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气体放电与等离子体在芯片制造领域中的应用
1
作者
付洋洋
王新新
+11 位作者
邹晓兵
韩星
陈佳毅
张东荷雨
陈健东
林楚彬
杨栋
贾鸿宇
王倩
郑博聪
赵凯
肖舒
《高电压技术》
北大核心
2025年第8期4458-4477,共20页
放电等离子体广泛应用于半导体芯片制造,包括光刻、刻蚀、薄膜沉积、离子注入、等离子体清洗等,其技术总成占据集成电路产业份额1/3以上,已发展成为芯片制造工艺与装备领域的关键核心技术。该文对气体放电与等离子体在芯片制造领域的典...
放电等离子体广泛应用于半导体芯片制造,包括光刻、刻蚀、薄膜沉积、离子注入、等离子体清洗等,其技术总成占据集成电路产业份额1/3以上,已发展成为芯片制造工艺与装备领域的关键核心技术。该文对气体放电与等离子体在芯片制造领域的典型应用进行了概述。首先,针对光刻光源系统,介绍了气体放电泵浦准分子激光、激光产生等离子体辐射极紫外光的基本原理,其本质都是利用等离子体产生的光辐射;其次,针对刻蚀用射频等离子体,介绍了低气压射频放电的产生、特性、调控及相关工艺技术;再次,对薄膜工艺、离子注入装备原理及相关放电等离子体技术原理进行了介绍与讨论;随后,在量测与检测方面,分别介绍了光学检测与电子束检测的特点,阐述了激光维持等离子体实现宽谱强辐射光源的基本原理与特性;最后,介绍了基于辉光放电的等离子体清洗技术,以及其在去除刻蚀残留物中的应用。通过总结梳理气体放电与等离子体在半导体制造领域中的应用及相关核心技术,明晰放电等离子体科学基础研究方向,助力解决半导体装备国产化过程中的等离子体技术瓶颈。
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关键词
气体放电
等离子体
芯片制造
气体激光
等离子体辐射
射频放电
等离子体刻蚀
激光维持等离子体
辉光放电清洗
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职称材料
新型冠状病毒样本查杀一体化系统关键技术
被引量：
2
2
作者
张东荷雨
郭云涛
+8 位作者
张丽阳
李深伟
王瑶
刘培培
王红球
吴越
何宇平
周群
罗海云
《中国电机工程学报》
EI
CSCD
北大核心
2022年第12期4623-4632,共10页
新型冠状病毒肺炎是由新型冠状病毒感染引发的一种急性呼吸道传染病,自爆发以来已对世界经济发展和人民健康安全造成威胁。鉴于目前多种病毒变异株的出现,防控难度不断升级,快速、简便、大规模的检测手段对疫情控制起到关键作用。该文...
新型冠状病毒肺炎是由新型冠状病毒感染引发的一种急性呼吸道传染病,自爆发以来已对世界经济发展和人民健康安全造成威胁。鉴于目前多种病毒变异株的出现,防控难度不断升级,快速、简便、大规模的检测手段对疫情控制起到关键作用。该文基于傅里叶变换红外光谱检测技术、模式识别算法及等离子体消毒技术开发了一种新型冠状病毒样本查杀一体化系统,并初步测试了该系统的检测及消毒有效性。“查”方面,该文将数据库规模从115例血清样本扩大至857例,并应用偏最小二乘分类、卷积神经网络两种模式识别算法建立对新冠阳性、对照阴性、免疫异常干扰样本的分类模型,预测准确率分别可达到91.97%和98.29%。“杀”方面,为了解决操作安全性问题,基于放电等离子体技术开发了样本干燥消毒模块和柔性消毒薄膜,对仪器重点位置进行有效保护,经实验室模拟消毒试验,两模块对大肠杆菌杀灭率均可达到99.9%以上,符合《消毒技术规范》2002版中的规定。综上,该文在新冠样本光谱检测过程中的“查”、“杀”两部分均进行了技术创新,并实现检测与消毒功能的结合,有助于光谱检测方法的应用推广。
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关键词
新型冠状病毒肺炎
傅里叶变换红外光谱
模式识别
表面介质阻挡放电
消毒学
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职称材料
题名
气体放电与等离子体在芯片制造领域中的应用
1
作者
付洋洋
王新新
邹晓兵
韩星
陈佳毅
张东荷雨
陈健东
林楚彬
杨栋
贾鸿宇
王倩
郑博聪
赵凯
肖舒
机构
清华大学电机工程与应用电子技术系
新型电力系统运行与控制全国重点实验室(清华大学电机工程与应用电子技术系)
清华四川能源互联网研究院
中国科学院微电子研究所
北京理工大学物理学院
大连理工大学物理学院
华南理工大学机械与汽车工程学院
出处
《高电压技术》
北大核心
2025年第8期4458-4477,共20页
基金
国家自然科学基金(52277154)。
文摘
放电等离子体广泛应用于半导体芯片制造,包括光刻、刻蚀、薄膜沉积、离子注入、等离子体清洗等,其技术总成占据集成电路产业份额1/3以上,已发展成为芯片制造工艺与装备领域的关键核心技术。该文对气体放电与等离子体在芯片制造领域的典型应用进行了概述。首先,针对光刻光源系统,介绍了气体放电泵浦准分子激光、激光产生等离子体辐射极紫外光的基本原理,其本质都是利用等离子体产生的光辐射;其次,针对刻蚀用射频等离子体,介绍了低气压射频放电的产生、特性、调控及相关工艺技术;再次,对薄膜工艺、离子注入装备原理及相关放电等离子体技术原理进行了介绍与讨论;随后,在量测与检测方面,分别介绍了光学检测与电子束检测的特点,阐述了激光维持等离子体实现宽谱强辐射光源的基本原理与特性;最后,介绍了基于辉光放电的等离子体清洗技术,以及其在去除刻蚀残留物中的应用。通过总结梳理气体放电与等离子体在半导体制造领域中的应用及相关核心技术,明晰放电等离子体科学基础研究方向,助力解决半导体装备国产化过程中的等离子体技术瓶颈。
关键词
气体放电
等离子体
芯片制造
气体激光
等离子体辐射
射频放电
等离子体刻蚀
激光维持等离子体
辉光放电清洗
Keywords
gas discharge
plasma
chip manufacturing
gas laser
plasma radiation
radio frequency discharge
plasma etching
laser-sustained plasma
glow discharge cleaning
分类号
O539 [理学—等离子体物理]
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
新型冠状病毒样本查杀一体化系统关键技术
被引量：
2
2
作者
张东荷雨
郭云涛
张丽阳
李深伟
王瑶
刘培培
王红球
吴越
何宇平
周群
罗海云
机构
清华大学电机工程与应用电子技术系
上海国际旅行卫生保健中心(上海海关口岸门诊部)
中国医学科学院北京协和医院
中国疾病预防控制中心病毒病预防控制所
北京鉴知技术有限公司
北京汇路鑫科技有限公司
清华大学化学系
出处
《中国电机工程学报》
EI
CSCD
北大核心
2022年第12期4623-4632,共10页
基金
国家重点研发计划项目(2020YFC0862100)
清华大学春风基金(2020Z99CFG007)
清华大学北京协和医院自主科研联合项目(20191080604)。
文摘
新型冠状病毒肺炎是由新型冠状病毒感染引发的一种急性呼吸道传染病,自爆发以来已对世界经济发展和人民健康安全造成威胁。鉴于目前多种病毒变异株的出现,防控难度不断升级,快速、简便、大规模的检测手段对疫情控制起到关键作用。该文基于傅里叶变换红外光谱检测技术、模式识别算法及等离子体消毒技术开发了一种新型冠状病毒样本查杀一体化系统,并初步测试了该系统的检测及消毒有效性。“查”方面,该文将数据库规模从115例血清样本扩大至857例,并应用偏最小二乘分类、卷积神经网络两种模式识别算法建立对新冠阳性、对照阴性、免疫异常干扰样本的分类模型,预测准确率分别可达到91.97%和98.29%。“杀”方面,为了解决操作安全性问题,基于放电等离子体技术开发了样本干燥消毒模块和柔性消毒薄膜,对仪器重点位置进行有效保护,经实验室模拟消毒试验,两模块对大肠杆菌杀灭率均可达到99.9%以上,符合《消毒技术规范》2002版中的规定。综上,该文在新冠样本光谱检测过程中的“查”、“杀”两部分均进行了技术创新,并实现检测与消毒功能的结合,有助于光谱检测方法的应用推广。
关键词
新型冠状病毒肺炎
傅里叶变换红外光谱
模式识别
表面介质阻挡放电
消毒学
Keywords
Coronavirus Disease 2019
Fourier transforminfrared spectroscopy
pattern recognition
surface dielectric barrier discharge
disinfection
分类号
TM89 [电气工程—高电压与绝缘技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
气体放电与等离子体在芯片制造领域中的应用
付洋洋
王新新
邹晓兵
韩星
陈佳毅
张东荷雨
陈健东
林楚彬
杨栋
贾鸿宇
王倩
郑博聪
赵凯
肖舒
《高电压技术》
北大核心
2025
0
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职称材料
2
新型冠状病毒样本查杀一体化系统关键技术
张东荷雨
郭云涛
张丽阳
李深伟
王瑶
刘培培
王红球
吴越
何宇平
周群
罗海云
《中国电机工程学报》
EI
CSCD
北大核心
2022
2
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职称材料
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