期刊文献+
共找到14篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
宽禁带半导体SiC功率器件发展现状及展望 被引量:67
1
作者 张波 邓小川 +1 位作者 张有润 李肇基 《中国电子科学研究院学报》 2009年第2期111-118,共8页
碳化硅(SiC)是第三代半导体材料的典型代表,也是目前晶体生长技术和器件制造水平最成熟、应用最广泛的宽禁带半导体材料之一,是高温、高频、抗辐照、大功率应用场合下极为理想的半导体材料。文章结合美国国防先进研究计划局DARPA的高功... 碳化硅(SiC)是第三代半导体材料的典型代表,也是目前晶体生长技术和器件制造水平最成熟、应用最广泛的宽禁带半导体材料之一,是高温、高频、抗辐照、大功率应用场合下极为理想的半导体材料。文章结合美国国防先进研究计划局DARPA的高功率电子器件应用宽禁带技术HPE项目的发展,介绍了SiC功率器件的最新进展及其面临的挑战和发展前景。同时对我国宽禁带半导体SiC器件的研究现状及未来的发展方向做了概述与展望。 展开更多
关键词 宽禁带半导体 碳化硅 功率器件
在线阅读 下载PDF
低阻ITO玻璃的制造工艺 被引量:5
2
作者 杨健君 李军建 +5 位作者 张有润 王军 林慧 饶海波 蒋泉 成建波 《电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期261-263,共3页
有机发光显示器件是目前平板显示中的热点,所用ITO玻璃比液晶显示所用的有更高更严的要求。该文探讨了OLED用ITO玻璃生产的相关工艺,得出使用直流溅射ITO陶瓷靶时,较好的气氛是低氩微氧,功率约200W左右,溅射时基板温度约250℃,高温无氧... 有机发光显示器件是目前平板显示中的热点,所用ITO玻璃比液晶显示所用的有更高更严的要求。该文探讨了OLED用ITO玻璃生产的相关工艺,得出使用直流溅射ITO陶瓷靶时,较好的气氛是低氩微氧,功率约200W左右,溅射时基板温度约250℃,高温无氧退火。得到方阻20?以下、平均透过率大于80%的ITO玻璃。 展开更多
关键词 氧化铟锡 玻璃 有机发光二极管
在线阅读 下载PDF
SiC肖特基势垒二极管的反向特性 被引量:2
3
作者 杨霏 闫锐 +8 位作者 陈昊 张有润 彭明明 商庆杰 李亚丽 张雄文 潘宏菽 杨克武 蔡树军 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2010年第1期6-9,共4页
在n型4H-SiC衬底上的n型同质外延层的Si面制备了纵向肖特基势垒二极管(SBD),研究了场板、场限环及其复合结构等不同终端截止结构对于反向阻断电压与反向泄漏电流的影响。场板(FP)结构有利于提高反向阻断电压,减小反向泄漏电流。当场板... 在n型4H-SiC衬底上的n型同质外延层的Si面制备了纵向肖特基势垒二极管(SBD),研究了场板、场限环及其复合结构等不同终端截止结构对于反向阻断电压与反向泄漏电流的影响。场板(FP)结构有利于提高反向阻断电压,减小反向泄漏电流。当场板长度从5μm变化到25μm,反向阻断电压随着场板长度的增加而增加。SiO2厚度对于反向阻断电压有重要的影响,当厚度为0.5μm,即大约为外延层厚度的1/20时,可以得到较大的反向阻断电压。当场限环的离子注入区域宽度从10μm变化到70μm,反向阻断电压也随之增加。FLR和FP复合结构对于改善反向阻断电压以及反向泄漏电流都有作用,同时反向阻断电压对于场板长度不再敏感。采用复合结构,在10μA反向泄漏电流下最高阻断电压达到1 300V。讨论了离子注入剂量对于反向阻断电压的影响,注入离子剂量和反向电压的关系表明SBD结构不同于传统PIN结构的要求。当采用大约为150%理想剂量的注入剂量时才可达到最高的反向阻断电压而不是其他报道的75%理想剂量,此时的注入剂量远高于PIN结构器件所需的注入剂量。 展开更多
关键词 碳化硅 肖特基势垒二极管 反向阻断电压 反向泄漏电流 场限环 场板 离子注入
在线阅读 下载PDF
一种高带宽、高电源抑制比的跨阻放大器 被引量:3
4
作者 周万礼 章玉飞 +4 位作者 路统霄 胡怀志 甄少伟 张有润 张波 《电子与封装》 2019年第6期20-24,共5页
光电探测器是激光雷达的核心器件,通常由雪崩光电二极管(APD)阵列和相应的读出电路组成。跨阻放大器是读出电路的关键部分,其性能在很大程度上决定光电探测组件的性能。基于0.18μmCMOS工艺,针对大输入电容线性APD阵列的应用,设计了一... 光电探测器是激光雷达的核心器件,通常由雪崩光电二极管(APD)阵列和相应的读出电路组成。跨阻放大器是读出电路的关键部分,其性能在很大程度上决定光电探测组件的性能。基于0.18μmCMOS工艺,针对大输入电容线性APD阵列的应用,设计了一种高增益、高带宽、高电源抑制比的跨阻放大器。基于无源反馈和有源前馈的补偿方式拓展了跨阻放大器带宽,同时实现了高增益和高带宽;设计了具有高电源抑制比的片上无电容低压差稳压器,提高了跨阻放大器的稳定性。仿真结果表明:跨阻增益为104.7dB·Ω,带宽为198.8MHz,等效输入噪声电流为3.65pA·Hz1/2,低频电源抑制比为-57.8dB,全带宽范围内电源抑制比低于-10.6dB。 展开更多
关键词 跨阻放大器 高电源抑制比 高带宽 APD阵列读出电路
在线阅读 下载PDF
Study of leakage current degradation based on stacking faults expansion in irradiated SiC junction barrier Schottky diodes
5
作者 Maojiu Luo Yourun Zhang +5 位作者 Yucheng Wang Hang Chen Rong Zhou Zhi Wang Chao Lu Bo Zhang 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2024年第10期458-464,共7页
A comprehensive investigation was conducted to explore the degradation mechanism of leakage current in SiC junction barrier Schottky(JBS)diodes under heavy ion irradiation.We propose and verify that the generation of ... A comprehensive investigation was conducted to explore the degradation mechanism of leakage current in SiC junction barrier Schottky(JBS)diodes under heavy ion irradiation.We propose and verify that the generation of stacking faults(SFs)induced by the recombination of massive electron-hole pairs during irradiation is the cause of reverse leakage current degradation based on experiments results.The irradiation experiment was carried out based on Ta ions with high linear energy transfer(LET)of 90.5 MeV/(mg/cm^(2)).It is observed that the leakage current of the diode undergoes the permanent increase during irradiation when biased at 20%of the rated reverse voltage.Micro-PL spectroscopy and PL micro-imaging were utilized to detect the presence of SFs in the irradiated SiC JBS diodes.We combined the degraded performance of irradiated samples with SFs introduced by heavy ion irradiation.Finally,three-dimensional(3D)TCAD simulation was employed to evaluate the excessive electron-hole pairs(EHPs)concentration excited by heavy ion irradiation.It was observed that the excessive hole concentration under irradiation exceeded significantly the threshold hole concentration necessary for the expansion of SFs in the substrate.The proposed mechanism suggests that the process and material characteristics of the silicon carbide should be considered in order to reinforcing against the single event effect of SiC power devices. 展开更多
关键词 4H-SiC JBS diode heavy ion irradiation single event effect single event leakage current degradation
在线阅读 下载PDF
一种新型4H-SiC BJT结终端结构研究
6
作者 刘曦麟 张波 +1 位作者 张有润 邓小川 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2010年第2期76-79,共4页
设计了一种应用于4H-SiC BJT的新型结终端结构。该新型结终端结构通过对基区外围进行刻蚀形成单层刻蚀型外延终端,辅助耐压的p+环位于刻蚀型外延终端的表面,采用离子注入的方式,与基极接触的p+区同时形成。借助半导体数值分析软件SILVA... 设计了一种应用于4H-SiC BJT的新型结终端结构。该新型结终端结构通过对基区外围进行刻蚀形成单层刻蚀型外延终端,辅助耐压的p+环位于刻蚀型外延终端的表面,采用离子注入的方式,与基极接触的p+区同时形成。借助半导体数值分析软件SILVACO,对基区外围的刻蚀厚度和p+环的间距进行了优化。仿真分析结果表明,当刻蚀厚度为0.8μm,环间距分别为8,10和9μm时,能获得最高击穿电压。新结构与传统保护环(GR)和传统结终端外延(JTE)相比,BVCEO分别提高了34%和15%。利用该新型终端结构,得到共发射极电流增益β>47、共发射极击穿电压BVCEO为1 570V的4H-SiC BJT器件。 展开更多
关键词 4H-碳化硅 双极型晶体管 结终端技术 击穿电压 数值分析
在线阅读 下载PDF
基于峰值采样的高速光接收电路设计
7
作者 郭俊泽 张有润 +6 位作者 章玉飞 路统霄 周万礼 柯尊贵 袁菲 甄少伟 张波 《电子与封装》 2019年第5期12-15,21,共5页
设计了一种基于峰值采样原理的高速光接收电路,该光接收电路为克服光电二极管的光电流拖尾现象,引入了峰值采样电路对光脉冲的波峰信号进行检测,解决了传统方案中采用比较器直接比较导致的占空比失真的问题,实现在更高速度下的光探测和... 设计了一种基于峰值采样原理的高速光接收电路,该光接收电路为克服光电二极管的光电流拖尾现象,引入了峰值采样电路对光脉冲的波峰信号进行检测,解决了传统方案中采用比较器直接比较导致的占空比失真的问题,实现在更高速度下的光探测和信号处理。利用Spice软件对该光接收电路进行了仿真,并对仿真结果进行分析。仿真结果表明:峰值采样电路可准确探测光电流的峰值信号,整体光接收电路可达到20 MHz以上的探测频率,对传统光接收电路占空比失真的问题有较大改善。研究结果对高速应用场合下的光接收电路的发展具有重要意义。 展开更多
关键词 光接收 拖尾 光探测 峰值检测 占空比失真
在线阅读 下载PDF
SOI基光波导传输损耗的研究
8
作者 李逸康 张有润 +2 位作者 葛超洋 汪煜 张波 《电子与封装》 2022年第10期76-80,共5页
SOI基光波导中直波导的传输损耗包括模式失配损耗、内部散射损耗和表面散射损耗。为了研究直波导的传输损耗中3种损耗所占的比例,制作了相同宽度的条形和脊形波导,仿真分析和测试了2种波导的传输损耗。对于1550 nm的光,测试得到条形波... SOI基光波导中直波导的传输损耗包括模式失配损耗、内部散射损耗和表面散射损耗。为了研究直波导的传输损耗中3种损耗所占的比例,制作了相同宽度的条形和脊形波导,仿真分析和测试了2种波导的传输损耗。对于1550 nm的光,测试得到条形波导和脊形波导的传输损耗分别为-2.4 dB·cm^(-1)和-2.0 dB·cm^(-1),同样截面且忽略杂质缺陷和表面粗糙程度的理想波导的损耗均接近于0。通过对这些数据的分析,计算出条形波导表面散射损耗为-1.42 dB·cm^(-1),占总体损耗的59.2%,内部散射损耗为-0.98 dB·cm^(-1),占总体的40.8%。 展开更多
关键词 波导 传输损耗 内部散射损耗 表面散射损耗
在线阅读 下载PDF
基于SOI的光电探测器设计与单片集成技术研究
9
作者 宋鹏汉 张有润 +2 位作者 甄少伟 周万礼 汪煜 《电子与封装》 2021年第8期59-64,共6页
设计了一种基于SOI材料制作的兼顾响应度和带宽的光电探测器,该光电探测器采用标准0.18μm CMOS工艺,与现有工艺完全兼容,同时易于单片集成。利用Silvaco对该光电探测器进行了仿真,并对仿真结果进行分析。分析了光电探测器响应度和带宽... 设计了一种基于SOI材料制作的兼顾响应度和带宽的光电探测器,该光电探测器采用标准0.18μm CMOS工艺,与现有工艺完全兼容,同时易于单片集成。利用Silvaco对该光电探测器进行了仿真,并对仿真结果进行分析。分析了光电探测器响应度和带宽的影响因素,通过控制吸收层厚度、离子注入深度等工艺步骤,结合器件特性设计优化深N阱结构,实现了高响应度高带宽的光电探测器。在5 V反向偏置的条件下,基于SOI的光电探测器在850 nm波长下实现了0.33 A/W的响应度,-3 dB带宽为120 MHz。研究结果对高速应用场景下的光电探测器的发展具有重要意义。 展开更多
关键词 绝缘体上硅 光电流 响应度 频率响应
在线阅读 下载PDF
10kV SiC GTO器件特性研究
10
作者 程琳 罗佳敏 +4 位作者 龚存昊 张有润 唐毅 门富媛 都小利 《电子与封装》 2022年第3期12-17,共6页
基于第三代宽禁带半导体材料4H-SiC的超高压门极可关断晶闸管(Gate Turn-Off Thyristor,GTO)器件,在双向载流子注入和电导调制效应的作用下,器件在耐高压的同时获得高通态电流,在功率密度和可靠性等方面可以满足超大功率应用的要求。考... 基于第三代宽禁带半导体材料4H-SiC的超高压门极可关断晶闸管(Gate Turn-Off Thyristor,GTO)器件,在双向载流子注入和电导调制效应的作用下,器件在耐高压的同时获得高通态电流,在功率密度和可靠性等方面可以满足超大功率应用的要求。考虑到正向阻断电压、正向导通压降和脉冲电路下的开启时间等,提出了10 kV 4H-SiC GTO器件,借助Silvaco TCAD仿真研究了GTO器件的正向导通特性、正向阻断特性、动态开关特性和脉冲放电特性,得出了其正向导通压降为4.605 V,正向阻断电压为14.78 kV,开启时间为55 ns,关断时间为13.3 ns。 展开更多
关键词 4H-SIC 门极可关断晶闸管 脉冲放电特性
在线阅读 下载PDF
Two-dimensional analysis of the interface state effect on current gain for a 4H-SiC bipolar junction transistor 被引量:2
11
作者 张有润 张波 +1 位作者 李肇基 邓小川 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2010年第6期453-458,共6页
This paper studies two-dimensional analysis of the surface state effect on current gain for a 4H-SiC bipolar junction transistor (BJT). Simulation results indicate the mechanism of current gain degradation, which is... This paper studies two-dimensional analysis of the surface state effect on current gain for a 4H-SiC bipolar junction transistor (BJT). Simulation results indicate the mechanism of current gain degradation, which is surface Fermi level pinning leading to a strong downward bending of the energy bands to form the channel of surface electron recombination current. The experimental results are well-matched with the simulation, which is modeled by exponential distributions of the interface state density replacing the single interface state trap. Furthermore, the simulation reveals that the oxide quality of the base emitter junction interface is very important for 4H-SiC BJT performance. 展开更多
关键词 4H-SIC bipolar junction transistor current gain interface state trap
在线阅读 下载PDF
A novel structure of a high current gain 4H-SiC BJT with a buried layer in the base
12
作者 张有润 张波 +2 位作者 李肇基 邓小川 刘曦麟 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2009年第9期3995-3999,共5页
In this paper, a new structure of a 4H-SiC bipolar junction transistor (BJT) with a buried layer (BL) in the base is presented. The current gain shows an approximately 100% increase compared with that of the conve... In this paper, a new structure of a 4H-SiC bipolar junction transistor (BJT) with a buried layer (BL) in the base is presented. The current gain shows an approximately 100% increase compared with that of the conventional structure. This is attributed to the creation of a built-in electric field for the minority carriers to transport in the base which is explained based on 2D device simulations. The optimized design of the buried layer region is also considered by numeric simulations. 展开更多
关键词 4H-SIC bipolar junction transistor (BJT) buried layer current gain
在线阅读 下载PDF
Thermal analytic model of current gain for bipolar junction transistor-bipolar static induction transistor compound device
13
作者 张有润 张波 +2 位作者 李泽宏 赖昌菁 李肇基 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2009年第2期763-767,共5页
This paper proposes a thermal analytical model of current gain for bipolar junction transistor-bipolar static induction transistor (BJT-BSIT) compound device in the low current operation. It also proposes a best the... This paper proposes a thermal analytical model of current gain for bipolar junction transistor-bipolar static induction transistor (BJT-BSIT) compound device in the low current operation. It also proposes a best thermal compensating factor to the compound device that indicates the relationship between the thermal variation rate of current gain and device structure. This is important for the design of compound device to be optimized. Finally, the analytical model is found to be in good agreement with numerical simulation and experimental results. The test results demonstrate that thermal variation rate of current gain is below 10% in 25 ℃-85 ℃ and 20% in -55 ℃-25 ℃. 展开更多
关键词 bipolar junction transistor-bipolar static induction transistor thermal analytic model current gain
在线阅读 下载PDF
Improved performance of 4H-SiC metal-semiconductor field-effect transistors with step p-buffer layer
14
作者 邓小川 张波 +2 位作者 张有润 王易 李肇基 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2011年第1期584-588,共5页
An improved 4H-SiC metal-semiconductor field-effect transistors (MESFETs) with step p-buffer layer is proposed, and the static and dynamic electrical performances are analysed in this paper. A step p-buffer layer ha... An improved 4H-SiC metal-semiconductor field-effect transistors (MESFETs) with step p-buffer layer is proposed, and the static and dynamic electrical performances are analysed in this paper. A step p-buffer layer has been applied not only to increase the channel current, but also to improve the transconductance. This is due to the fact that the variation in p-buffer layer depth leads to the decrease in parasitic series resistance resulting from the change in the active channel thickness and modulation in the electric field distribution inside the channel. Detailed numerical simulations demonstrate that the saturation drain current and the maximum theoretical output power density of the proposed structure are about 30% and 37% larger than those of the conventional structure. The cut-off frequency and the maximum oscillation frequency of the proposed MESFETs are 14.5 and 62 GHz, respectively, which are higher than that of the conventional structure. Therefore, the 4H-SiC MESFETs with step p-buffer layer have superior direct-current and radio-frequency performances compared to the similar devices based on the conventional structure. 展开更多
关键词 4H-SIC metal-semiconductor field-effect transistors step buffer laver
在线阅读 下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部