期刊文献+
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
粗化工艺对电解铜箔抗剥离强度和劣化率的影响 被引量:2
1
作者 彭雪嵩 由宏伟 +5 位作者 李兰晨 宋姝嬛 乐士儒 张锦秋 杨培霞 安茂忠 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2024年第3期95-101,共7页
铜箔粗化工艺与固化工艺是铜箔表面后处理中最关键的两个环节,粗化与固化工艺的好坏直接决定铜箔的性能。根据铜箔粗化与固化工艺过程,本文研究了Cu2+浓度、电流密度、镀液温度等因素对铜箔表面形貌和抗剥离性能以及劣化率的影响,在优... 铜箔粗化工艺与固化工艺是铜箔表面后处理中最关键的两个环节,粗化与固化工艺的好坏直接决定铜箔的性能。根据铜箔粗化与固化工艺过程,本文研究了Cu2+浓度、电流密度、镀液温度等因素对铜箔表面形貌和抗剥离性能以及劣化率的影响,在优化后的工艺条件下制备出了抗剥离强度为1.29N/mm,劣化率为3.01%且无侧蚀的粗化电解铜箔。 展开更多
关键词 电解铜箔 粗化工艺 抗剥离强度 劣化率 粗糙度
在线阅读 下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部