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不同摩擦副条件下二硫化钼薄膜的摩擦学性能研究被引量：2: 1; 作者冯兴国郑玉刚 +3 位作者汪科良杨拉毛草张凯锋周晖《真空与低温》 2024年第1期31-38,共8页; 为了研究MoS_(2)-Ti薄膜与9Cr18钢、W-DLC和DLC薄膜的摩擦学行为,分别采用磁控溅射技术和等离子体增强化学气相沉积技术在9Cr18钢表面沉积了MoS_(2)-Ti薄膜、W-DLC和DLC薄膜。用扫描电子显微镜(SEM)、能量色散谱仪(EDS)和X射线衍射仪(X... 展开更多; 关键词 MoS_(2)-Ti薄膜表面形貌硬度摩擦学性能; 在线阅读下载PDF 职称材料

氩气和氪气磁控溅射对Zr-Co-RE薄膜微观结构和吸氢性能的影响: 2; 作者周超马占吉 +3 位作者何延春杨拉毛草王虎李得天《真空与低温》 2024年第1期83-89,共7页; 为了获得吸气性能较好的Zr-Co-RE(RE为La和Ce稀土元素)吸气剂薄膜,采用直流磁控溅射方法,分别在氩气和氪气气氛中,通过改变沉积气压研究制备了不同结构的Zr-Co-RE薄膜。运用场发射扫描电镜、X射线衍射仪分析了不同溅射气压下溅射气氛对... 展开更多; 关键词 Zr-Co-RE薄膜直流磁控溅射氪气溅射气压微观结构吸氢性能; 在线阅读下载PDF 职称材料

同步脉冲偏压对低温制备的CrSiN薄膜结构及性能的影响研究被引量：1: 3; 作者贵宾华张腾飞 +6 位作者刘铭周晖马占吉杨拉毛草汪科良鲜昌卫蒋钊《真空与低温》 2024年第1期48-56,共9页; 利用高功率脉冲磁控溅射技术,研究了同步脉冲偏压对低温沉积的CrSiN薄膜的组织结构、力学、摩擦学及耐腐蚀性能的影响。研究表明,随着同步脉冲偏压升高,荷能离子轰击对薄膜表面的溅射作用增强,薄膜中的轻质元素含量略有下降,同时c-CrN(1... 展开更多; 关键词高功率脉冲磁控溅射同步脉冲偏压组织结构摩擦学性能耐腐蚀性能; 在线阅读下载PDF 职称材料

不同金属基体上W-C：H溅射薄膜的摩擦学性能被引量：1: 4; 作者郑军周晖 +2 位作者杨拉毛草张延帅翟广泉《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心 2015年第1期57-61,共5页; 采用非平衡磁控溅射技术在40Cr、9Cr18、GCr15、TC4及LY12等5种金属基体上沉积了钨掺杂含氢类金刚石（W-C：H）薄膜.采用Raman光谱仪、扫描电子显微镜、纳米硬度计及纳米划痕仪分别测试了薄膜的微结构、厚度、硬度及附着力,采用球-盘摩... 展开更多; 关键词 W-C:H薄膜摩擦学 PEPE润滑脂力学性能非平衡磁控溅射; 在线阅读下载PDF 职称材料

真空阴极电弧离子源磁场分析与设计被引量：2: 5; 作者蒋钊唐德礼 +5 位作者陈庆川周晖肖更竭郑军马占吉杨拉毛草《真空与低温》 2019年第3期194-201,共8页; 真空阴极电弧离子源是多弧离子镀膜设备的核心部件,直接影响镀膜系统的整体性能。真空阴极电弧离子源在工作时,大液滴发射是阻碍电弧离子镀技术广泛深入应用的瓶颈问题。合理设计并利用磁场可以很好地控制弧斑运动,大幅度地减少液滴、... 展开更多; 关键词真空阴极电弧离子源电弧放电弧斑磁场; 在线阅读下载PDF 职称材料

电子光学中四极场分布的半解析法计算: 6; 作者韩亮赵玉清 +1 位作者王炎武杨拉毛草《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第7期1203-1208,共6页; 采用一种新的半解析法,对电子光学中3种不同形状电极产生的四极场进行分析计算。半解析法中极点的确定方法简单有效,可以结合电极的形状填充等效源,并且极点位置确定极为精确。在四极场的计算中,该方法具有表达式简单,求解变量少,而且... 展开更多; 关键词电子光学四极场半解析法极点电位; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名不同摩擦副条件下二硫化钼薄膜的摩擦学性能研究被引量：2: 1; 作者冯兴国郑玉刚汪科良杨拉毛草张凯锋周晖; 机构兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室; 出处《真空与低温》 2024年第1期31-38,共8页; 文摘为了研究MoS_(2)-Ti薄膜与9Cr18钢、W-DLC和DLC薄膜的摩擦学行为,分别采用磁控溅射技术和等离子体增强化学气相沉积技术在9Cr18钢表面沉积了MoS_(2)-Ti薄膜、W-DLC和DLC薄膜。用扫描电子显微镜(SEM)、能量色散谱仪(EDS)和X射线衍射仪(XRD)研究了薄膜的表面形貌、化学成分和相组成。利用纳米压痕仪和球-盘摩擦试验机对不同薄膜的纳米硬度和摩擦学性能进行了分析。研究结果表明,MoS_(2)-Ti薄膜与DLC薄膜的摩擦因数和磨损率最小。相比MoS_(2)-Ti薄膜与不镀膜的9Cr18钢球摩擦副,MoS_(2)-Ti薄膜与W-DLC薄膜摩擦副的摩擦因数和磨损率没有减小。MoS_(2)-Ti薄膜与W-DLC薄膜摩擦副的磨损机制为磨粒磨损和黏着磨损,与DLC薄膜摩擦副的磨损机制为黏着磨损。摩擦副表面沉积DLC薄膜有助于降低MoS_(2)-Ti薄膜的摩擦因数和磨损率。; 关键词 MoS_(2)-Ti薄膜表面形貌硬度摩擦学性能; Keywords MoS_(2)-Ti film surface morphology hardness tribological property; 分类号 O484 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名氩气和氪气磁控溅射对Zr-Co-RE薄膜微观结构和吸氢性能的影响: 2; 作者周超马占吉何延春杨拉毛草王虎李得天; 机构兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室; 出处《真空与低温》 2024年第1期83-89,共7页; 基金甘肃省自然科学基金(23JRRA1355) 甘肃省陇原青年创新创业人才项目。; 文摘为了获得吸气性能较好的Zr-Co-RE(RE为La和Ce稀土元素)吸气剂薄膜,采用直流磁控溅射方法,分别在氩气和氪气气氛中,通过改变沉积气压研究制备了不同结构的Zr-Co-RE薄膜。运用场发射扫描电镜、X射线衍射仪分析了不同溅射气压下溅射气氛对薄膜结构的影响;采用动态定压法分别测试了在氩气和在氪气中沉积的薄膜的吸氢性能,分析了溅射气氛和薄膜结构对吸氢性能的影响。结果表明,在同等气压下,用氩气溅射沉积的薄膜较致密,用氪气溅射沉积的薄膜表面分布有较多的团簇结构和裂纹结构,薄膜呈明显的柱状结构,且柱状组织间分布着大量的界面和间隙,为气体扩散提供了更多的路径;随着氩气和氪气气压增大,薄膜含有更多的裂纹和间隙结构,连续性柱状结构生长更明显,裂纹更深更宽,比表面积更大,有利于提高薄膜的吸氢性能。; 关键词 Zr-Co-RE薄膜直流磁控溅射氪气溅射气压微观结构吸氢性能; Keywords Zr-Co-RE film DC magnetron sputtering krypton sputtering gas pressure microstructure hydrogen adsorption characterization; 分类号 TB43 [一般工业技术] TG174.444 [金属学及工艺—金属表面处理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名同步脉冲偏压对低温制备的CrSiN薄膜结构及性能的影响研究被引量：1: 3; 作者贵宾华张腾飞刘铭周晖马占吉杨拉毛草汪科良鲜昌卫蒋钊; 机构兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室; 出处《真空与低温》 2024年第1期48-56,共9页; 基金甘肃省自然科学基金(23JRRA1353) 甘肃省青年科技基金(22JR5RA786) 兰州市人才创新创业项目(2022-RC-3)。; 文摘利用高功率脉冲磁控溅射技术,研究了同步脉冲偏压对低温沉积的CrSiN薄膜的组织结构、力学、摩擦学及耐腐蚀性能的影响。研究表明,随着同步脉冲偏压升高,荷能离子轰击对薄膜表面的溅射作用增强,薄膜中的轻质元素含量略有下降,同时c-CrN(111)晶面衍射峰消失,薄膜呈明显的(200)晶面择优取向,晶粒细化,致密度提高。在−500 V偏压下沉积的薄膜硬度最大,达到16.5 GPa,腐蚀电流密度可达2.09×10^(−10)A/cm^(2);磨粒磨损及黏着磨损为CrSiN薄膜的主要磨损机制。调控同步脉冲偏压实现了低温下具有优良力学性能和耐蚀性能的CrSiN薄膜的可控制备,为拓宽CrSiN薄膜在温度敏感基体上的适用性提供了新的研究思路与解决途径。; 关键词高功率脉冲磁控溅射同步脉冲偏压组织结构摩擦学性能耐腐蚀性能; Keywords HiPIMS Synchronized pulsed-bias microstructure tribological property corrosion resistance; 分类号 TG174.444 [金属学及工艺—金属表面处理] O484 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名不同金属基体上W-C：H溅射薄膜的摩擦学性能被引量：1: 4; 作者郑军周晖杨拉毛草张延帅翟广泉; 机构兰州空间技术物理研究所北京空间机电研究所; 出处《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心 2015年第1期57-61,共5页; 文摘采用非平衡磁控溅射技术在40Cr、9Cr18、GCr15、TC4及LY12等5种金属基体上沉积了钨掺杂含氢类金刚石（W-C：H）薄膜.采用Raman光谱仪、扫描电子显微镜、纳米硬度计及纳米划痕仪分别测试了薄膜的微结构、厚度、硬度及附着力,采用球-盘摩擦试验机及光学轮廓仪分别在干摩擦和PFPE脂润滑条件下评价了5种金属材料基体上薄膜的摩擦磨损性能.薄膜性能测试结果显示,该厚度为1μm的薄膜具有典型的类金刚石结构,硬度与弹性模量分别为11.56和128.34 GPa,附着力为645 mN;摩擦试验结果显示,在干摩擦条件下几种金属基体表面W-C：H薄膜的摩擦因数和磨损率差别比较显著,而在脂润滑条件下基体材料的影响较小;与干摩擦条件相比,脂润滑条件下薄膜的磨损可减少60％～75％;在干摩擦与脂润滑条件下,9Cr18与40Cr基体上的W-C：H薄膜摩擦体系分别具有最小的磨损率1.71×10-7 mm3/（N·m）及4.55×10-8 mm3/（N·m）.; 关键词 W-C:H薄膜摩擦学 PEPE润滑脂力学性能非平衡磁控溅射; Keywords W-C ： H films, Tribology, PEPE lubricant, Mechanical properties, Ubalanced magnetron sputtering; 分类号 TH117.1 [机械工程—机械设计及理论]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名真空阴极电弧离子源磁场分析与设计被引量：2: 5; 作者蒋钊唐德礼陈庆川周晖肖更竭郑军马占吉杨拉毛草; 机构兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室核工业西南物理研究院; 出处《真空与低温》 2019年第3期194-201,共8页; 文摘真空阴极电弧离子源是多弧离子镀膜设备的核心部件,直接影响镀膜系统的整体性能。真空阴极电弧离子源在工作时,大液滴发射是阻碍电弧离子镀技术广泛深入应用的瓶颈问题。合理设计并利用磁场可以很好地控制弧斑运动,大幅度地减少液滴、减小液滴尺寸、提高膜层质量和使用寿命。对真空阴极电弧离子源的附加磁场进行了理论分析和仿真计算,为附加磁场的优化设计提供了重要的指导依据。; 关键词真空阴极电弧离子源电弧放电弧斑磁场; Keywords vacuum cathode arc source cathodic arc discharge cathode spots magnetic field; 分类号 O462 [理学—电子物理学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名电子光学中四极场分布的半解析法计算: 6; 作者韩亮赵玉清王炎武杨拉毛草; 机构西安交通大学电子物理与器件教育部重点实验室; 出处《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第7期1203-1208,共6页; 文摘采用一种新的半解析法,对电子光学中3种不同形状电极产生的四极场进行分析计算。半解析法中极点的确定方法简单有效,可以结合电极的形状填充等效源,并且极点位置确定极为精确。在四极场的计算中,该方法具有表达式简单,求解变量少,而且计算精度和效率高的优点。对凸圆柱电极、内凹圆柱电极以及平板电极产生的四极场进行了求解,并将计算结果进行了比较,应用半解析法在计算凸圆柱电极产生的四极场具有更为明显的优势,精度可达0.001%。由于半解析法可得出标量电位函数的解析级数表达式,因此,场强的计算更加简便,同时也更容易保证场强的计算精度,这也有利于四极场的设计和优化。; 关键词电子光学四极场半解析法极点电位; Keywords Electron optics Quadrupole field Semi-analytical method Polar point Scalar potential; 分类号 O463 [机械工程—光学工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	不同摩擦副条件下二硫化钼薄膜的摩擦学性能研究	冯兴国郑玉刚汪科良杨拉毛草张凯锋周晖	《真空与低温》	2024	2	在线阅读下载PDF 职称材料
2	氩气和氪气磁控溅射对Zr-Co-RE薄膜微观结构和吸氢性能的影响	周超马占吉何延春杨拉毛草王虎李得天	《真空与低温》	2024	0	在线阅读下载PDF 职称材料
3	同步脉冲偏压对低温制备的CrSiN薄膜结构及性能的影响研究	贵宾华张腾飞刘铭周晖马占吉杨拉毛草汪科良鲜昌卫蒋钊	《真空与低温》	2024	1	在线阅读下载PDF 职称材料
4	不同金属基体上W-C：H溅射薄膜的摩擦学性能	郑军周晖杨拉毛草张延帅翟广泉	《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心	2015	1	在线阅读下载PDF 职称材料
5	真空阴极电弧离子源磁场分析与设计	蒋钊唐德礼陈庆川周晖肖更竭郑军马占吉杨拉毛草	《真空与低温》	2019	2	在线阅读下载PDF 职称材料
6	电子光学中四极场分布的半解析法计算	韩亮赵玉清王炎武杨拉毛草	《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心	2008	0	在线阅读下载PDF 职称材料