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气体压力对铝基体上氮化铝薄膜残余应力的影响
1
作者
田竞
王惠光
+3 位作者
叶荣茂
安阁英
英崇夫
日下一也
《宇航材料工艺》
CAS
CSCD
北大核心
1998年第5期41-43,共3页
利用阴极溅射方法在铝合金表面沉积氮化铝薄膜。利用X射线研究了沉积过程中气体压力的变化对氯化铝薄膜结晶的择优取向及薄膜内应力的影响。结果表明：在较低压力沉积的氮化铝薄膜有良好的择优取向性；氮化铝薄膜残余应力为压应力，且...
利用阴极溅射方法在铝合金表面沉积氮化铝薄膜。利用X射线研究了沉积过程中气体压力的变化对氯化铝薄膜结晶的择优取向及薄膜内应力的影响。结果表明：在较低压力沉积的氮化铝薄膜有良好的择优取向性；氮化铝薄膜残余应力为压应力，且随气体压力增加而逐渐变化。
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关键词
氮化铝
薄膜
残余应力
阴极溅射
气体压力
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职称材料
题名
气体压力对铝基体上氮化铝薄膜残余应力的影响
1
作者
田竞
王惠光
叶荣茂
安阁英
英崇夫
日下一也
机构
哈尔滨工业大学
德岛大学工学部
出处
《宇航材料工艺》
CAS
CSCD
北大核心
1998年第5期41-43,共3页
基金
黑龙江省自然科学基金
哈尔滨工业大学回国人员基金
文摘
利用阴极溅射方法在铝合金表面沉积氮化铝薄膜。利用X射线研究了沉积过程中气体压力的变化对氯化铝薄膜结晶的择优取向及薄膜内应力的影响。结果表明：在较低压力沉积的氮化铝薄膜有良好的择优取向性；氮化铝薄膜残余应力为压应力，且随气体压力增加而逐渐变化。
关键词
氮化铝
薄膜
残余应力
阴极溅射
气体压力
Keywords
AlN thin film, Residual stress, Sputtering, Gas pressure
分类号
TG174.442 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
气体压力对铝基体上氮化铝薄膜残余应力的影响
田竞
王惠光
叶荣茂
安阁英
英崇夫
日下一也
《宇航材料工艺》
CAS
CSCD
北大核心
1998
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