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用中子活化分析镀膜厚度及其探测极限研究 被引量:1
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作者 姚茂莹 徐家云 +4 位作者 高党忠 张地大 杨尊勇 姚振强 王明秋 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第12期1509-1512,共4页
本工作提出用中子活化分析有基底的单层或多层镀膜厚度的方法。用Am-Be中子源对Au、Al、Cu等薄膜活化后,用HPGe探测器测量被活化薄膜放出的特征γ射线全能峰面积,并用蒙特卡罗方法模拟计算HPGe探测器对不同特征γ射线的探测效率,得到用... 本工作提出用中子活化分析有基底的单层或多层镀膜厚度的方法。用Am-Be中子源对Au、Al、Cu等薄膜活化后,用HPGe探测器测量被活化薄膜放出的特征γ射线全能峰面积,并用蒙特卡罗方法模拟计算HPGe探测器对不同特征γ射线的探测效率,得到用反应堆中子源活化分析不同元素镀膜厚度的方法和探测极限。与目前广泛使用的X射线荧光方法相比,其分析灵敏度可提高几个量级。 展开更多
关键词 镀膜厚度 中子活化 测量灵敏度
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