-
题名磁控反应溅射制备氧化锡膜的工艺研究
被引量：5
- 1
-
-
作者
张随新
陈国平
-
机构
东南大学薄膜研究所
-
出处
《真空科学与技术》
CSCD
1995年第6期415-419,共5页
-
文摘
介绍了磁控反应溅射制备氧化锡薄膜时，反应气体氧流量对放电参数、薄膜沉积速率及沉积膜性能的影响。指出随氧流量的不同，放电分别处于金属溅射、过渡溅射和氧化物溅射三种不同的模式。三种模式下的放电电压及沉积速率均有较大差别，相应的沉积膜依次具有金属相、金属及氧化物混合相和氧化物相三种不同属性。
-
关键词
反应溅射
氧化锡膜
氧流量
薄膜
-
分类号
O484.1
[理学—固体物理]
TN304.21
[电子电信—物理电子学]
-
-
题名阳光控制膜玻璃的质量控制与产品标准的研究
被引量：2
- 2
-
-
作者
张随新
陈国平
陈公乃
朱民戟
-
机构
东南大学薄膜研究所
-
出处
《太阳能学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1994年第4期347-352,共6页
-
基金
机械部工业发展基金
-
文摘
通过对大量市售阳光控制膜玻璃产品的试验研究与国内外产品标准的比较，对其光学性能、色差、耐磨损性及化学稳定性等几项质量指标进行了详细讨论，采用加速老化试验研究比较了阳牡控制膜玻璃的使用寿命。根据这些结果提出了质量控制和产品标准的一些建议。
-
关键词
阳光控制膜玻璃
热反射玻璃
质量控制
产品标准
-
Keywords
solar controled film glass, quality conrol, product standard
-
分类号
TQ171.1
[化学工程—玻璃工业]
-
-
题名阳光控制膜玻璃的光学特性及膜系设计
被引量：1
- 3
-
-
作者
张随新
陈国平
-
机构
东南大学薄膜研究所
-
出处
《真空科学与技术》
CSCD
1995年第1期36-44,共9页
-
基金
机械部工业发展基金
-
文摘
通过对阳光控制膜玻璃膜层结构的分析，指出三层膜各自所起的作用具有很明显的相对独立性，因而在进行膜层材料选择及工艺参数确定时，可分别独立地加以处理。对几种常用金属薄膜和金属氧化物薄膜的理化性能与工艺可行性进行了比较。用分光光度计测试了幕墙玻璃单层膜及三层膜在可见光区的反射和透射特性。通过具体的实验数据表明了各层膜对幕墙玻璃光学性能的影响。
-
关键词
玻璃
幕墙玻璃
阳光控制膜
膜系组成
光学特性
-
Keywords
Curtain wall glass, Solar control film, Layer structure,Optical properties
-
分类号
TQ171.72
[化学工程—玻璃工业]
O484
[理学—固体物理]
-
-
题名氧化钽感湿薄膜的研究
被引量：1
- 4
-
-
作者
陈国平
李玲珍
张随新
张浩康
-
机构
东南大学
-
出处
《传感技术学报》
CAS
CSCD
1990年第1期15-20,共6页
-
文摘
在Ar-O_2混合气氛中采用直流磁控反应溅射沉积制得了氧化钽薄膜.文章介绍了沉积薄膜的实验装置与工艺,叙述了反应溅射的过程与机理.用AES、XPS和X射线衍射研究了薄膜的成分与结晶结构,用Ta_2O_5薄膜研制成Si-MOS薄膜湿敏器件.测试结果表明:这种新的湿敏器件具有高的灵敏度和非常快的响应速度.
-
关键词
氧化钽薄膜
湿敏器件
反应溅射
-
Keywords
Tantalum oxide thin film humidity sensitive device reactive sputtering
-
分类号
TP212-55
[自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
-
-
题名射频磁控溅射制备SiO_2膜
被引量：2
- 5
-
-
作者
陈国平
张随新
-
机构
东南大学薄膜研究所
-
出处
《真空科学与技术》
CSCD
1995年第5期310-316,共7页
-
文摘
利用石英靶射频磁控溅射制备SiO2膜的工艺，采用L型阻抗匹配网络，并计算得到了等离子体的等效电容及等效电导。指出射频功率密度是最重要的沉积参数，靶面自偏压及SiO2膜沉积速率均随功率密度的增加而线性增加。溅射气压及氧分压对自偏压的影响较小，但两者的增加将导致SiO2沉积速率的降低。制备了可见光区透光性良好，折射率为1．46，沉积速率为35nm／min的SiO2膜。
-
关键词
射频磁控溅射
阻抗匹配
二氧化硅膜
-
Keywords
SiO_2 thin fimls,RF magnetron sputtering,Impedance matching
-
分类号
TN105.1
[电子电信—物理电子学]
TN305.92
[电子电信—物理电子学]
-
