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负偏压对高界面强度类金刚石薄膜制备的影响
被引量：
1
1
作者
郑锦华
李志雄
+1 位作者
刘青云
梅诗阳
《材料工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2023年第10期93-100,共8页
为解决类金刚石(DLC)薄膜与金属基材间的界面结合强度和厚膜化问题,提出一种使用a-Si:C:H键合层和H-DLC过渡层的新工艺。利用直流等离子体增强化学气相沉积(DC-PECVD)方法,在45钢基材上沉积不同负偏压条件下的复合DLC薄膜,并对薄膜的厚...
为解决类金刚石(DLC)薄膜与金属基材间的界面结合强度和厚膜化问题,提出一种使用a-Si:C:H键合层和H-DLC过渡层的新工艺。利用直流等离子体增强化学气相沉积(DC-PECVD)方法,在45钢基材上沉积不同负偏压条件下的复合DLC薄膜,并对薄膜的厚度、表面粗糙度、结构成分、残余应力、膜基结合力以及摩擦学性能进行测定和分析。结果表明:当顶层薄膜的制备负偏压从600 V增加至1200 V时,薄膜表面粗糙度增大,总膜厚增加,最大达到16.3μm;薄膜中的残余应力呈增大趋势,结合力减小;薄膜的平均磨损率增大,耐磨性逐渐下降。顶层薄膜制备负偏压为600 V时,复合DLC薄膜的综合性能最优,结合力达到了54.6 N,平均磨损率为1.5×10^(-16) m^(3)/(N·m),使45钢的耐磨性提高了30倍。
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关键词
H-DLC
界面强度
直流等离子体增强化学气相沉积
负偏压
摩擦磨损
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职称材料
磁场及靶基距对CrAlN薄膜性能的影响
被引量：
1
2
作者
郑锦华
梅诗阳
+1 位作者
李志雄
刘青云
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2023年第18期2627-2635,共9页
为了改善CrAlN薄膜与基材间的结合强度,提高其耐磨性能。利用阴极弧溅射技术,在45钢基材上沉积了CrAlN薄膜。分析了磁场和靶基距对CrAlN薄膜性能的作用机理,考察了磁场对薄膜的厚度、表面形貌、结合力以及耐磨性能的影响,同时与无磁场...
为了改善CrAlN薄膜与基材间的结合强度,提高其耐磨性能。利用阴极弧溅射技术,在45钢基材上沉积了CrAlN薄膜。分析了磁场和靶基距对CrAlN薄膜性能的作用机理,考察了磁场对薄膜的厚度、表面形貌、结合力以及耐磨性能的影响,同时与无磁场时沉积的薄膜进行了对比。结果表明:薄膜膜厚、表面粗糙度、液滴沉积尺寸及数量随着靶基距增大而减小;相较于无磁场样品,有磁场样品的表面粗糙度更小,曲率半径更大,结合力得到了提高。有磁场时界面结合力约为60 N,且随着靶基距变化不大,而无磁场时结合力变化较大。两者在同条件下对比,结合力提高了20%~80%不等;薄膜摩擦系数与磨损率随靶基距增大而减小,同靶基距时有磁场样品的摩擦系数及磨损率较小。当存在磁场且靶基距在160~180 mm时,沉积的CrAlN薄膜性能最优。该研究结果为制备具有更高性能的CrAlN薄膜提供了重要参考。
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关键词
磁场
靶基距
液滴
结合力
磨损率
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职称材料
题名
负偏压对高界面强度类金刚石薄膜制备的影响
被引量：
1
1
作者
郑锦华
李志雄
刘青云
梅诗阳
机构
郑州大学机械与动力工程学院
河南晶华膜技真空科技有限公司
中国原子能科学研究院
出处
《材料工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2023年第10期93-100,共8页
基金
焦作市创新创业领军团队资助项目(2019TD007)
河南省“百人计划”资助项目(豫人才办[2015]4号)。
文摘
为解决类金刚石(DLC)薄膜与金属基材间的界面结合强度和厚膜化问题,提出一种使用a-Si:C:H键合层和H-DLC过渡层的新工艺。利用直流等离子体增强化学气相沉积(DC-PECVD)方法,在45钢基材上沉积不同负偏压条件下的复合DLC薄膜,并对薄膜的厚度、表面粗糙度、结构成分、残余应力、膜基结合力以及摩擦学性能进行测定和分析。结果表明:当顶层薄膜的制备负偏压从600 V增加至1200 V时,薄膜表面粗糙度增大,总膜厚增加,最大达到16.3μm;薄膜中的残余应力呈增大趋势,结合力减小;薄膜的平均磨损率增大,耐磨性逐渐下降。顶层薄膜制备负偏压为600 V时,复合DLC薄膜的综合性能最优,结合力达到了54.6 N,平均磨损率为1.5×10^(-16) m^(3)/(N·m),使45钢的耐磨性提高了30倍。
关键词
H-DLC
界面强度
直流等离子体增强化学气相沉积
负偏压
摩擦磨损
Keywords
H-DLC
interfacial strength
DC-PECVD
negative bias voltage
friction and wear
分类号
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
磁场及靶基距对CrAlN薄膜性能的影响
被引量：
1
2
作者
郑锦华
梅诗阳
李志雄
刘青云
机构
郑州大学机械与动力工程学院热能系统节能技术与装备教育部工程研究中心
河南晶华膜技真空科技有限公司
中国原子能科学研究院
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2023年第18期2627-2635,共9页
基金
焦作市创新创业领军团队资助项目(No.2019TD007)
河南省“百人计划”资助项目(豫人才办[2015]4号)。
文摘
为了改善CrAlN薄膜与基材间的结合强度,提高其耐磨性能。利用阴极弧溅射技术,在45钢基材上沉积了CrAlN薄膜。分析了磁场和靶基距对CrAlN薄膜性能的作用机理,考察了磁场对薄膜的厚度、表面形貌、结合力以及耐磨性能的影响,同时与无磁场时沉积的薄膜进行了对比。结果表明:薄膜膜厚、表面粗糙度、液滴沉积尺寸及数量随着靶基距增大而减小;相较于无磁场样品,有磁场样品的表面粗糙度更小,曲率半径更大,结合力得到了提高。有磁场时界面结合力约为60 N,且随着靶基距变化不大,而无磁场时结合力变化较大。两者在同条件下对比,结合力提高了20%~80%不等;薄膜摩擦系数与磨损率随靶基距增大而减小,同靶基距时有磁场样品的摩擦系数及磨损率较小。当存在磁场且靶基距在160~180 mm时,沉积的CrAlN薄膜性能最优。该研究结果为制备具有更高性能的CrAlN薄膜提供了重要参考。
关键词
磁场
靶基距
液滴
结合力
磨损率
Keywords
magnetic field
target-substrate distance
droplet
binding force
wear rate
分类号
TG174.4 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
负偏压对高界面强度类金刚石薄膜制备的影响
郑锦华
李志雄
刘青云
梅诗阳
《材料工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2023
1
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
磁场及靶基距对CrAlN薄膜性能的影响
郑锦华
梅诗阳
李志雄
刘青云
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2023
1
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职称材料
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