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题名晶片行星式研磨抛光机运动模拟研究
被引量：2
- 1
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作者
杨信伟
孙军
王军
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机构
沈阳建筑工程学院机械系
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出处
《沈阳建筑工程学院学报》
2000年第4期292-294,共3页
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基金
辽宁省科委资助!(982 2 0 11)
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文摘
针对单晶硅片高精度研磨抛光中存在的问题 ,从摩擦学理论出发计算模拟了磨粒平均相对速度、研磨盘磨损的变化过程 ,揭示了运动参数对研抛的表面质量、纹理方向的影响规律 。
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关键词
单晶硅片
研磨抛光机
运动模拟
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Keywords
monocrystalline silicon piece
grinding
polisher
motion simulation
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分类号
TH161.5
[机械工程—机械制造及自动化]
TG176
[金属学及工艺—金属表面处理]
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题名晶片行星式研磨抛光机运动模拟的研究
被引量：13
- 2
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作者
王军
孙军
杨信伟
吕玉山
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机构
沈阳建筑工程学院
东北大学
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出处
《机械设计与制造》
北大核心
2000年第2期55-56,共2页
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文摘
针对单晶硅片高精度研磨抛光中存在的问题 ,从摩擦学理论出发 ,模拟了磨粒切痕方向、磨粒轨迹形态的变化过程 ,揭示了运动参数对研抛的表面质量、纹理方向、表面完整性的影响规律。
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关键词
单晶硅片
运动模拟
研磨抛光机
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分类号
TN305.1
[电子电信—物理电子学]
TG580.692
[金属学及工艺—金属切削加工及机床]
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题名均衡压力场平面抛光技术的研究
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作者
孙军
王军
杨信伟
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机构
沈阳建筑工程学院
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出处
《机械设计与制造》
2003年第3期124-125,共2页
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文摘
这里基于弹性力学的接触理论,研究了导向环、工件与抛光垫接触的压力场分布形态,提出了通过改变工件相对夹具的负载比,进行均衡压力场抛光技术的研究,较好地解决了大尺寸硅片的平面加工问题。使用该项技术可使半导体晶片抛光的平面度达到0.25～0.33μm/Φ76mm。
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关键词
超精密加工
抛光
半导体晶片
平面度
压强分布
均衡压力场平面抛光技术
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Keywords
Ultraprecision machining
Polishi ng
Semiconductor
Substrate flatness
Pressure distribution
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分类号
TN305.2
[电子电信—物理电子学]
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题名让印刷更有文化——企业体制改革与创新之路
- 4
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作者
杨信伟
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机构
中印翰墨轩(北京)文化有限公司
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出处
《数字印刷》
CSCD
北大核心
2016年第2期23-25,共3页
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文摘
在人类文明的进程中，印刷术的产生，推动了人类文化的广泛传播。过去十年，是中国印刷业高速发展的阶段，使中国一跃成为世界第二大印刷市场。可当下，印刷行业增速放缓已经成为不争的事实。而未来十年，中国经济增速整体放缓，市场环境由大众化消费向小众化市场转变，这种趋势决定了中国印刷企业的转型升级已经迫在眉睫。
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关键词
人类文化
企业体制改革
印刷术
中国经济
创新
印刷市场
人类文明
印刷行业
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分类号
F279.21
[经济管理—企业管理]
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题名HIPSN陶瓷轴承在高速电主轴中的应用
- 5
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作者
张珂
富大伟
吴玉厚
杨信伟
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机构
沈阳市沈河区文艺路
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出处
《现代制造工程》
CSCD
北大核心
2001年第12期9-11,共3页
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基金
辽宁省科委基金资助项目 (0 0 2 0 0 3)
辽宁省教育厅资助项目
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文摘
陶瓷轴承逐步在电主轴制造中得到应用。通过试验研究 ,对比分析不同类型磨用电主轴的振动、温升特性 。
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关键词
主轴
陶瓷轴承
振动
机床
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Keywords
Spindle Ceramic bearing Vibration
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分类号
TG502.31
[金属学及工艺—金属切削加工及机床]
TH133.3
[机械工程—机械制造及自动化]
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