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从极紫外光刻发展看全球范围内的技术合作
被引量：
2
1
作者
曾海峰
郭磊
+4 位作者
李世光
钟志坚
李琛毅
余江
李显杰
《激光技术》
CAS
CSCD
北大核心
2023年第1期1-12,共12页
在针对芯片的“卡脖子”技术中,极紫外(EUV)光刻是最重要的一环。EUV光刻技术已经被广泛应用于最先进工艺节点的集成电路芯片制造之中。它的研发交叉融合了光学、机械、电子、控制、软件、材料、数学、物理等多个学科的知识。EUV光刻的...
在针对芯片的“卡脖子”技术中,极紫外(EUV)光刻是最重要的一环。EUV光刻技术已经被广泛应用于最先进工艺节点的集成电路芯片制造之中。它的研发交叉融合了光学、机械、电子、控制、软件、材料、数学、物理等多个学科的知识。EUV光刻的发展反映了世界范围内联合研发的演变过程,开放和合作是发展过程中的主旋律。回顾了EUV光刻的发展历史及所涉及的重大项目和机构,讨论了全球唯一的EUV光刻机制造商——ASML公司的灵活多变的国际化合作路线,分析了自1997年以来世界各代表性研发机构的研发趋势以及与EUV光刻发展的关系,详叙了各参与机构在世界范围内的合作对EUV光刻发展的影响。该研究为研发先进光刻机等类似高端装备提供了一些启示和参考。
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关键词
集成光学
光刻
极紫外
集成电路
合作
发展
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职称材料
题名
从极紫外光刻发展看全球范围内的技术合作
被引量：
2
1
作者
曾海峰
郭磊
李世光
钟志坚
李琛毅
余江
李显杰
机构
中国科学院微电子研究所成果转化部
中国科学院大学集成电路学院
江苏影速集成电路装备股份有限公司
中国科学院科技战略咨询研究院
出处
《激光技术》
CAS
CSCD
北大核心
2023年第1期1-12,共12页
基金
江苏省科技成果转化专项资金资助项目(BA2021033)。
文摘
在针对芯片的“卡脖子”技术中,极紫外(EUV)光刻是最重要的一环。EUV光刻技术已经被广泛应用于最先进工艺节点的集成电路芯片制造之中。它的研发交叉融合了光学、机械、电子、控制、软件、材料、数学、物理等多个学科的知识。EUV光刻的发展反映了世界范围内联合研发的演变过程,开放和合作是发展过程中的主旋律。回顾了EUV光刻的发展历史及所涉及的重大项目和机构,讨论了全球唯一的EUV光刻机制造商——ASML公司的灵活多变的国际化合作路线,分析了自1997年以来世界各代表性研发机构的研发趋势以及与EUV光刻发展的关系,详叙了各参与机构在世界范围内的合作对EUV光刻发展的影响。该研究为研发先进光刻机等类似高端装备提供了一些启示和参考。
关键词
集成光学
光刻
极紫外
集成电路
合作
发展
Keywords
integrated optics
lithography
extreme ultraviolet
integrated circuit
cooperation
development
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
从极紫外光刻发展看全球范围内的技术合作
曾海峰
郭磊
李世光
钟志坚
李琛毅
余江
李显杰
《激光技术》
CAS
CSCD
北大核心
2023
2
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