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18K、22K金镀层扫描电镜及俄歇电子能谱分析
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作者 程玉珍 展振宗 +4 位作者 韩瑞安 李望 张之铮 姚荣津 刘广杰 《电镀与精饰》 CAS 1992年第5期24-26,共3页
对使用直流及换向脉冲电源镀得的18K及22K金镀层进行了扫描电镜及俄歇电子能谱分析。结果表明:(1)用两种电源制得的镀层的表面形貌有很大差别,前者平坦,无明显结晶颗粒,后者可出现细卵石状密布颗粒;(2)俄歇成分分析表明,18K金镀层表面... 对使用直流及换向脉冲电源镀得的18K及22K金镀层进行了扫描电镜及俄歇电子能谱分析。结果表明:(1)用两种电源制得的镀层的表面形貌有很大差别,前者平坦,无明显结晶颗粒,后者可出现细卵石状密布颗粒;(2)俄歇成分分析表明,18K金镀层表面有Cd成分偏聚;(3)俄歇深度剖析表明,用两种电源镀得的18K及22K金镀层内,均有成分偏析的微细层次出现。文中,对Cd成分偏聚及微细层次出现的原因做了简要讨论。 展开更多
关键词 18K 镀金 22K 扫描电镜 俄歇能谱
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