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PEG在电子电镀铜中的作用机制及应用
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作者 杨彦章 陈志华 +3 位作者 钟上彪 叶绍明 刘彬云 詹东平 《电镀与精饰》 北大核心 2025年第3期96-105,共10页
电镀铜是电子工业中不可或缺的工艺,广泛应用于印刷电路板、集成电路等电子元件的线路互联制造,铜镀层质量对产品性能和可靠性至关重要。聚乙二醇(PEG)是电镀铜工艺的重要添加剂之一,能改善镀层质量和性能,显著提升电镀产品应用可靠性... 电镀铜是电子工业中不可或缺的工艺,广泛应用于印刷电路板、集成电路等电子元件的线路互联制造,铜镀层质量对产品性能和可靠性至关重要。聚乙二醇(PEG)是电镀铜工艺的重要添加剂之一,能改善镀层质量和性能,显著提升电镀产品应用可靠性。本文综述PEG在电镀铜中的作用机制,包括对铜离子还原、镀液性质和铜晶粒生长的影响,以及对铜镀层性能的多方面改善效应。同时,对比不同类型PEG衍生物和类似物的应用效果,并对未来研究方向进行了展望。 展开更多
关键词 PEG(聚乙二醇) 电镀铜 作用机制 电镀性能
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Cu含量对以水滑石为前驱体的Cu/Co/Mn/Al催化剂高级醇合成性能的影响(英文) 被引量:2
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作者 廖珮懿 张辰 +5 位作者 张丽君 杨彦章 钟良枢 郭晓亚 王慧 孙予罕 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2017年第8期1672-1680,共9页
采用共沉淀法制备了一系列不同铜钴摩尔比(0,0.1,0.5,1.0,2.0)的Cu/Co/Mn/Al层状结构催化剂并考察了其在合成气制混合醇反应中的催化性能,采用N_2物理吸脱附、电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES)、X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜... 采用共沉淀法制备了一系列不同铜钴摩尔比(0,0.1,0.5,1.0,2.0)的Cu/Co/Mn/Al层状结构催化剂并考察了其在合成气制混合醇反应中的催化性能,采用N_2物理吸脱附、电感耦合等离子体原子发射光谱法(ICP-AES)、X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、氢气程序升温还原(H_2-TPR),热重分析(TG)和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)等对催化剂进行了表征分析。结果表明,适当的铜钴摩尔比可以增大催化剂的比表面积,提高催化剂的还原性能,并能形成较规整的层状结构从而提供更均一分散的合成醇活性位,从而提高催化活性和醇选择性。当铜钴摩尔比为0.5时,得到最高的醇时空产率(STY)和醇质量选择性,分别为0.071 g?g^(-1)?h^(-1)和35.9%。 展开更多
关键词 高级醇合成 水滑石前驱体 Cu/Co/Mn/Al催化剂 铜钻摩尔比 合成气转化
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