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题名新型钢抛光液中磨料的种类及其性能研究进展
被引量：1
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作者
陈倚
张偲淼
屈蔚然
郑书佳
孙一嘉
弓爱君
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机构
北京科技大学化学与生物工程学院
北京科技大学功能分子与晶态材料科学与应用北京市重点实验室
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出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第3期88-100,122,共14页
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基金
北京科技大学教育教学重大教改项目(JG2021ZD01)
北京科技大学校级规划教材项目(JC2021YB040)
大学生创新创业项目。
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文摘
磨料在抛光液中主要起机械作用,磨料的理化性质,如硬度、粒径、浓度等,是影响化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)性能的重要因素,对抛光效率有较大影响。针对我国抛光液对外依赖、需求量大,但精度等指标达不到市场要求等问题,同时由于磨料在抛光液的抛光性能中起着至关重要的作用,因此寻求效果更好的改性磨料或新型磨料材料,以促进化学机械抛光技术的发展势在必行。故此,归纳汇总近年来国内外研制出的新型钢抛光液,聚焦于抛光液磨料这一重要组分中不同物质的物化性质及其作用,对抛光性能(如材料去除率、表面粗糙度和光泽度等)的影响等,分类别阐述了不同物质的优劣势、复配协同作用以及在现有抛光液中的效果,为之后抛光液配方研究中磨料的选择提供参考。归纳总结发现,混合与复合磨料较单一磨料有较大的提升,稀土掺杂、核/壳结构等改进存在较大的研究价值,组分间的复配协同作用对抛光性能的提升有一定作用。最后,基于目前钢抛光液应用中存在的问题以及现有的具有前景的技术,对钢抛光液中磨料的发展进行了展望。
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关键词
化学机械抛光
抛光液
钢
磨料
抛光机理
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Keywords
CMP
polishing solution
steel
abrasive
polishing mechanism
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分类号
TG356.28
[金属学及工艺—金属压力加工]
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