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功率VMOSFET实用计算机辅助设计软件包的研制和开发
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作者 潘志斌 徐国治 +1 位作者 李中江 段力军 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1990年第1期124-125,共2页
自1976年功率VMOSFET首次提出以来,它已成为功率器件发展的主流.最近十年间,在功率MOS器件中,功率VMOSFET以其独特的优点引起人们广泛重视,大有替代双极型功率器件的趋势.同时,计算机辅助设计技术正以其快速、准确、大范围模拟等特点改... 自1976年功率VMOSFET首次提出以来,它已成为功率器件发展的主流.最近十年间,在功率MOS器件中,功率VMOSFET以其独特的优点引起人们广泛重视,大有替代双极型功率器件的趋势.同时,计算机辅助设计技术正以其快速、准确、大范围模拟等特点改变着传统的器件设计方法.本软件包的作用即是利用各种CAD技术对功率VMOSFET进行参数选取和优化设计. 展开更多
关键词 VMOSFET CAD 软件包 功率
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VDMOS器件二维数值模拟和典型参数优化分析
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作者 刘晓梅 胡蓉香 +1 位作者 罗晋生 李中江 《电子科学学刊》 EI CSCD 1991年第6期618-624,共7页
本文编制了功率MOSFET二维稳态分析软件TDSPM程序基于漂移扩散模型,特别考虑了功率器件高压工作状态下的速场特性和强场产生机制,因此可以对器件各工作区(包括击穿区)进行模拟。用全耦合法求解联立方程,用截断法修正迭代结果,大大改善... 本文编制了功率MOSFET二维稳态分析软件TDSPM程序基于漂移扩散模型,特别考虑了功率器件高压工作状态下的速场特性和强场产生机制,因此可以对器件各工作区(包括击穿区)进行模拟。用全耦合法求解联立方程,用截断法修正迭代结果,大大改善了程序求解的收敛性和稳定性,使求解加压步长可取得很大(饱和区漏压可取100—200V)。用TDSPM模拟VDMOS,得到器件的外部特性曲线和内部物理量分布;着重分析了击穿过程的内部机制;最后用TDSPM对器件进行了优化分析。 展开更多
关键词 MOS器件 场效应晶体管 数值模拟
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高压功率VDMOS场效应晶体管版图设计
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作者 李中江 夏俊峰 +1 位作者 刘美溶 薛发龙 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1989年第6期1-4,共4页
高压功率VDMOS场效应晶体管在国内尚属开发新产品.本文就高压功率VDMOS场效应晶体管的版图设计考虑作一介绍.实际设计了耐压450伏、电流容量为5安培的VDMOS场效应晶体管版图.试制结果说明设计是可行的.
关键词 功率VDMOS 场效应晶体管 版图 设计
全文增补中
半导体功率器件发展概况
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作者 李中江 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1989年第3期1-9,共9页
本文简述了半导体功率器件的发展,介绍了功率二极管、闸流管、双极晶体管的主要产品技术水平和今后发展方向.
关键词 半导体器件 功率器件
全文增补中
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