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ICP-CVD制备a-CHON及光学性能分析
1
作者
陈飞
吴卫东
+1 位作者
干泰原
曹林洪
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第5期408-414,共7页
采用外置电感耦合等离子体化学气相沉积法,以高纯CH4/N2/CO2/H2作为反应气体,制备出非晶的a-CHON薄膜。研究了放电功率对薄膜沉积速率、表面形貌及光学性能的影响。结果表明沉积速率随着放电功率的增加而增加,而非线性增加;原子力显微...
采用外置电感耦合等离子体化学气相沉积法,以高纯CH4/N2/CO2/H2作为反应气体,制备出非晶的a-CHON薄膜。研究了放电功率对薄膜沉积速率、表面形貌及光学性能的影响。结果表明沉积速率随着放电功率的增加而增加,而非线性增加;原子力显微镜分析结果表明放电功率对薄膜粗糙度有较大的影响;红外光谱分析表明了薄膜内部存在C-O,C=O,C≡N以及C-H键;紫外-可见-近红外光分析表明,薄膜的光学带隙随放电功率的增加而减小;薄膜折射率在可见光区的色散图表明,折射率随入射光频率的增加而减小,出现反常色散关系;而在同一波长下薄膜的折射率先随放电功率的增加而减小,而后又有所增加。
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关键词
射频电感耦合等离子体化学气相沉积
a-CHON薄膜
沉积速率
表面形貌
光学性能
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职称材料
题名
ICP-CVD制备a-CHON及光学性能分析
1
作者
陈飞
吴卫东
干泰原
曹林洪
机构
西南科技大学材料科学与工程学院四川省非金属复合与功能材料重点实验室省部共建国家重点实验室培育基地
西南科技大学中国工程物理研究院激光聚变研究中心极端条件物质特性联合实验室
中国工程物理研究院激光聚变研究中心
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第5期408-414,共7页
文摘
采用外置电感耦合等离子体化学气相沉积法,以高纯CH4/N2/CO2/H2作为反应气体,制备出非晶的a-CHON薄膜。研究了放电功率对薄膜沉积速率、表面形貌及光学性能的影响。结果表明沉积速率随着放电功率的增加而增加,而非线性增加;原子力显微镜分析结果表明放电功率对薄膜粗糙度有较大的影响;红外光谱分析表明了薄膜内部存在C-O,C=O,C≡N以及C-H键;紫外-可见-近红外光分析表明,薄膜的光学带隙随放电功率的增加而减小;薄膜折射率在可见光区的色散图表明,折射率随入射光频率的增加而减小,出现反常色散关系;而在同一波长下薄膜的折射率先随放电功率的增加而减小,而后又有所增加。
关键词
射频电感耦合等离子体化学气相沉积
a-CHON薄膜
沉积速率
表面形貌
光学性能
Keywords
Radio frequency inductance coupling plasma plasma chemical vapor deposition, a-CHON films, Deposi-tion rote, Surface topography, Optical properties
分类号
O484.41 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
ICP-CVD制备a-CHON及光学性能分析
陈飞
吴卫东
干泰原
曹林洪
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013
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