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激光化学气相沉积TiC、TiN类陶瓷薄膜概况 被引量:5
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作者 宋武林 朱培蒂 +1 位作者 陶曾毅 崔崑 《材料导报》 EI CAS CSCD 1994年第1期37-39,58,共4页
介绍了用LCVD法合成并沉积TiC、TiN类陶瓷膜的方法、原理、工艺特点以及LCVD法的一些独特优点。
关键词 激光 CVD 陶瓷薄膜 氮化钛 碳化钛
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