误致存储阵列MCU的影响不可忽略,且该影响随SRAM工作频率的提高愈加严重;衬底偏置通过对寄生双极放大效应的控制来影响FDSOI SRAM的SEU敏感性。 展开更多
关键词 单粒子效应 重离子 全耗尽绝缘体上硅 静态随机存储器
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浮栅器件和普通NMOS器件总剂量效应对比研究 被引量:3
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作者 董艺 沈鸣杰 刘岐 《航天器环境工程》 2018年第5期468-472,共5页
为深入了解应用NOR Flash工艺的多种器件的总剂量特性,特别是浮栅器件的特殊总剂量效应,开展了浮栅器件和多种NMOS器件总剂量效应的对比试验。基于器件级测试芯片,进行了多种剂量的总剂量试验和高温退火试验,分析了不同器件在总剂量辐... 为深入了解应用NOR Flash工艺的多种器件的总剂量特性,特别是浮栅器件的特殊总剂量效应,开展了浮栅器件和多种NMOS器件总剂量效应的对比试验。基于器件级测试芯片,进行了多种剂量的总剂量试验和高温退火试验,分析了不同器件在总剂量辐照下的不同特性,所关注的特性包括器件的漏电流变化和阈值电压变化。通过试验发现浮栅器件受总剂量辐照后会产生弱编程效应且该效应无法通过退火恢复。这一研究成果为抗辐射Flash产品的抗总剂量加固设计提供了依据。 展开更多
关键词 Flash工艺 浮栅器件 NMOS器件 总剂量效应 漏电流 阈值电压
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电离总剂量效应对浮栅型Flash存储器擦写耐久与数据保持特性的影响研究 被引量:2
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作者 刘岐 沈鸣杰 董艺 《航天器环境工程》 2019年第3期264-270,共7页
文章通过电离总剂量效应、擦写循环和数据保持试验及其叠加试验,研究了总剂量效应对浮栅型Flash存储器擦写耐久和数据保持特性的影响。对较高总剂量(150 krad(Si))和含动态偏置在内的多种偏置条件进行了评估。结果表明:总剂量效应对擦... 文章通过电离总剂量效应、擦写循环和数据保持试验及其叠加试验,研究了总剂量效应对浮栅型Flash存储器擦写耐久和数据保持特性的影响。对较高总剂量(150 krad(Si))和含动态偏置在内的多种偏置条件进行了评估。结果表明:总剂量效应对擦写特性的影响较小,甚至可以忽略;总剂量效应对数据保持的影响主要表现在辐射致电荷泄漏,若总剂量效应试验后刷新数据,则其影响几乎可以忽略。为了减小辐射致电荷泄漏对数据保持的影响,在系统级应用上建议增加数据刷新次数。 展开更多
关键词 浮栅型Flash存储器 电离总剂量效应 擦写耐久 数据保持 可靠性 试验研究
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超薄全耗尽SOI器件的总剂量效应研究 被引量:3
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作者 李宁 赵凯 沈鸣杰 《集成电路应用》 2019年第9期20-22,共3页
研究了基于超薄SOI(UTSOI)的MOSFET总剂量辐照效应。研究主要基于晶体管的三个工作状态(ON状态、OFF状态、TG状态)和不同的背栅偏置条件进行了总剂量辐照试验。试验结果表明,采用超薄SOI材料制造的MSOFET,由总剂量辐照导致阈值漂移现象... 研究了基于超薄SOI(UTSOI)的MOSFET总剂量辐照效应。研究主要基于晶体管的三个工作状态(ON状态、OFF状态、TG状态)和不同的背栅偏置条件进行了总剂量辐照试验。试验结果表明,采用超薄SOI材料制造的MSOFET,由总剂量辐照导致阈值漂移现象有所减弱。其中,OFF状态为最劣辐照条件。此外,背栅偏置条件对于MSOFET的性能也造成了较大的影响,NMSOFET在背栅正偏时,会导致阈值电压的降低从而提高器件的驱动电流,改善电路性能;而PMOSFET则在背栅负偏时出现类似的现象。 展开更多
关键词 集成电路 SOI 全耗尽 总剂量辐照 NMOSFET
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