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题名氧化工艺对真空电弧沉积TiN薄膜组织与性能的影响
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作者
谢光荣
曾鹏
胡社军
梁仕昌
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机构
广东工业大学材料与能源学院
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出处
《热加工工艺》
CSCD
北大核心
2003年第6期11-13,共3页
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基金
国家自然科学基金项目 (50 2 71 0 1 9)
广东省教育厅自然科学研究项目 (0 2 0 0 75)
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文摘
研究了各种氧化工艺对真空电弧沉积 Ti N薄膜组织与性能的影响。结果表明 ,Ti N薄膜在 4 0 0℃于不同时间整体氧化时 ,表面 Ti液滴和 Ti N相发生不同程度的氧化 ,转变成具有金红石型的 Ti O2 薄膜 ,提高了膜层表面的致密性 ,而 Ti N薄膜的整体组织结构未发生较大改变。随着氧化时间的延长 ,在 4 0 min后硬度才略有下降 ,内应力下降 ,膜层的结合力提高 ,并具有较好的耐磨性能。
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关键词
真空电弧沉积
TIN薄膜
氧化工艺
组织与性能
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Keywords
vacuum arc deposition
TiN film
oxidation processing
microstructure and properties
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分类号
TG174.444
[金属学及工艺—金属表面处理]
TG156.98
[金属学及工艺—热处理]
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