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基于数字微镜器件的无掩膜光刻技术进展
被引量：
6
1
作者
张思琪
周思翰
+3 位作者
杨卓俊
许智
兰长勇
李春
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第1期12-30,共19页
基于空间光调制器的无掩膜光刻是光刻技术重要发展方向之一。近年来,随着数字微镜器件芯片集成度与性能的提高,数字微镜器件无掩膜光刻成为一种主要的数字光刻技术。由于可灰度调制的光反射式“数字掩膜”替代了传统光刻中使用的预制物...
基于空间光调制器的无掩膜光刻是光刻技术重要发展方向之一。近年来,随着数字微镜器件芯片集成度与性能的提高,数字微镜器件无掩膜光刻成为一种主要的数字光刻技术。由于可灰度调制的光反射式“数字掩膜”替代了传统光刻中使用的预制物理光掩膜版,该技术极大地简化了光刻制版流程,提高了光刻的灵活性,广泛应用于平面微纳器件、超材料、微流控器件、组织生物研究等领域。从数字无掩膜光刻原理出发,简要介绍了典型匀光照明系统结构与微缩投影系统结构,进而介绍了面向平面光刻的空间分辨率增强技术、灰度光刻技术以及三维微立体光刻技术的进展。最后,列举了几类典型的数字无掩膜光刻应用,并对其发展方向进行了展望。
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关键词
无掩膜光刻
空间光调制器
数字微镜器件
分辨率增强
灰度光刻
微立体光刻
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职称材料
题名
基于数字微镜器件的无掩膜光刻技术进展
被引量：
6
1
作者
张思琪
周思翰
杨卓俊
许智
兰长勇
李春
机构
电子科技大学光电科学与工程学院
中国科学院物理研究所松山湖材料实验室
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第1期12-30,共19页
基金
国家自然科学基金资助项目(No.61475030,No.61975024)。
文摘
基于空间光调制器的无掩膜光刻是光刻技术重要发展方向之一。近年来,随着数字微镜器件芯片集成度与性能的提高,数字微镜器件无掩膜光刻成为一种主要的数字光刻技术。由于可灰度调制的光反射式“数字掩膜”替代了传统光刻中使用的预制物理光掩膜版,该技术极大地简化了光刻制版流程,提高了光刻的灵活性,广泛应用于平面微纳器件、超材料、微流控器件、组织生物研究等领域。从数字无掩膜光刻原理出发,简要介绍了典型匀光照明系统结构与微缩投影系统结构,进而介绍了面向平面光刻的空间分辨率增强技术、灰度光刻技术以及三维微立体光刻技术的进展。最后,列举了几类典型的数字无掩膜光刻应用,并对其发展方向进行了展望。
关键词
无掩膜光刻
空间光调制器
数字微镜器件
分辨率增强
灰度光刻
微立体光刻
Keywords
maskless lithography
spatial light modulator
digital micromirror device
resolution enhancement
grayscale lithography
micro-stereo lithography
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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出处
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被引量
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1
基于数字微镜器件的无掩膜光刻技术进展
张思琪
周思翰
杨卓俊
许智
兰长勇
李春
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022
6
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