期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
金相制备工艺对纳米氧化锆涂层显微组织评定的影响
1
作者 李双月 常辉 +7 位作者 王俊哲 崔凤静 贾博文 栾胜家 张甲 徐娜 高明浩 常新春 《材料保护》 CAS CSCD 2024年第6期139-146,共8页
为制备出能够表征所分析样品真实状态的金相试样,从而对涂层的显微组织作出准确评价,以纳米氧化锆涂层为研究对象,采用不同镶嵌方式制备金相样品,基于正交试验研究不同磨抛工艺参数对涂层显微组织评定的影响,并通过纳米CT法测量涂层的... 为制备出能够表征所分析样品真实状态的金相试样,从而对涂层的显微组织作出准确评价,以纳米氧化锆涂层为研究对象,采用不同镶嵌方式制备金相样品,基于正交试验研究不同磨抛工艺参数对涂层显微组织评定的影响,并通过纳米CT法测量涂层的孔隙率,对其结果进行验证。结果表明:采用真空冷镶嵌方式可显著减少涂层颗粒的脱落,影响涂层孔隙率的因素从大到小排序依次为粗磨时研磨盘转数、粗磨时夹具转数、粗抛时间、研磨及粗抛时压力。优化后最佳磨抛工艺参数如下:研磨及粗抛时压力为15 N,粗磨时研磨盘转数为200 r/min,粗磨时夹具转数为50 r/min,粗抛时间为9 min。此工艺下涂层孔隙率为4.26%,显著减少了涂层颗粒的脱落,能够制备出反映涂层真实显微组织结构的金相样品,达到了准确评价涂层性能的目的。纳米CT法检测结果与本方法相符。 展开更多
关键词 纳米氧化锆涂层 金相制备 显微组织 孔隙率 纳米CT法
在线阅读 下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部