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不同金属基体上W-C：H溅射薄膜的摩擦学性能
被引量：
1
1
作者
郑军
周晖
+2 位作者
杨拉毛草
张延帅
翟广泉
《宇航材料工艺》
CAS
CSCD
北大核心
2015年第1期57-61,共5页
采用非平衡磁控溅射技术在40Cr、9Cr18、GCr15、TC4及LY12等5种金属基体上沉积了钨掺杂含氢类金刚石（W-C：H）薄膜.采用Raman光谱仪、扫描电子显微镜、纳米硬度计及纳米划痕仪分别测试了薄膜的微结构、厚度、硬度及附着力,采用球-盘摩...
采用非平衡磁控溅射技术在40Cr、9Cr18、GCr15、TC4及LY12等5种金属基体上沉积了钨掺杂含氢类金刚石（W-C：H）薄膜.采用Raman光谱仪、扫描电子显微镜、纳米硬度计及纳米划痕仪分别测试了薄膜的微结构、厚度、硬度及附着力,采用球-盘摩擦试验机及光学轮廓仪分别在干摩擦和PFPE脂润滑条件下评价了5种金属材料基体上薄膜的摩擦磨损性能.薄膜性能测试结果显示,该厚度为1μm的薄膜具有典型的类金刚石结构,硬度与弹性模量分别为11.56和128.34 GPa,附着力为645 mN;摩擦试验结果显示,在干摩擦条件下几种金属基体表面W-C：H薄膜的摩擦因数和磨损率差别比较显著,而在脂润滑条件下基体材料的影响较小;与干摩擦条件相比,脂润滑条件下薄膜的磨损可减少60％ ～75％;在干摩擦与脂润滑条件下,9Cr18与40Cr基体上的W-C：H薄膜摩擦体系分别具有最小的磨损率1.71×10-7 mm3/（N·m）及4.55×10-8 mm3/（N·m）.
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关键词
W-C:H薄膜
摩擦学
PEPE润滑脂
力学性能
非平衡磁控溅射
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职称材料
激光引弧磁过滤真空阴极电弧制备ta-C薄膜的结构与性能
被引量：
3
2
作者
郑宇
周晖
+4 位作者
张凯锋
冯兴国
张延帅
汪科良
郑玉刚
《真空与低温》
2020年第5期424-430,共7页
采用自主研制的激光引弧磁过滤真空阴极电弧沉积设备在不同工件台转速下制备了四面体非晶碳膜,通过改变工件台转速调节沉积速率,探讨了沉积速率对四面体非晶碳膜结构与性能的影响。结果表明,随着沉积速率的增加,四面体非晶碳膜硬度及弹...
采用自主研制的激光引弧磁过滤真空阴极电弧沉积设备在不同工件台转速下制备了四面体非晶碳膜,通过改变工件台转速调节沉积速率,探讨了沉积速率对四面体非晶碳膜结构与性能的影响。结果表明,随着沉积速率的增加,四面体非晶碳膜硬度及弹性模量随sp3键含量变化先增加后减小,最大值分别为48 GPa和300 GPa。薄膜的摩擦因数受沉积速率影响不大,均在0.14左右。薄膜的磨损率随着沉积速率的增加逐渐降低,最小为6×10-16 m3(/N·m)。研究发现在一定范围内调节沉积速率可以有效地提高四面体非晶碳膜的力学性能及耐磨性能。
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关键词
四面体非晶碳膜
激光引弧
磁过滤真空阴极电弧沉积
沉积速率
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职称材料
题名
不同金属基体上W-C：H溅射薄膜的摩擦学性能
被引量：
1
1
作者
郑军
周晖
杨拉毛草
张延帅
翟广泉
机构
兰州空间技术物理研究所
北京空间机电研究所
出处
《宇航材料工艺》
CAS
CSCD
北大核心
2015年第1期57-61,共5页
文摘
采用非平衡磁控溅射技术在40Cr、9Cr18、GCr15、TC4及LY12等5种金属基体上沉积了钨掺杂含氢类金刚石（W-C：H）薄膜.采用Raman光谱仪、扫描电子显微镜、纳米硬度计及纳米划痕仪分别测试了薄膜的微结构、厚度、硬度及附着力,采用球-盘摩擦试验机及光学轮廓仪分别在干摩擦和PFPE脂润滑条件下评价了5种金属材料基体上薄膜的摩擦磨损性能.薄膜性能测试结果显示,该厚度为1μm的薄膜具有典型的类金刚石结构,硬度与弹性模量分别为11.56和128.34 GPa,附着力为645 mN;摩擦试验结果显示,在干摩擦条件下几种金属基体表面W-C：H薄膜的摩擦因数和磨损率差别比较显著,而在脂润滑条件下基体材料的影响较小;与干摩擦条件相比,脂润滑条件下薄膜的磨损可减少60％ ～75％;在干摩擦与脂润滑条件下,9Cr18与40Cr基体上的W-C：H薄膜摩擦体系分别具有最小的磨损率1.71×10-7 mm3/（N·m）及4.55×10-8 mm3/（N·m）.
关键词
W-C:H薄膜
摩擦学
PEPE润滑脂
力学性能
非平衡磁控溅射
Keywords
W-C ： H films, Tribology, PEPE lubricant, Mechanical properties, Ubalanced magnetron sputtering
分类号
TH117.1 [机械工程—机械设计及理论]
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职称材料
题名
激光引弧磁过滤真空阴极电弧制备ta-C薄膜的结构与性能
被引量：
3
2
作者
郑宇
周晖
张凯锋
冯兴国
张延帅
汪科良
郑玉刚
机构
兰州空间技术物理研究所真空技术与物理重点实验室
出处
《真空与低温》
2020年第5期424-430,共7页
文摘
采用自主研制的激光引弧磁过滤真空阴极电弧沉积设备在不同工件台转速下制备了四面体非晶碳膜,通过改变工件台转速调节沉积速率,探讨了沉积速率对四面体非晶碳膜结构与性能的影响。结果表明,随着沉积速率的增加,四面体非晶碳膜硬度及弹性模量随sp3键含量变化先增加后减小,最大值分别为48 GPa和300 GPa。薄膜的摩擦因数受沉积速率影响不大,均在0.14左右。薄膜的磨损率随着沉积速率的增加逐渐降低,最小为6×10-16 m3(/N·m)。研究发现在一定范围内调节沉积速率可以有效地提高四面体非晶碳膜的力学性能及耐磨性能。
关键词
四面体非晶碳膜
激光引弧
磁过滤真空阴极电弧沉积
沉积速率
Keywords
tetrahedral amorphous carbon film
laser arc ignition
magnetic filter vacuum cathode arc deposition
deposition rate
分类号
TG174.44 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
不同金属基体上W-C：H溅射薄膜的摩擦学性能
郑军
周晖
杨拉毛草
张延帅
翟广泉
《宇航材料工艺》
CAS
CSCD
北大核心
2015
1
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
激光引弧磁过滤真空阴极电弧制备ta-C薄膜的结构与性能
郑宇
周晖
张凯锋
冯兴国
张延帅
汪科良
郑玉刚
《真空与低温》
2020
3
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职称材料
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