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超临界合成氨的研究
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作者 唐浩东 刘化章 +2 位作者 韩文锋 卢春山 赵波 《石油化工》 CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期1705-1707,共3页
研究了在固定床反应器中Fe1-xO基催化剂超临界合成氨反应.筛选了17种超临界介质,探索了超临界合成氨的可行性.考察了反应温度的影响.研究发现在合成氨熔铁催化剂反应条件下,超临界介质都会发生分解,分解产物使催化剂活性降低.其中饱和... 研究了在固定床反应器中Fe1-xO基催化剂超临界合成氨反应.筛选了17种超临界介质,探索了超临界合成氨的可行性.考察了反应温度的影响.研究发现在合成氨熔铁催化剂反应条件下,超临界介质都会发生分解,分解产物使催化剂活性降低.其中饱和烷烃分解率最小,催化剂失活速率最慢,为较佳的反应介质.研究结果表明:超缶界介质的分解是造成催化剂活性降低的主要原因;超插界介质的加入,使合成氨的有效分压降低是出口氨含量降低的另一个原因;催化剂的活性温度是超临界合成氨的关键因素. 展开更多
关键词 超临界 合成氨 Fe1-xO基催化剂
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电化学-原子吸收光谱法联用测试中影响因素的分析 被引量:3
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作者 刘文涵 唐浩东 +2 位作者 高云芳 黄荣斌 周执明 《分析测试学报》 CAS CSCD 2000年第1期22-25,共4页
对电化学与火焰原子吸收光谱仪联用中测试的几种主要影响因素进行了探讨。 试验的影响因素包括电化学预富集池填充微粒的大小及填充厚度、溶液底液支持电解质的种类及浓度、溶出阶段支持电解质的类型及浓度、电化学预富集电压及溶出测... 对电化学与火焰原子吸收光谱仪联用中测试的几种主要影响因素进行了探讨。 试验的影响因素包括电化学预富集池填充微粒的大小及填充厚度、溶液底液支持电解质的种类及浓度、溶出阶段支持电解质的类型及浓度、电化学预富集电压及溶出测定阶段的反向电压的大小和流动液的流速。在选定的条件下, 经对铜离子的试验可使检出限降低2 个数量级。 展开更多
关键词 电化学 原子吸收光谱法 联用测试 影响因素
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Ru基及铁基氨合成催化剂操作条件与催化活性的比较
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作者 韩文锋 赵波 +2 位作者 唐浩东 霍超 刘化章 《石油化工》 CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期172-174,共3页
用高压氨合成催化剂性能评价装置研究了反应温度、压力、空速和氢氮比对活性炭负载的Ru基氨合成催化剂活性的影响,并与代表性的铁基催化剂(A301)进行了比较.在实验条件下,Ru的最佳反应温度为400℃左右,比相同条件下A301降低25℃左右.但... 用高压氨合成催化剂性能评价装置研究了反应温度、压力、空速和氢氮比对活性炭负载的Ru基氨合成催化剂活性的影响,并与代表性的铁基催化剂(A301)进行了比较.在实验条件下,Ru的最佳反应温度为400℃左右,比相同条件下A301降低25℃左右.但是,Ru催化剂的反应性能受温度的影响明显比铁基催化剂大,由于受到明显的氢吸附阻碍作用,导致在低温条件下其活性下降明显.氢氮比实验也证实了这一点,A301随氢氮比变化活性变化不大,Ru的催化活性受氢氮比影响非常大,当氢氮比由3.0降为1.0~1.5,在350,375,400℃时催化剂活性分别提高了72%、57%和10%.由于Ru负载在孔隙发达的活性炭上,因此受空速影响比铁催化剂较大. 展开更多
关键词 RU A301 氨合成 操作条件 催化剂
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A dC/dV Measurement for Quantum-Dot Light-Emitting Diodes
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作者 Jingrui Ma Haodong Tang +5 位作者 Xiangwei Qu Guohong Xiang Siqi Jia Pai Liu Kai Wang Xiao Wei Sun 《Chinese Physics Letters》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第12期94-98,共5页
We present dC/dV analysis based on the capacitance-voltage(C–V)measurement of quantum-dot lightemitting diodes(QLEDs),and find that some key device operating parameters(electrical and optical turn-on voltage,peak cap... We present dC/dV analysis based on the capacitance-voltage(C–V)measurement of quantum-dot lightemitting diodes(QLEDs),and find that some key device operating parameters(electrical and optical turn-on voltage,peak capacitance,maximum efficiency)can be directly related to the turning points and maximum/minimum of the dC/dV(versus voltage)curve.By the dC/dV study,the behaviors such as low turn-on voltage,simultaneous electrical and optical turn-on process,and carrier accumulation during the device aging can be well explained.Moreover,we perform the C–V and dC/dV measurement of aged devices,and confirm that our dC/dV analysis is correct for them.Thus,our dC/dV analysis method can be applied universally for QLED devices.It provides an in-depth understanding of carrier dynamics in QLEDs through simple C–V measurement. 展开更多
关键词 MEASUREMENT CAPACITANCE QUANTUM
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