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一种基于SDN的在线流量异常检测方法 被引量:30
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作者 左青云 陈鸣 +1 位作者 王秀磊 刘波 《西安电子科技大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第1期155-160,共6页
基于软件定义网络的集中管控平面,提出了一种在线流量异常检测方法.首先在控制器上在线获取OpenFlow交换机的流表信息,并构造整个网络的流量矩阵与样本熵矩阵进行组合,然后采用主成分分析方法检测异常流量.实验结果表明,相比于传统网络... 基于软件定义网络的集中管控平面,提出了一种在线流量异常检测方法.首先在控制器上在线获取OpenFlow交换机的流表信息,并构造整个网络的流量矩阵与样本熵矩阵进行组合,然后采用主成分分析方法检测异常流量.实验结果表明,相比于传统网络中利用主成分分析方法分别单独处理离线的流量矩阵或样本熵矩阵的方法,在线流量异常检测方法实现和处理方式简单、有效,异常流量能够得到快速隔离,是基于软件定义网络的一种轻量级在线流量异常检测方法. 展开更多
关键词 在线流量异常检测方法网络 软件定义网络 流量异常 在线检测 主成分分析
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基于I-V特性的阻变存储器的阻变机制研究 被引量:11
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作者 李颖弢 刘明 +7 位作者 龙世兵 刘琦 张森 王艳 左青云 王琴 胡媛 刘肃 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2009年第3期134-140,153,共8页
随着器件尺寸的缩小,阻变存储器(RRAM)具有取代现有主流Flash存储器成为下一代新型存储器的潜力。但对RRAM器件电阻转变机制的研究在认识上依然存在很大的分歧,直接制约了RRAM的研发与应用。通过介绍阻变存储器的基本工作原理、不同的... 随着器件尺寸的缩小,阻变存储器(RRAM)具有取代现有主流Flash存储器成为下一代新型存储器的潜力。但对RRAM器件电阻转变机制的研究在认识上依然存在很大的分歧,直接制约了RRAM的研发与应用。通过介绍阻变存储器的基本工作原理、不同的阻变机制以及基于阻变存储器所表现出的不同I-V特性,研究了器件的阻变特性;详细分析了阻变存储器的五种阻变物理机制,即导电细丝(filament)、空间电荷限制电流效应(SCLC)、缺陷能级的电荷俘获和释放、肖特基发射效应(Schottky emission)以及普尔-法兰克效应(Pool-Frenkel);同时,对RRAM器件的研究发展趋势以及面临的挑战进行了展望。 展开更多
关键词 阻变存储器 非挥发性存储器 I-V特性 阻变机制 工作原理
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聚3-己基噻吩聚合物薄膜晶体管的稳定性 被引量:4
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作者 刘玉荣 左青云 +1 位作者 彭俊彪 黄美浅 《华南理工大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期65-70,共6页
为提高聚合物薄膜晶体管的稳定性,以单晶硅为衬底,二氧化硅为栅介质层,聚3-己基噻吩(P3HT)薄膜为半导体活性层,金属Au为源、漏电极,制备出聚合物薄膜晶体管(PTFT),对该器件的电特性进行了表征,研究了该器件在空气环境下的稳定性,并对该... 为提高聚合物薄膜晶体管的稳定性,以单晶硅为衬底,二氧化硅为栅介质层,聚3-己基噻吩(P3HT)薄膜为半导体活性层,金属Au为源、漏电极,制备出聚合物薄膜晶体管(PTFT),对该器件的电特性进行了表征,研究了该器件在空气环境下的稳定性,并对该器件在空气中的不稳定性机理进行了讨论.结果表明:当器件暴露在空气中时,随着暴露时间的增加,器件的饱和漏电流明显增大,阈值电压逐渐增加;空气中的水是影响器件特性的主要因素;通过采用光刻胶钝化处理可以有效地改善P3HT-PTFT器件在空气中的稳定性,并使器件的载流子迁移率提高3倍. 展开更多
关键词 薄膜晶体管 聚3-己基噻吩 稳定性 钝化
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面向作战指挥的武器装备知识图谱本体构建 被引量:1
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作者 刘一博 张海粟 +1 位作者 左青云 马琳飞 《火力与指挥控制》 CSCD 北大核心 2024年第5期44-51,共8页
当前,在武器装备知识图谱本体构建的研究上,多是面向武器装备维修管理、武器装备体系建设进行本体构建,面向作战指挥的武器装备本体构建研究相对缺乏。鉴于此,面向作战指挥需求,提出一种基于七步法和DODAF相结合的本体构建流程框架,基... 当前,在武器装备知识图谱本体构建的研究上,多是面向武器装备维修管理、武器装备体系建设进行本体构建,面向作战指挥的武器装备本体构建研究相对缺乏。鉴于此,面向作战指挥需求,提出一种基于七步法和DODAF相结合的本体构建流程框架,基于该流程框架进行了面向作战指挥的武器装备本体设计,并最终利用protégé工具进行了本体构建及展示,为后续面向作战指挥人员的知识库构建及知识应用打下基础。 展开更多
关键词 作战指挥 武器装备 知识图谱 本体构建 DODAF
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氧化钽阻变存储器的初始化电压调制
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作者 官郭沁 邹荣 +6 位作者 左青云 田盼 吕杭炳 田志 王奇伟 曾敏 杨志 《现代电子技术》 2021年第6期1-5,共5页
采用物理气相沉积和等离子体氧化工艺制备氧化钽阻变薄膜,利用X射线光电子能谱分析技术对阻变薄膜进行表征。系统研究等离子体氧化时间和阻挡层厚度对初始化电压的影响。研究表明,器件初始化电压随氧化时间增加而增大,同时增加阻挡层厚... 采用物理气相沉积和等离子体氧化工艺制备氧化钽阻变薄膜,利用X射线光电子能谱分析技术对阻变薄膜进行表征。系统研究等离子体氧化时间和阻挡层厚度对初始化电压的影响。研究表明,器件初始化电压随氧化时间增加而增大,同时增加阻挡层厚度可有效降低初始化电压。基于40 nm互补金属氧化物半导体量产工艺平台,成功地在40 nm晶体管后段集成了阻变单元,制备了氧化钽阻变存储器,其初始化电压为3.3 V,置位/复位电压在1.8 V以内。 展开更多
关键词 氧化钽 阻变存储器 电压调制 初始化电压 阻变单元 置位/复位电压
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