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Cu_2ZnSnS_4粉体材料的制备及其性能研究 被引量:2
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作者 张基东 杨海刚 +3 位作者 郝瑞亭 宋桂林 王天兴 常方高 《河南师范大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2013年第2期57-60,共4页
采用固相反应法制备了Cu2ZnSnS4(CZTS)粉体材料,利用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对样品的形貌和晶体结构进行了表征,采用紫外-可见-近红外分光光度计对样品的光学性能进行了测试,研究了热处理温度对CZTS样品的晶体结构、光... 采用固相反应法制备了Cu2ZnSnS4(CZTS)粉体材料,利用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对样品的形貌和晶体结构进行了表征,采用紫外-可见-近红外分光光度计对样品的光学性能进行了测试,研究了热处理温度对CZTS样品的晶体结构、光吸收系数和禁带宽度等性能的影响关系.研究结果表明:使用固相反应法在热处理温度高于500℃时,得到的CZTS粉体材料结构为典型的锌黄锡矿晶体结构,其禁带宽度为1.45eV,SEM照片显示样品粒径为50μm的粉体.该材料可以用来压制CZTS靶材,可以用在CZTS薄膜材料的制备领域. 展开更多
关键词 Cu2ZnSnS4(CZTS) 固相反应 光谱分析 粉体材料
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无硫化过程磁控溅射制备Cu2ZnSnS4薄膜及其结构和光学性质研究
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作者 杨海刚 张基东 +3 位作者 郝瑞亭 曹伟伟 李美成 常方高 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第9期991-996,共6页
使用Cu2ZnSnS4(CZTS)靶材,通过射频磁控溅射方法镀膜,不经后期硫化处理,在钠钙玻璃衬底上沉积了锌黄锡矿结构的CZTS薄膜材料。在薄膜的沉积过程中,衬底温度分别为300,400和500℃。利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、能量色散X射线光谱... 使用Cu2ZnSnS4(CZTS)靶材,通过射频磁控溅射方法镀膜,不经后期硫化处理,在钠钙玻璃衬底上沉积了锌黄锡矿结构的CZTS薄膜材料。在薄膜的沉积过程中,衬底温度分别为300,400和500℃。利用扫描电子显微镜、X射线衍射仪、能量色散X射线光谱仪和紫外-可见-近红外分光光度计等对薄膜样品的微观形貌、晶体结构、元素成分、光学性质等进行了研究。分析讨论了衬底温度对样品的表面形貌、晶体结构、化学成分、光吸收系数和禁带宽度的影响关系。结果表明,在衬底温度为500℃条件下沉积得到的CZTS薄膜样品,具有较好的锌黄锡矿晶体结构,晶粒大小为23 nm,光吸收系数在可见光范围内高于1×104cm-1,禁带宽度为1.49 eV。 展开更多
关键词 铜锌锡硫薄膜 晶体结构 禁带宽度 磁控溅射 衬底温度
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全薄膜电致变色元件的制备及其光学性能研究
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作者 杨海刚 詹华伟 +3 位作者 张基东 曹伟伟 宋桂林 常方高 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第6期1087-1091,共5页
采用磁控溅射法在单层玻璃基片上制备了由多层薄膜构成的电致变色元件,通过XRD、SEM等对薄膜及元件的晶体结构、表面形貌等进行了表征分析。采用可见光透射谱,研究了元件的电致变色性能。结果表明,较低的基片温度和较大的靶基距是采用... 采用磁控溅射法在单层玻璃基片上制备了由多层薄膜构成的电致变色元件,通过XRD、SEM等对薄膜及元件的晶体结构、表面形貌等进行了表征分析。采用可见光透射谱,研究了元件的电致变色性能。结果表明,较低的基片温度和较大的靶基距是采用磁控溅射制备电致变色元件的两个很重要的因素。所制备的全薄膜电致变色元件在处于漂白态和着色态时,对可见光的透过率分别达到了47.19%和15.67%,对光的透射率调节范围为31.52%。该全薄膜电致变色元件在电致变色智能窗领域具有较大的应用潜力。 展开更多
关键词 电致变色元件 透射率调节 ITO 磁控溅射
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WO_3薄膜的电致变色与响应时间机理研究 被引量:8
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作者 杨海刚 宋桂林 +2 位作者 张基东 王天兴 常方高 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第5期1316-1321,共6页
采用直流反应磁控溅射方法制备了纳米WO3薄膜,研究了溅射气压对WO3薄膜的表面形貌和微结构的影响。利用X射线衍射仪和扫描电子显微镜对WO3的微结构进行了表征。采用紫外-可见分光光度计和循环伏安测试系统对样品的电致变色及响应时间性... 采用直流反应磁控溅射方法制备了纳米WO3薄膜,研究了溅射气压对WO3薄膜的表面形貌和微结构的影响。利用X射线衍射仪和扫描电子显微镜对WO3的微结构进行了表征。采用紫外-可见分光光度计和循环伏安测试系统对样品的电致变色及响应时间性能进行了研究。结果表明,纳米WO3薄膜的微孔结构特征具有较大的比表面积,有利于改善其电致变色性能。当溅射气压为4 Pa时,WO3薄膜在可见光区的电致变色平均调色范围达到了71.6%,并且其着色响应时间为5 s,漂白响应时间为16 s。 展开更多
关键词 WO3薄膜 磁控溅射 电致变色 响应时间
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