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准分子激光选择CVD技术的SnO_2薄膜图形生长及微透镜制作
被引量：
2
1
作者
王庆亚
姜喜兰
+1 位作者
马力
郑伟
《仪器仪表学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1995年第S1期328-330,共3页
准分子激光ＣＶＤ由于紫外光参与并促进了其源分解，所以对激光光束具有很强的选择性从而可以实现图形转换和直接图形生长，我们利用这一特点在自己建立的准分子激光选择ＣＶＤ系统上得到了ＳｎＯ２薄膜生长速率与激光能量密度间的关系...
准分子激光ＣＶＤ由于紫外光参与并促进了其源分解，所以对激光光束具有很强的选择性从而可以实现图形转换和直接图形生长，我们利用这一特点在自己建立的准分子激光选择ＣＶＤ系统上得到了ＳｎＯ２薄膜生长速率与激光能量密度间的关系曲线，并玻璃和Ｓｉ衬底上实现了ＳｎＯ２薄膜的宽约８０μｍ条伏和面积１００×１００μｍ２方形图形生长，同时也在Ｓｉ衬底进行了微透镜制作的尝试，获得了半径约４５μｍ近高斯分布的ＳｎＯ２，薄膜，其中心最大厚度约９７０ｍｍ。
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关键词
准分子激光
微透镜
薄膜图形
CVD技术
SnO
2
薄膜生长速率
图形转换
高斯分布
准分子激光器
激光能量密度
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职称材料
题名
准分子激光选择CVD技术的SnO_2薄膜图形生长及微透镜制作
被引量：
2
1
作者
王庆亚
姜喜兰
马力
郑伟
机构
吉林大学电子工程系集成光电子国家重点实验室吉林大学实验区
出处
《仪器仪表学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1995年第S1期328-330,共3页
文摘
准分子激光ＣＶＤ由于紫外光参与并促进了其源分解，所以对激光光束具有很强的选择性从而可以实现图形转换和直接图形生长，我们利用这一特点在自己建立的准分子激光选择ＣＶＤ系统上得到了ＳｎＯ２薄膜生长速率与激光能量密度间的关系曲线，并玻璃和Ｓｉ衬底上实现了ＳｎＯ２薄膜的宽约８０μｍ条伏和面积１００×１００μｍ２方形图形生长，同时也在Ｓｉ衬底进行了微透镜制作的尝试，获得了半径约４５μｍ近高斯分布的ＳｎＯ２，薄膜，其中心最大厚度约９７０ｍｍ。
关键词
准分子激光
微透镜
薄膜图形
CVD技术
SnO
2
薄膜生长速率
图形转换
高斯分布
准分子激光器
激光能量密度
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
准分子激光选择CVD技术的SnO_2薄膜图形生长及微透镜制作
王庆亚
姜喜兰
马力
郑伟
《仪器仪表学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1995
2
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