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功率VMOSFET实用计算机辅助设计软件包的研制和开发
1
作者
潘志斌
徐国治
+1 位作者
李中江
段力军
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
1990年第1期124-125,共2页
自1976年功率VMOSFET首次提出以来,它已成为功率器件发展的主流.最近十年间,在功率MOS器件中,功率VMOSFET以其独特的优点引起人们广泛重视,大有替代双极型功率器件的趋势.同时,计算机辅助设计技术正以其快速、准确、大范围模拟等特点改...
自1976年功率VMOSFET首次提出以来,它已成为功率器件发展的主流.最近十年间,在功率MOS器件中,功率VMOSFET以其独特的优点引起人们广泛重视,大有替代双极型功率器件的趋势.同时,计算机辅助设计技术正以其快速、准确、大范围模拟等特点改变着传统的器件设计方法.本软件包的作用即是利用各种CAD技术对功率VMOSFET进行参数选取和优化设计.
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关键词
VMOSFET
CAD
软件包
功率
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职称材料
VDMOS器件二维数值模拟和典型参数优化分析
2
作者
刘晓梅
胡蓉香
+1 位作者
罗晋生
李中江
《电子科学学刊》
EI
CSCD
1991年第6期618-624,共7页
本文编制了功率MOSFET二维稳态分析软件TDSPM程序基于漂移扩散模型,特别考虑了功率器件高压工作状态下的速场特性和强场产生机制,因此可以对器件各工作区(包括击穿区)进行模拟。用全耦合法求解联立方程,用截断法修正迭代结果,大大改善...
本文编制了功率MOSFET二维稳态分析软件TDSPM程序基于漂移扩散模型,特别考虑了功率器件高压工作状态下的速场特性和强场产生机制,因此可以对器件各工作区(包括击穿区)进行模拟。用全耦合法求解联立方程,用截断法修正迭代结果,大大改善了程序求解的收敛性和稳定性,使求解加压步长可取得很大(饱和区漏压可取100—200V)。用TDSPM模拟VDMOS,得到器件的外部特性曲线和内部物理量分布;着重分析了击穿过程的内部机制;最后用TDSPM对器件进行了优化分析。
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关键词
MOS器件
场效应晶体管
数值模拟
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职称材料
高压功率VDMOS场效应晶体管版图设计
3
作者
李中江
夏俊峰
+1 位作者
刘美溶
薛发龙
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1989年第6期1-4,共4页
高压功率VDMOS场效应晶体管在国内尚属开发新产品.本文就高压功率VDMOS场效应晶体管的版图设计考虑作一介绍.实际设计了耐压450伏、电流容量为5安培的VDMOS场效应晶体管版图.试制结果说明设计是可行的.
关键词
功率VDMOS
场效应晶体管
版图
设计
全文增补中
半导体功率器件发展概况
4
作者
李中江
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1989年第3期1-9,共9页
本文简述了半导体功率器件的发展,介绍了功率二极管、闸流管、双极晶体管的主要产品技术水平和今后发展方向.
关键词
半导体器件
功率器件
全文增补中
题名
功率VMOSFET实用计算机辅助设计软件包的研制和开发
1
作者
潘志斌
徐国治
李中江
段力军
机构
西安交通大学
机电部八七七厂
出处
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
1990年第1期124-125,共2页
文摘
自1976年功率VMOSFET首次提出以来,它已成为功率器件发展的主流.最近十年间,在功率MOS器件中,功率VMOSFET以其独特的优点引起人们广泛重视,大有替代双极型功率器件的趋势.同时,计算机辅助设计技术正以其快速、准确、大范围模拟等特点改变着传统的器件设计方法.本软件包的作用即是利用各种CAD技术对功率VMOSFET进行参数选取和优化设计.
关键词
VMOSFET
CAD
软件包
功率
分类号
TN386.6 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
VDMOS器件二维数值模拟和典型参数优化分析
2
作者
刘晓梅
胡蓉香
罗晋生
李中江
机构
西安交通大学微电子技术研究室
国营卫光电工厂
出处
《电子科学学刊》
EI
CSCD
1991年第6期618-624,共7页
文摘
本文编制了功率MOSFET二维稳态分析软件TDSPM程序基于漂移扩散模型,特别考虑了功率器件高压工作状态下的速场特性和强场产生机制,因此可以对器件各工作区(包括击穿区)进行模拟。用全耦合法求解联立方程,用截断法修正迭代结果,大大改善了程序求解的收敛性和稳定性,使求解加压步长可取得很大(饱和区漏压可取100—200V)。用TDSPM模拟VDMOS,得到器件的外部特性曲线和内部物理量分布;着重分析了击穿过程的内部机制;最后用TDSPM对器件进行了优化分析。
关键词
MOS器件
场效应晶体管
数值模拟
Keywords
Power Transistor
MOSFET
Numerical simulation
Breakdown
分类号
TN386.1 [电子电信—物理电子学]
在线阅读
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职称材料
题名
高压功率VDMOS场效应晶体管版图设计
3
作者
李中江
夏俊峰
刘美溶
薛发龙
机构
八七七厂
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1989年第6期1-4,共4页
文摘
高压功率VDMOS场效应晶体管在国内尚属开发新产品.本文就高压功率VDMOS场效应晶体管的版图设计考虑作一介绍.实际设计了耐压450伏、电流容量为5安培的VDMOS场效应晶体管版图.试制结果说明设计是可行的.
关键词
功率VDMOS
场效应晶体管
版图
设计
分类号
TN386.102 [电子电信—物理电子学]
全文增补中
题名
半导体功率器件发展概况
4
作者
李中江
机构
八七七厂
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1989年第3期1-9,共9页
文摘
本文简述了半导体功率器件的发展,介绍了功率二极管、闸流管、双极晶体管的主要产品技术水平和今后发展方向.
关键词
半导体器件
功率器件
分类号
TN32 [电子电信—物理电子学]
全文增补中
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
功率VMOSFET实用计算机辅助设计软件包的研制和开发
潘志斌
徐国治
李中江
段力军
《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
1990
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
VDMOS器件二维数值模拟和典型参数优化分析
刘晓梅
胡蓉香
罗晋生
李中江
《电子科学学刊》
EI
CSCD
1991
0
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
高压功率VDMOS场效应晶体管版图设计
李中江
夏俊峰
刘美溶
薛发龙
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1989
0
全文增补中
4
半导体功率器件发展概况
李中江
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1989
0
全文增补中
已选择
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