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离子束溅射制备CuInSe_2薄膜的研究
被引量：
9
1
作者
范平
郑壮豪
+4 位作者
张东平
梁广兴
蔡兴民
汝丽丽
李红奕
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第6期659-663,共5页
利用离子束溅射沉积技术,设计三元复合靶,直接制备CuInSe2(CIS)薄膜。通过X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和分光光度计检测在不同衬底温度和退火温度条件下制备的CIS薄膜的微结构、表面形貌和光学性能。实验结果表明:使用离子束...
利用离子束溅射沉积技术,设计三元复合靶,直接制备CuInSe2(CIS)薄膜。通过X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和分光光度计检测在不同衬底温度和退火温度条件下制备的CIS薄膜的微结构、表面形貌和光学性能。实验结果表明:使用离子束溅射沉积技术制备的CIS薄膜具有黄铜矿结构,在一定的条件下,适当温度的热处理可以制备结构紧密、颗粒均匀、致密性和结晶性良好的CIS薄膜,具有强烈的单一晶向生长现象。
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关键词
离子束溅射
CIS薄膜
衬底温度
退火温度
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职称材料
题名
离子束溅射制备CuInSe_2薄膜的研究
被引量：
9
1
作者
范平
郑壮豪
张东平
梁广兴
蔡兴民
汝丽丽
李红奕
机构
深圳大学物理科学与技术学院
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第6期659-663,共5页
基金
广东省自然科学基金(No.7009409)
深圳市科技计划(No.200729)的资助
文摘
利用离子束溅射沉积技术,设计三元复合靶,直接制备CuInSe2(CIS)薄膜。通过X射线衍射仪(XRD)、原子力显微镜(AFM)和分光光度计检测在不同衬底温度和退火温度条件下制备的CIS薄膜的微结构、表面形貌和光学性能。实验结果表明:使用离子束溅射沉积技术制备的CIS薄膜具有黄铜矿结构,在一定的条件下,适当温度的热处理可以制备结构紧密、颗粒均匀、致密性和结晶性良好的CIS薄膜,具有强烈的单一晶向生长现象。
关键词
离子束溅射
CIS薄膜
衬底温度
退火温度
Keywords
Ion beam sputtering, CIS thin films, Substrate temperature, Annealing temperature
分类号
TQ174.758 [化学工程—陶瓷工业]
TN304.055 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
离子束溅射制备CuInSe_2薄膜的研究
范平
郑壮豪
张东平
梁广兴
蔡兴民
汝丽丽
李红奕
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009
9
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