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聚天冬氨酸与钨酸钠复配对白铜B10的缓蚀作用 被引量:13
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作者 朱律均 徐群杰 +3 位作者 曹为民 万宗跃 周国定 林昌健 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2008年第5期805-809,共5页
应用光电化学的方法研究了两种环境友好型缓蚀剂聚冬天氨酸(PASP)和钨酸钠(Na2WO4)的单一配方及其复配对白铜B10在硼砂-硼酸缓冲溶液中的缓蚀作用.研究表明,在光电流循环伏安测试中,单一的PASP与Na2WO4均能够使B10表面Cu2O膜引起的p型... 应用光电化学的方法研究了两种环境友好型缓蚀剂聚冬天氨酸(PASP)和钨酸钠(Na2WO4)的单一配方及其复配对白铜B10在硼砂-硼酸缓冲溶液中的缓蚀作用.研究表明,在光电流循环伏安测试中,单一的PASP与Na2WO4均能够使B10表面Cu2O膜引起的p型光电流响应增大,这说明缓蚀剂增大了Cu2O膜的厚度,使B10的腐蚀速率减小.单一的PASP与Na2WO4的最佳添加浓度分别为3和5mg·L-1,单一的Na2WO4比单一的PASP使p型光电流响应增大趋势更大.若以总浓度为5mg·L-1时对两者进行复配,当PASP与Na2WO4的质量浓度比为1∶1和1∶3时,两者复配比单一使用时的p型电流光响应都更大,B10的腐蚀更小,即缓蚀剂的效果更好.交流阻抗测试结果与光电化学测试相一致. 展开更多
关键词 光电化学 聚天冬氨酸 钨酸钠 白铜B10 缓蚀剂
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绿色缓蚀剂聚天冬氨酸对铜的缓蚀性能与吸附行为 被引量:24
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作者 徐群杰 朱律均 +3 位作者 曹为民 万宗跃 周国定 林昌健 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2008年第9期1724-1728,共5页
采用电化学阻抗和极化曲线法研究了绿色缓蚀剂聚天冬氨酸(PASP)对铜在200mg·L-1的NaCl溶液中的缓蚀性能和吸附行为.结果表明,在20℃时,PASP使用的最佳浓度为15mg·L-1,缓蚀率可达到78.3%,PASP的吸附明显降低了Cl-的侵蚀,属于... 采用电化学阻抗和极化曲线法研究了绿色缓蚀剂聚天冬氨酸(PASP)对铜在200mg·L-1的NaCl溶液中的缓蚀性能和吸附行为.结果表明,在20℃时,PASP使用的最佳浓度为15mg·L-1,缓蚀率可达到78.3%,PASP的吸附明显降低了Cl-的侵蚀,属于阳极型缓蚀剂.随着温度的升高,PASP的缓蚀性能下降.在50℃时,PASP的缓蚀率下降至40.4%.PASP的吸附行为服从Langmuir吸附等温式,是自发的、放热的过程,属于化学吸附. 展开更多
关键词 缓蚀剂 聚天冬氨酸 吸附 交流阻抗
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3-氨基-1,2,4-三氮唑自组装膜对黄铜的缓蚀作用 被引量:23
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作者 徐群杰 万宗跃 +4 位作者 印仁和 朱律均 曹为民 周国定 林昌健 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2008年第1期115-120,共6页
3-氨基-1,2,4-三氮唑(ATA)是一种环境友好型金属处理剂,以其在黄铜表面制备了自组装单分子膜(SAMs),用电化学方法研究ATASAMs对黄铜的缓蚀作用及其吸附行为.结果表明,ATA分子易在黄铜表面形成稳定的ATASAMs,SAMs抑制了黄铜的阳极氧化过... 3-氨基-1,2,4-三氮唑(ATA)是一种环境友好型金属处理剂,以其在黄铜表面制备了自组装单分子膜(SAMs),用电化学方法研究ATASAMs对黄铜的缓蚀作用及其吸附行为.结果表明,ATA分子易在黄铜表面形成稳定的ATASAMs,SAMs抑制了黄铜的阳极氧化过程,改变了电极表面的双电层结构,固/液界面双电层电容明显降低,有良好的缓蚀效果.研究结果还表明,ATA的吸附行为符合Langmuir吸附等温式,吸附机理是典型的化学吸附. 展开更多
关键词 黄铜 ATA 自组装单分子膜 缓蚀 吸附
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3-氨基-1,2,4-三氮唑对铜的缓蚀性能和吸附行为 被引量:12
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作者 徐群杰 李春香 +2 位作者 周国定 朱律均 林昌健 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2009年第1期86-90,共5页
采用电化学和表面增强拉曼光谱(SERS)方法研究了新型环境友好型金属水处理剂3-氨基-1,2,4-三氮唑(ATA)对铜在3%NaCl溶液中的缓蚀性能和吸附行为.结果表明,ATA对铜有较好的缓蚀作用,其中ATA浓度为0.24mmol·L-1时对铜的缓蚀效率最高,... 采用电化学和表面增强拉曼光谱(SERS)方法研究了新型环境友好型金属水处理剂3-氨基-1,2,4-三氮唑(ATA)对铜在3%NaCl溶液中的缓蚀性能和吸附行为.结果表明,ATA对铜有较好的缓蚀作用,其中ATA浓度为0.24mmol·L-1时对铜的缓蚀效率最高,为97.65%,其吸附行为符合Langmuir吸附等温式,吸附机理是典型的化学吸附.SERS表明,ATA分子通过很强的吸附于铜表面达到抑制其腐蚀的作用,是ATA-与Cu+形成配合物来阻止氯离子化合物(CuCl2-)的生成. 展开更多
关键词 ATA 缓蚀剂 电化学 SERS
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